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plasma等离子清洗机分类

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2020-09-26
  • 访问量:

【概要描述】根据等离子体产生方式的不同,对plasma等离子体清洗机可分类成哪几种,下面介绍下:电晕等离子体清洗、辉光等离子体清洗、射频等离子体清洗、介质阻挡等离子体清洗、微波等离子体清洗和大气常压等离子体弧清洗这几类。其中,plasma低压等离子体清洗一般是电晕等离子体清洗、辉光等离子体清洗和射频等离子体清洗,常压等离子体清洗一般是等离子体清洗、微波等离子体清洗和大气常压等离子体弧清洗。         电晕plasma等离子体清洗机:         使用曲率半径小的电极,并向其施加高电压。由于电极曲率半径小,电极区域附近的电场特别强,容易形成电子发射和气体电离,从而形成电晕。这种方法难以获得稳定的电晕放电,容易产生局部电弧放电和放电能量不均匀,用于烟气脱硫脱硝、汽车尾气净化等领域。         辉光plasma等离子体清洗机:         在低压条件下,可以在两个平板电极上施加一定的电压,形成辉光放电,这是一种稳定的自持放电,其放电电流在毫安级。它是由正离子轰击阴极产生的二次电子发射维持的。电源可以是DC或交流电。虽然可以产生典型的大体积强激发低温等离子体,但其工作压力太低,难以在工业应用中连续生产,应用成本高。目前主要用于半导体行业的清洗。         射频plasma等离子体清洗机:         射频放电通常在低压下操作,也可以在常压甚至加压下操作,其特点是放电气体不与电极接触。射频放电是利用高频电场将反应器中的气体放电,通过电感或电容突变产生等离子体。由于射频单电极放电的高能量和范围大,它已被应用于材料的表面处理和有毒废物的去除和裂解中。         DBD plasma等离子体清洗机:         在两个放电电极之间充入一定的工作气体,用绝缘介质覆盖其中一个或两个电极,或者将介质可以直接悬浮在放电空间中,或者填充颗粒状介质中,当在两个电极之间施加足够高的交流电压时,电极之间的气体将被击穿并发生放电,即发生介质阻挡放电。介质阻挡放电可以在高压和很宽频率范围内工作。在实际应用中,平板式电极结构则广泛应用于工业中高分子和金属薄膜及板材的改性、接枝、表面张力改善及亲水改性中。         微波plasma等离子体清洗机:         微波放电是无电极放电,避免了放电材料对反应的影响。它可以在较宽的频率范围和气体压力范围内工作,并且可以产生大体积的均匀非平衡等离子体。微波等离子体主要用于材料表面的加工、改造以及工具、模具和工程金属的硬化处理。         APPA清洗:         大气常压等离子体弧清洗是利用高能量密度的等离子束直接作用于工件表面。在高能粒子的活化作用下,待清洗层会产生一系列的物理化学反应,如热冲击、活化分解、热膨胀等,达到将污染物从工件上分离的目的。不同种类的工作气体可以用来处理不同的表面污染物。例如,混合的plasma等离子体气体可以清洗基体表面的有机污垢,也可以清洗表面的氧化物。

plasma等离子清洗机分类

【概要描述】根据等离子体产生方式的不同,对plasma等离子体清洗机可分类成哪几种,下面介绍下:电晕等离子体清洗、辉光等离子体清洗、射频等离子体清洗、介质阻挡等离子体清洗、微波等离子体清洗和大气常压等离子体弧清洗这几类。其中,plasma低压等离子体清洗一般是电晕等离子体清洗、辉光等离子体清洗和射频等离子体清洗,常压等离子体清洗一般是等离子体清洗、微波等离子体清洗和大气常压等离子体弧清洗。

        电晕plasma等离子体清洗机:
        使用曲率半径小的电极,并向其施加高电压。由于电极曲率半径小,电极区域附近的电场特别强,容易形成电子发射和气体电离,从而形成电晕。这种方法难以获得稳定的电晕放电,容易产生局部电弧放电和放电能量不均匀,用于烟气脱硫脱硝、汽车尾气净化等领域。

        辉光plasma等离子体清洗机:
        在低压条件下,可以在两个平板电极上施加一定的电压,形成辉光放电,这是一种稳定的自持放电,其放电电流在毫安级。它是由正离子轰击阴极产生的二次电子发射维持的。电源可以是DC或交流电。虽然可以产生典型的大体积强激发低温等离子体,但其工作压力太低,难以在工业应用中连续生产,应用成本高。目前主要用于半导体行业的清洗。

