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氩气和氧气是crf电浆清洗机常用的2种气体

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发布时间:

2022-09-25

氩气和氧气是crf电浆清洗机常用的2种气体:
       crf电浆清洗机在清洗表面氧化物时用纯氢虽然效率高,但这里主要考虑放电的稳定性和安全,在crf电浆清洗机应用时选用氩氢相混比较适宜,另外对于材料易氧化或易还原的材料crf电浆清洗机也可以采用颠倒O2和AR氢气体的清洗顺序来达到清洗彻底的目的。

电浆清洗机       AR:物理跃迁是AR清洗的机理。氩气是有效的物理crf电浆清洗机清洗气体,原因在于它原子的尺寸大。可以使用非常大的能量跃迁样品表面。正的氩离子将被吸引到负向电极板。撞击力足以去除表面上的任何的污渍。然后这些气态污物通过真空泵排出。
        O2:化学工艺中等离子体与样品表面上的化合物反应。例如有机污染物可以有效地用O2等离子去掉这里氧气等离子与污染物反应,生成二氧化碳、一氧化碳和水。一般地说,化学反应清除有机污染物效果更好。O2是crf电浆清洗机常用的活性气体,属于物理+化学的处理方式,电离后产生的离子体能够对表面进行物理跃迁,形成粗糙表面。同时高活性的o离子能够与被断键后的分子链发生化学反应形成活性基团的亲水表面,达到表面活化的目的;被断键后的有机污染物的元素会与高活性的氧离子发生化学反应,形成一氧化氮、二氧化碳、水等分子结构脱离表面,达到表面清洗的目的。O2主要应用于高分子材料表面活化及有机污染物去除,但不适用于易氧化的金属表面。真空等离子状态下的O等离子呈现淡蓝色,部分放电条件下类似洁白。放电环境光线比较亮,肉眼观察时可能会出现看不到真空腔体内有放电的情况。

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