电子3C类产业用常压等离子发生器的现状如何呢?

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• 作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
• 来源：等离子发生器生产厂家
• 发布时间：2022-07-12
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【概要描述】电子3C类产业用常压等离子发生器的现状如何呢? 　　国外的plasma设备也叫做常压等离子发生器，是近10年来比较高科技的工业设备，经其可以通入不用的气体电离产生的活性基团对样品表面进行处理处理，达到清洁的目的，除了具有清洁的作用外，还能够进行活化和刻蚀等，广泛应用于各个领域，下面给大家举个例子：在电子3C类产业清洗中的干法清洗,过程中需要真空泵制造一定的真空条件满足清洗所需。下面来看看常压等离子发生器的作业流程及注意事项。 　　常压等离子发生器清洗所需要的plasma主要通过特定的气体分子在真空、放电等特殊场合下产生,像低压气体辉光等离子体。简单地说,常压等离子发生器清洗需要在真空状态下进行(一般需保持在100Pa左右),所以需要真空泵进行抽真空作业。        其主要过程包括:先将需要清洗的工件送入真空室固定,启动真空泵等装置开始抽真空排气到10Pa左右的真空度;接着向真空室引入等离子清洗用的气体(根据清洗材质的不同,选用的气体也不同,如O2、H2、Ar、N2等),并将压力保持在100Pa左右;在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压,使气体被击穿,并通过辉光放电使其发生离子化,产生等离子体;在真空室内产生的等离子体完全覆盖被清洗工件后,开始清洗作业,清洗过程会持续几十秒到几分钟。