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改性纳米粒子在等离子蚀刻机增加了复合增加复合膜
- 分类:技术支持
- 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
- 来源:低温等离子设备生产厂家
- 发布时间:2022-05-24
- 访问量:
【概要描述】改性纳米粒子在等离子蚀刻机增加了复合增加复合膜: 聚酰亚胺膜当作匝间绝缘和地面绝缘的主要绝缘层材料,有着良好的介电性能,广泛运用于变频调速牵引电机中。研究表明,等离子蚀刻机放电产生的高能颗粒和热效应会破坏有机高聚物构造,促进聚酰亚胺降解,这也是变频电机绝缘失效的主要原因。 在纳米电介质领域,将纳米颗粒当作填料添加到高聚物中会给绝缘层材料带来特殊的电力性能,如高相对介电常数、低损耗、耐电晕等,一般认为界面是影响材料绝缘性能的关键。然而,由于纳米颗粒的大比表能,它们会在绝缘层材料中聚集,这大大降低了纳米效应。纳米颗粒表面改性可提高纳米颗粒与基体的相容性,减少纳米颗粒的重聚,改善纳米颗粒与聚合基体之间的界面区域。所以,研究纳米颗粒的表面改性对聚酰亚胺纳米复合膜的耐电晕性能有着重要意义。 目前,化学方法通常用于纳米粒子表面改性。这种方法在一定程度上提高了纳米电介质的电力性能,但国内外学者仍在探索进一步提高绝缘层材料性能的方法。这几年来,等离子蚀刻机广泛运用于高聚物材料的表面改性。等离子处理纳米颗粒的表面性能仅改变,不影响其自身性能。处理过程简单,不需要化学溶剂,处理效果好。 在等离子蚀刻机的作用下,大量的羟基(-OH)活性基团会在纳米颗粒表面产生,与硅烷偶联剂水解后产生的硅键反应形成氢键。在等离子处理纳米颗粒表面后,有一个强烈的吸收峰值,表明硅烷偶联剂和纳米颗粒之间的相互作用良好,大量的硅烷偶联剂覆盖在纳米颗粒表面。等离子蚀刻机处理的纳米颗粒和未处理的纳米颗粒在吸收峰值基本相同,表明等离子蚀刻机的处理并没有改变纳米颗粒本身的化学键。
改性纳米粒子在等离子蚀刻机增加了复合增加复合膜
【概要描述】改性纳米粒子在等离子蚀刻机增加了复合增加复合膜:
聚酰亚胺膜当作匝间绝缘和地面绝缘的主要绝缘层材料,有着良好的介电性能,广泛运用于变频调速牵引电机中。研究表明,等离子蚀刻机放电产生的高能颗粒和热效应会破坏有机高聚物构造,促进聚酰亚胺降解,这也是变频电机绝缘失效的主要原因。
在纳米电介质领域,将纳米颗粒当作填料添加到高聚物中会给绝缘层材料带来特殊的电力性能,如高相对介电常数、低损耗、耐电晕等,一般认为界面是影响材料绝缘性能的关键。然而,由于纳米颗粒的大比表能,它们会在绝缘层材料中聚集,这大大降低了纳米效应。纳米颗粒表面改性可提高纳米颗粒与基体的相容性,减少纳米颗粒的重聚,改善纳米颗粒与聚合基体之间的界面区域。所以,研究纳米颗粒的表面改性对聚酰亚胺纳米复合膜的耐电晕性能有着重要意义。 目前,化学方法通常用于纳米粒子表面改性。这种方法在一定程度上提高了纳米电介质的电力性能,但国内外学者仍在探索进一步提高绝缘层材料性能的方法。这几年来,等离子蚀刻机广泛运用于高聚物材料的表面改性。等离子处理纳米颗粒的表面性能仅改变,不影响其自身性能。处理过程简单,不需要化学溶剂,处理效果好。
在等离子蚀刻机的作用下,大量的羟基(-OH)活性基团会在纳米颗粒表面产生,与硅烷偶联剂水解后产生的硅键反应形成氢键。在等离子处理纳米颗粒表面后,有一个强烈的吸收峰值,表明硅烷偶联剂和纳米颗粒之间的相互作用良好,大量的硅烷偶联剂覆盖在纳米颗粒表面。等离子蚀刻机处理的纳米颗粒和未处理的纳米颗粒在吸收峰值基本相同,表明等离子蚀刻机的处理并没有改变纳米颗粒本身的化学键。
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- 发布时间:2022-05-24 22:49
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改性纳米粒子在等离子蚀刻机增加了复合增加复合膜:
聚酰亚胺膜当作匝间绝缘和地面绝缘的主要绝缘层材料,有着良好的介电性能,广泛运用于变频调速牵引电机中。研究表明,等离子蚀刻机放电产生的高能颗粒和热效应会破坏有机高聚物构造,促进聚酰亚胺降解,这也是变频电机绝缘失效的主要原因。
在纳米电介质领域,将纳米颗粒当作填料添加到高聚物中会给绝缘层材料带来特殊的电力性能,如高相对介电常数、低损耗、耐电晕等,一般认为界面是影响材料绝缘性能的关键。然而,由于纳米颗粒的大比表能,它们会在绝缘层材料中聚集,这大大降低了纳米效应。纳米颗粒表面改性可提高纳米颗粒与基体的相容性,减少纳米颗粒的重聚,改善纳米颗粒与聚合基体之间的界面区域。所以,研究纳米颗粒的表面改性对聚酰亚胺纳米复合膜的耐电晕性能有着重要意义。 目前,化学方法通常用于纳米粒子表面改性。这种方法在一定程度上提高了纳米电介质的电力性能,但国内外学者仍在探索进一步提高绝缘层材料性能的方法。这几年来,等离子蚀刻机广泛运用于高聚物材料的表面改性。等离子处理纳米颗粒的表面性能仅改变,不影响其自身性能。处理过程简单,不需要化学溶剂,处理效果好。
在等离子蚀刻机的作用下,大量的羟基(-OH)活性基团会在纳米颗粒表面产生,与硅烷偶联剂水解后产生的硅键反应形成氢键。在等离子处理纳米颗粒表面后,有一个强烈的吸收峰值,表明硅烷偶联剂和纳米颗粒之间的相互作用良好,大量的硅烷偶联剂覆盖在纳米颗粒表面。等离子蚀刻机处理的纳米颗粒和未处理的纳米颗粒在吸收峰值基本相同,表明等离子蚀刻机的处理并没有改变纳米颗粒本身的化学键。
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