plasam稀有金属纳米颗粒与半导体材料复合的光催化材质

• 分类：业界动态
• 作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
• 来源：低温等离子设备生产厂家
• 发布时间：2021-12-31
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【概要描述】plasam稀有金属纳米颗粒与半导体材料复合的光催化材质：         纳米材料半导体器件碳化硅相氮化碳(g-C3N4)基于其鲜明的结构与性能，已成为太阳能转化与环境治理领域中的研究热点。但是单单层C3N4还存在着比表面积小、电子空穴复合率高等问题，新的plasam材质被提出，可以利用金属表面plasam反应对g-C3N4进行表面突显，因而改善光催化性能。         碳化硅相氮化碳(g-C3N4)仅由C.N元素组成，配制原料便宜，配制方法简单，具有合适的能带位置、良好的光学性质、优异的热稳定性以及化学稳定性。然而，当光照射到氮化碳表面产生电子和空穴时，基于复合率较高，光生电子在到达半导体器件-电解质界面之前复合，这将大大影响光催化的效率。        科学家们尝试利用金属元素或非金属元素掺杂来达到优化g-C3N4性能的目的。在g-C3N4骨架中引人新元素，因而改变材质的电子结构，达到调节g-C3N4的光学和其它物理特性的效用。        plasam光催化材质，即基于具有稀有金属纳米颗粒的表面plasam共振效应的金属纳米颗粒与半导体材料复合的光催化材质的，当稀有金属纳米颗粒(主要是Au和Ag，尺寸为几十至几百纳米)分散到半导体器件光催化剂中扩大可见光吸收范围，同时增强光吸收能力。