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等离子体发生器工序常用气体O2、AR、N2、CDA、CO2、H2、C4F
- 分类:公司动态
- 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
- 来源:低温等离子设备生产厂家
- 发布时间:2022-09-16
- 访问量:
【概要描述】等离子体发生器工序常用气体O2、AR、N2、CDA、CO2、H2、C4F: 等离子体发生器是对各种气体在高频高压下电离形成的等离子体实现工件的表面处理。为了达到最佳的处理效果,我们将选择不同的工序气体。等离子体清洗机常见的工序气体是什么,怎么选择?今天,我将与大家分享相关的基本知识,等离子体清洗机常见的工序气体有O2、AR、N2、CDA、CO2、H2、C4F。 一、O2 O2.它是一种常见的活性气体,用于等离子体发生器的清洁,属于物理。+在化学处理中,电离形成的离子体可以对表面进行物理轰击,形成粗糙的表面。同时,高活性氧离子可与断键后的分子链发生化学反应,形成活性基团的亲水表面,达到表面活化的目的;断键后的有机污染物元素与高活性氧离子发生化学反应CO.CO2.H2O分子结构与表面分离,达到表面清洁的目的。O2主要用于聚合物表面活化和有机污染物去除,但不太适合易氧化金属表面。 真空等离子体发生器状态下的氧等离子体呈浅蓝色,部分放电条件与白色相似。放电环境光线相对较亮,肉眼观察可能看不到真空腔内的放电。 二、H2 氢类似于O2,属于高活性气体,能够激活和清洁表面。氢与氧的区别主要是反应后形成的活性基团不同,氢具有还原性,可用于去除金属表面的微氧化层,不易损坏表面敏感的有机层。所以在微电子中半导体和线路板制造业应用广泛。由于氢气是一种危险气体,当它不被电离时,它会与O2结合,因此通常禁止两种气体混合在等离子体清洗机中。氢等离子体在真空等离子体状态下呈红色,类似于氩等离子体,在一致的放电环境下比氩等离子体颜色略深。 三、N2 氮气电离形成的等离子体可以与一些分子结构发生关键反应,因此它也是一种活性气体,但与氧气和氢气相比,其粒子相对较重,一般在等离子体清洗机的应用中定义为活性气体氧.氢与惰性气氩之间的一种气体。在清洗和激活的前提下,能够达到一定的轰击.蚀刻效果可防止部分金属表面氧化。氮与其他气体结合形成的等离子体通常用于某些特殊材料的处理。 N2等离子体发生器状态下氮等离子离子,它也是红色的。在一致的放电条件下,氮等离子体比氩等离子体和氢等离子体更亮。
等离子体发生器工序常用气体O2、AR、N2、CDA、CO2、H2、C4F
【概要描述】等离子体发生器工序常用气体O2、AR、N2、CDA、CO2、H2、C4F:
等离子体发生器是对各种气体在高频高压下电离形成的等离子体实现工件的表面处理。为了达到最佳的处理效果,我们将选择不同的工序气体。等离子体清洗机常见的工序气体是什么,怎么选择?今天,我将与大家分享相关的基本知识,等离子体清洗机常见的工序气体有O2、AR、N2、CDA、CO2、H2、C4F。
一、O2
O2.它是一种常见的活性气体,用于等离子体发生器的清洁,属于物理。+在化学处理中,电离形成的离子体可以对表面进行物理轰击,形成粗糙的表面。同时,高活性氧离子可与断键后的分子链发生化学反应,形成活性基团的亲水表面,达到表面活化的目的;断键后的有机污染物元素与高活性氧离子发生化学反应CO.CO2.H2O分子结构与表面分离,达到表面清洁的目的。O2主要用于聚合物表面活化和有机污染物去除,但不太适合易氧化金属表面。
真空等离子体发生器状态下的氧等离子体呈浅蓝色,部分放电条件与白色相似。放电环境光线相对较亮,肉眼观察可能看不到真空腔内的放电。
二、H2
氢类似于O2,属于高活性气体,能够激活和清洁表面。氢与氧的区别主要是反应后形成的活性基团不同,氢具有还原性,可用于去除金属表面的微氧化层,不易损坏表面敏感的有机层。所以在微电子中半导体和线路板制造业应用广泛。由于氢气是一种危险气体,当它不被电离时,它会与O2结合,因此通常禁止两种气体混合在等离子体清洗机中。氢等离子体在真空等离子体状态下呈红色,类似于氩等离子体,在一致的放电环境下比氩等离子体颜色略深。
三、N2
氮气电离形成的等离子体可以与一些分子结构发生关键反应,因此它也是一种活性气体,但与氧气和氢气相比,其粒子相对较重,一般在等离子体清洗机的应用中定义为活性气体氧.氢与惰性气氩之间的一种气体。在清洗和激活的前提下,能够达到一定的轰击.蚀刻效果可防止部分金属表面氧化。氮与其他气体结合形成的等离子体通常用于某些特殊材料的处理。
N2等离子体发生器状态下氮等离子离子,它也是红色的。在一致的放电条件下,氮等离子体比氩等离子体和氢等离子体更亮。
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- 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
- 来源:低温等离子设备生产厂家
- 发布时间:2022-09-16 17:28
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等离子体发生器工序常用气体O2、AR、N2、CDA、CO2、H2、C4F:
等离子体发生器是对各种气体在高频高压下电离形成的等离子体实现工件的表面处理。为了达到最佳的处理效果,我们将选择不同的工序气体。等离子体清洗机常见的工序气体是什么,怎么选择?今天,我将与大家分享相关的基本知识,等离子体清洗机常见的工序气体有O2、AR、N2、CDA、CO2、H2、C4F。
一、O2
O2.它是一种常见的活性气体,用于等离子体发生器的清洁,属于物理。+在化学处理中,电离形成的离子体可以对表面进行物理轰击,形成粗糙的表面。同时,高活性氧离子可与断键后的分子链发生化学反应,形成活性基团的亲水表面,达到表面活化的目的;断键后的有机污染物元素与高活性氧离子发生化学反应CO.CO2.H2O分子结构与表面分离,达到表面清洁的目的。O2主要用于聚合物表面活化和有机污染物去除,但不太适合易氧化金属表面。
真空等离子体发生器状态下的氧等离子体呈浅蓝色,部分放电条件与白色相似。放电环境光线相对较亮,肉眼观察可能看不到真空腔内的放电。
二、H2
氢类似于O2,属于高活性气体,能够激活和清洁表面。氢与氧的区别主要是反应后形成的活性基团不同,氢具有还原性,可用于去除金属表面的微氧化层,不易损坏表面敏感的有机层。所以在微电子中半导体和线路板制造业应用广泛。由于氢气是一种危险气体,当它不被电离时,它会与O2结合,因此通常禁止两种气体混合在等离子体清洗机中。氢等离子体在真空等离子体状态下呈红色,类似于氩等离子体,在一致的放电环境下比氩等离子体颜色略深。
三、N2
氮气电离形成的等离子体可以与一些分子结构发生关键反应,因此它也是一种活性气体,但与氧气和氢气相比,其粒子相对较重,一般在等离子体清洗机的应用中定义为活性气体氧.氢与惰性气氩之间的一种气体。在清洗和激活的前提下,能够达到一定的轰击.蚀刻效果可防止部分金属表面氧化。氮与其他气体结合形成的等离子体通常用于某些特殊材料的处理。
N2等离子体发生器状态下氮等离子离子,它也是红色的。在一致的放电条件下,氮等离子体比氩等离子体和氢等离子体更亮。
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