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超光滑硅片等离子处理器表面处理研究

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发布时间：

2022-04-25

超光滑硅片等离子处理器表面处理研究：
等离子处理器可以溅射去除加工变质层，降低表面粗糙度，提高硅片表面清洁度和表面能.调优后的参量证实，经等离子处理器清洗的硅片比未经等离子体处理的硅片镀膜后损耗平均降低34.2ppm，并且显示出良好的一致性。
近年来随着半导体技术和光学技术的飞速发展，超光滑表面的应用日益广泛，对超光滑表面质量的要求也越来越高。在激光陀螺制造中，反射镜片硅片的加工质量直接反应镀膜后反射镜片的光学性能和光学元件间的光胶质量，进而反应陀螺的准确度稳定性和可靠性。
目前，超光滑表面主要是通过抛光获得，由于加工特性及环境因素，抛光后的超光滑表面吸附有大量颗粒有机质等污染物，并且通过沥青抛光工艺获得的光学表面是一个“伪表面”，即存在加工变质层，它是由流变层损伤层及水解物层等构成的。
“伪表面”内部有大量缺陷，活性高，在镀膜过程中极易成为成核中心，严重影响了膜层的物理结构，从而对反射镜片光学性能产生很大反应。
为了描述真实表面等离子处理器，把表面分为：外表面层(污染物、吸附层)和内表面层(加工变质层)。传统表面处理主要采取刷洗和超声波清洗等，由于技术本身的原因，只能去除表面吸附的污物即外表面层，对内表面层(抛光变质层)没有作用。