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纳米粉末纳米材料的活化用CRF等离子体清洁机有着独有的效果
- 分类:技术支持
- 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
- 来源:低温等离子设备生产厂家
- 发布时间:2022-09-26
- 访问量:
【概要描述】纳米粉末纳米材料的活化用CRF等离子体清洁机有着独有的效果: 氧化铋是一类重要的功能性粉末材料,主要应用于无机合成、工业陶瓷、化学试剂等领域,主要用于制造瓷介质电容器,也可用于制造压电陶瓷、压敏电阻等工业陶瓷元件。鉴于纳米氧化铋粒度较细,除通常粒度氧化铋粉的性质和用途外,还可用于电子材料、超导材料、特殊功能陶瓷材料、阴极射线管内壁涂料等对粒度有特殊要求的场合。 因此,对纳米Bi:O3制备方法及应用的探索已引起了国内外研究人员的广泛兴趣。制备纳米Bi20,方法大致有固相反应法、沉淀法、喷雾燃烧法、溶胶-凝胶法等,这些方法已取得良好的效果,但仍存在一些局限性:喷雾燃烧法制备的纳米氧化铋粒径不均匀且对设备要求较高;化学法生产的纳米氧化铋易团聚,鉴于生产过程中使用了碱液,不可避免的带入了碱金属或碱土金属离子,影响氧化铋的纯度。 CRF等离子体清洁机的活性大,它是处于电离状态的气态物质,是一类气相的化学反应。等离子体是纯净气体电离产生的,有利于制备高纯度的粉体。鉴于等离子表面处理机等离子体的温度梯度大,所以容易得到高饱和度,也很容易实现快速淬冷,得到高纯的纳米粉末。与液相法相比,一般情况下气相法制备的粉体产品纯度高、表面清洁、结晶组织好、环境污染少,因而在制备铋纳米粉体时,使用气相法更为有利。 用CRF等离子体清洁机等离子体法制备纳米粉末有许多用其它方法所不具备的优点。等离子体是热源,以普通微米纳米氧化铋粉为原料,通过选择合适的功率和进料量,成功制备了17个中间粒径的粉末.5nm,比表面积为47.73m/g正方晶系纳米BizO3粉末;纳米氧化铋纯度高,结晶组织好。
纳米粉末纳米材料的活化用CRF等离子体清洁机有着独有的效果
【概要描述】纳米粉末纳米材料的活化用CRF等离子体清洁机有着独有的效果:
氧化铋是一类重要的功能性粉末材料,主要应用于无机合成、工业陶瓷、化学试剂等领域,主要用于制造瓷介质电容器,也可用于制造压电陶瓷、压敏电阻等工业陶瓷元件。鉴于纳米氧化铋粒度较细,除通常粒度氧化铋粉的性质和用途外,还可用于电子材料、超导材料、特殊功能陶瓷材料、阴极射线管内壁涂料等对粒度有特殊要求的场合。
因此,对纳米Bi:O3制备方法及应用的探索已引起了国内外研究人员的广泛兴趣。制备纳米Bi20,方法大致有固相反应法、沉淀法、喷雾燃烧法、溶胶-凝胶法等,这些方法已取得良好的效果,但仍存在一些局限性:喷雾燃烧法制备的纳米氧化铋粒径不均匀且对设备要求较高;化学法生产的纳米氧化铋易团聚,鉴于生产过程中使用了碱液,不可避免的带入了碱金属或碱土金属离子,影响氧化铋的纯度。
CRF等离子体清洁机的活性大,它是处于电离状态的气态物质,是一类气相的化学反应。等离子体是纯净气体电离产生的,有利于制备高纯度的粉体。鉴于等离子表面处理机等离子体的温度梯度大,所以容易得到高饱和度,也很容易实现快速淬冷,得到高纯的纳米粉末。与液相法相比,一般情况下气相法制备的粉体产品纯度高、表面清洁、结晶组织好、环境污染少,因而在制备铋纳米粉体时,使用气相法更为有利。
用CRF等离子体清洁机等离子体法制备纳米粉末有许多用其它方法所不具备的优点。等离子体是热源,以普通微米纳米氧化铋粉为原料,通过选择合适的功率和进料量,成功制备了17个中间粒径的粉末.5nm,比表面积为47.73m/g正方晶系纳米BizO3粉末;纳米氧化铋纯度高,结晶组织好。
- 分类:技术支持
- 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
- 来源:低温等离子设备生产厂家
- 发布时间:2022-09-26 17:34
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纳米粉末纳米材料的活化用CRF等离子体清洁机有着独有的效果:
氧化铋是一类重要的功能性粉末材料,主要应用于无机合成、工业陶瓷、化学试剂等领域,主要用于制造瓷介质电容器,也可用于制造压电陶瓷、压敏电阻等工业陶瓷元件。鉴于纳米氧化铋粒度较细,除通常粒度氧化铋粉的性质和用途外,还可用于电子材料、超导材料、特殊功能陶瓷材料、阴极射线管内壁涂料等对粒度有特殊要求的场合。
因此,对纳米Bi:O3制备方法及应用的探索已引起了国内外研究人员的广泛兴趣。制备纳米Bi20,方法大致有固相反应法、沉淀法、喷雾燃烧法、溶胶-凝胶法等,这些方法已取得良好的效果,但仍存在一些局限性:喷雾燃烧法制备的纳米氧化铋粒径不均匀且对设备要求较高;化学法生产的纳米氧化铋易团聚,鉴于生产过程中使用了碱液,不可避免的带入了碱金属或碱土金属离子,影响氧化铋的纯度。
CRF等离子体清洁机的活性大,它是处于电离状态的气态物质,是一类气相的化学反应。等离子体是纯净气体电离产生的,有利于制备高纯度的粉体。鉴于等离子表面处理机等离子体的温度梯度大,所以容易得到高饱和度,也很容易实现快速淬冷,得到高纯的纳米粉末。与液相法相比,一般情况下气相法制备的粉体产品纯度高、表面清洁、结晶组织好、环境污染少,因而在制备铋纳米粉体时,使用气相法更为有利。
用CRF等离子体清洁机等离子体法制备纳米粉末有许多用其它方法所不具备的优点。等离子体是热源,以普通微米纳米氧化铋粉为原料,通过选择合适的功率和进料量,成功制备了17个中间粒径的粉末.5nm,比表面积为47.73m/g正方晶系纳米BizO3粉末;纳米氧化铋纯度高,结晶组织好。
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