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CRF等离子体发生器按上电源和注入气体后产生的高能量粒子

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2022-08-16
  • 访问量:

【概要描述】CRF等离子体发生器按上电源和注入气体后产生的高能量粒子:        显微镜下可观察到等离子体发生器中存在的自由基要高于离子的数量,具有电中性,寿命长,能量高。在使用环节中,表层污染物质分子极易与高能自由基融合,形成新的自由基。这种新的自由基也处于高能状态,这是非常不稳定的。它们非常容易分解并转化为较小的分子,另外生成新的自由基。这一过程将继续,直到它们被分解成稳定、易挥发的简单小分子,最终污染物质与金属表层分离。在这个过程中,自由基在激活过程中的能量传递中起着主要作用。在自由基与表层脏污分子融合过程当中,会散发出很多的组合,释放出来的能量作为促进表层脏污分子新的激活反应的动力,有助于在等离子的激活下更彻底地去除污染物质。等离子与此同时发射光,能量高,穿透力强。在光的作用下,分子键断裂分解,有助于促进附着在金属表层的污染物质分子的更进一步活化反应。        从以上分析可以看出,等离子体发生器主要依靠等离子体中的电子和离子来激活状态原子和自由基等活性离子的激活,逐渐分解金属表面有机污染物的大分子,最终产生稳定挥发的简单小分子,最终完全分离和去除附着在表面的污垢。同时,等离子体发生器清洗后,可以大大提高金属表面的附着力和表面的润湿性能,这也有助于进一步处理金属材料。随之高科技产业的快速发展,等离子体发生器清洗的使用更加普遍。目前已广泛应用于电子工业、半导体工业、光电子工业等高科技领域。

CRF等离子体发生器按上电源和注入气体后产生的高能量粒子

【概要描述】CRF等离子体发生器按上电源和注入气体后产生的高能量粒子:
       显微镜下可观察到等离子体发生器中存在的自由基要高于离子的数量,具有电中性,寿命长,能量高。在使用环节中,表层污染物质分子极易与高能自由基融合,形成新的自由基。这种新的自由基也处于高能状态,这是非常不稳定的。它们非常容易分解并转化为较小的分子,另外生成新的自由基。这一过程将继续,直到它们被分解成稳定、易挥发的简单小分子,最终污染物质与金属表层分离。在这个过程中,自由基在激活过程中的能量传递中起着主要作用。在自由基与表层脏污分子融合过程当中,会散发出很多的组合,释放出来的能量作为促进表层脏污分子新的激活反应的动力,有助于在等离子的激活下更彻底地去除污染物质。等离子与此同时发射光,能量高,穿透力强。在光的作用下,分子键断裂分解,有助于促进附着在金属表层的污染物质分子的更进一步活化反应。
       从以上分析可以看出,等离子体发生器主要依靠等离子体中的电子和离子来激活状态原子和自由基等活性离子的激活,逐渐分解金属表面有机污染物的大分子,最终产生稳定挥发的简单小分子,最终完全分离和去除附着在表面的污垢。同时,等离子体发生器清洗后,可以大大提高金属表面的附着力和表面的润湿性能,这也有助于进一步处理金属材料。随之高科技产业的快速发展,等离子体发生器清洗的使用更加普遍。目前已广泛应用于电子工业、半导体工业、光电子工业等高科技领域。

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2022-08-16 23:55
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CRF等离子体发生器按上电源和注入气体后产生的高能量粒子:
       显微镜下可观察到等离子体发生器中存在的自由基要高于离子的数量,具有电中性,寿命长,能量高。在使用环节中,表层污染物质分子极易与高能自由基融合,形成新的自由基。这种新的自由基也处于高能状态,这是非常不稳定的。它们非常容易分解并转化为较小的分子,另外生成新的自由基。这一过程将继续,直到它们被分解成稳定、易挥发的简单小分子,最终污染物质与金属表层分离。在这个过程中,自由基在激活过程中的能量传递中起着主要作用。在自由基与表层脏污分子融合过程当中,会散发出很多的组合,释放出来的能量作为促进表层脏污分子新的激活反应的动力,有助于在等离子的激活下更彻底地去除污染物质。等离子与此同时发射光,能量高,穿透力强。在光的作用下,分子键断裂分解,有助于促进附着在金属表层的污染物质分子的更进一步活化反应。

等离子体发生器       从以上分析可以看出,等离子体发生器主要依靠等离子体中的电子和离子来激活状态原子和自由基等活性离子的激活,逐渐分解金属表面有机污染物的大分子,最终产生稳定挥发的简单小分子,最终完全分离和去除附着在表面的污垢。同时,等离子体发生器清洗后,可以大大提高金属表面的附着力和表面的润湿性能,这也有助于进一步处理金属材料。随之高科技产业的快速发展,等离子体发生器清洗的使用更加普遍。目前已广泛应用于电子工业、半导体工业、光电子工业等高科技领域。

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