        射频plasma等离子体清洗机:
        射频放电通常在低压下操作,也可以在常压甚至加压下操作,其特点是放电气体不与电极接触。射频放电是利用高频电场将反应器中的气体放电,通过电感或电容突变产生等离子体。由于射频单电极放电的高能量和范围大,它已被应用于材料的表面处理和有毒废物的去除和裂解中。

        DBD plasma等离子体清洗机:
        在两个放电电极之间充入一定的工作气体,用绝缘介质覆盖其中一个或两个电极,或者将介质可以直接悬浮在放电空间中,或者填充颗粒状介质中,当在两个电极之间施加足够高的交流电压时,电极之间的气体将被击穿并发生放电,即发生介质阻挡放电。介质阻挡放电可以在高压和很宽频率范围内工作。在实际应用中,平板式电极结构则广泛应用于工业中高分子和金属薄膜及板材的改性、接枝、表面张力改善及亲水改性中。

        微波plasma等离子体清洗机:
        微波放电是无电极放电,避免了放电材料对反应的影响。它可以在较宽的频率范围和气体压力范围内工作,并且可以产生大体积的均匀非平衡等离子体。微波等离子体主要用于材料表面的加工、改造以及工具、模具和工程金属的硬化处理。

        APPA清洗:
        大气常压等离子体弧清洗是利用高能量密度的等离子束直接作用于工件表面。在高能粒子的活化作用下,待清洗层会产生一系列的物理化学反应,如热冲击、活化分解、热膨胀等,达到将污染物从工件上分离的目的。不同种类的工作气体可以用来处理不同的表面污染物。例如,混合的plasma等离子体气体可以清洗基体表面的有机污垢,也可以清洗表面的氧化物。


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plasma等离子清洗机分类:

        根据等离子体产生方式的不同,对plasma等离子体清洗机可分类成哪几种,下面介绍下:电晕等离子体清洗、辉光等离子体清洗、射频等离子体清洗、介质阻挡等离子体清洗、微波等离子体清洗和大气常压等离子体弧清洗这几类。其中,plasma低压等离子体清洗一般是电晕等离子体清洗、辉光等离子体清洗和射频等离子体清洗,常压等离子体清洗一般是等离子体清洗、微波等离子体清洗和大气常压等离子体弧清洗。

        电晕plasma等离子体清洗机:
        使用曲率半径小的电极,并向其施加高电压。由于电极曲率半径小,电极区域附近的电场特别强,容易形成电子发射和气体电离,从而形成电晕。这种方法难以获得稳定的电晕放电,容易产生局部电弧放电和放电能量不均匀,用于烟气脱硫脱硝、汽车尾气净化等领域。

        辉光plasma等离子体清洗机:
        在低压条件下,可以在两个平板电极上施加一定的电压,形成辉光放电,这是一种稳定的自持放电,其放电电流在毫安级。它是由正离子轰击阴极产生的二次电子发射维持的。电源可以是DC或交流电。虽然可以产生典型的大体积强激发低温等离子体,但其工作压力太低,难以在工业应用中连续生产,应用成本高。目前主要用于半导体行业的清洗。

        射频plasma等离子体清洗机:
        射频放电通常在低压下操作,也可以在常压甚至加压下操作,其特点是放电气体不与电极接触。射频放电是利用高频电场将反应器中的气体放电,通过电感或电容突变产生等离子体。由于射频单电极放电的高能量和范围大,它已被应用于材料的表面处理和有毒废物的去除和裂解中。

        DBD plasma等离子体清洗机:
        在两个放电电极之间充入一定的工作气体,用绝缘介质覆盖其中一个或两个电极,或者将介质可以直接悬浮在放电空间中,或者填充颗粒状介质中,当在两个电极之间施加足够高的交流电压时,电极之间的气体将被击穿并发生放电,即发生介质阻挡放电。介质阻挡放电可以在高压和很宽频率范围内工作。在实际应用中,平板式电极结构则广泛应用于工业中高分子和金属薄膜及板材的改性、接枝、表面张力改善及亲水改性中。

        微波plasma等离子体清洗机:
        微波放电是无电极放电,避免了放电材料对反应的影响。它可以在较宽的频率范围和气体压力范围内工作,并且可以产生大体积的均匀非平衡等离子体。微波等离子体主要用于材料表面的加工、改造以及工具、模具和工程金属的硬化处理。

        APPA清洗:
        大气常压等离子体弧清洗是利用高能量密度的等离子束直接作用于工件表面。在高能粒子的活化作用下,待清洗层会产生一系列的物理化学反应,如热冲击、活化分解、热膨胀等,达到将污染物从工件上分离的目的。不同种类的工作气体可以用来处理不同的表面污染物。例如,混合的plasma等离子体气体可以清洗基体表面的有机污垢,也可以清洗表面的氧化物。

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