深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

诚峰CRF真空等离子设备处理技术引起材料表面分子结构变化

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-12-23
  • 访问量:

【概要描述】诚峰CRF真空等离子设备处理技术引起材料表面分子结构变化:        诚峰CRF真空等离子设备表层处理技术就是指使用等离子体中的高能粒子对材料表面做好跃迁,使其表面成分分解,提升外表粗糙度,在等离子体中加入其它活性粒子,如氧等离子体,就可以通过与表面成分作用而使表面活化的方法。等离子体处理技术可以用以化学纤维,塑料,橡胶和复合材料的表层处理。        真空等离子设备表层处理技术提供了1种对绿色环保且低成本的材料做好微观改性的方法,且改性环节不用机械加工制造和化学试剂。通过低电压等离子表层处理技术,既能对材料表面做好清洁、活化、蚀刻,又能对塑料、金属或陶瓷材料表面做好修饰,提高其结合能力,或赋予全新的表面性能。它潜在的医疗价值包括改善材料表面的亲水性或疏水性,减少表面摩擦,以及改善材料表面的阻隔性。        诚峰CRF真空等离子设备表层处理技术是1种仅改变聚合物表面几个原子层就能提高其表面吸附能力的技术。改性后的聚烯烃、硅胶和含氟聚合物材料具有很好的粘结性能。根据这一相似原理,使用等离子表层处理技术,在获得需要移植和聚合的材料表面的同时,不会损失材料本身的物理性质。等离子体表层处理对材料的物理性质没有影响,经过等离子体处理的材料的位置与未经等离子体技术处理的位置相比,一般是视觉上和物理上难以分辨的。        CRF真空等离子设备表层处理通常是1种引起表面分子结构变化或表面原子排列的等离子体作用。等离子体处理可在低温环境中产生高活性基团,即使在氧或氮等不活泼的环境中也是如此。这一环节中,等离子体也会产生高能紫外光,这些紫外光与快速产生的离子和电子一起提供中断聚合物键合和产生表面化学反应所需的能量。在这种化学环节中,只有材料表面的几个原子层参与,聚合物的本体属性才有可能保持变形。选择适当的作用气体和工艺参数,可促进某些特定的作用,从而形成特殊的聚合物附着物和结构。常选用反应物使等离子体与基质发生作用,生成易挥发的附着物。经处理的材料表面的附属物,由于脱附而被真空泵抽走,无需进一步清洗或中和,即可实现对表面的刻蚀。

诚峰CRF真空等离子设备处理技术引起材料表面分子结构变化

【概要描述】诚峰CRF真空等离子设备处理技术引起材料表面分子结构变化:
       诚峰CRF真空等离子设备表层处理技术就是指使用等离子体中的高能粒子对材料表面做好跃迁,使其表面成分分解,提升外表粗糙度,在等离子体中加入其它活性粒子,如氧等离子体,就可以通过与表面成分作用而使表面活化的方法。等离子体处理技术可以用以化学纤维,塑料,橡胶和复合材料的表层处理。
       真空等离子设备表层处理技术提供了1种对绿色环保且低成本的材料做好微观改性的方法,且改性环节不用机械加工制造和化学试剂。通过低电压等离子表层处理技术,既能对材料表面做好清洁、活化、蚀刻,又能对塑料、金属或陶瓷材料表面做好修饰,提高其结合能力,或赋予全新的表面性能。它潜在的医疗价值包括改善材料表面的亲水性或疏水性,减少表面摩擦,以及改善材料表面的阻隔性。
       诚峰CRF真空等离子设备表层处理技术是1种仅改变聚合物表面几个原子层就能提高其表面吸附能力的技术。改性后的聚烯烃、硅胶和含氟聚合物材料具有很好的粘结性能。根据这一相似原理,使用等离子表层处理技术,在获得需要移植和聚合的材料表面的同时,不会损失材料本身的物理性质。等离子体表层处理对材料的物理性质没有影响,经过等离子体处理的材料的位置与未经等离子体技术处理的位置相比,一般是视觉上和物理上难以分辨的。
       CRF真空等离子设备表层处理通常是1种引起表面分子结构变化或表面原子排列的等离子体作用。等离子体处理可在低温环境中产生高活性基团,即使在氧或氮等不活泼的环境中也是如此。这一环节中,等离子体也会产生高能紫外光,这些紫外光与快速产生的离子和电子一起提供中断聚合物键合和产生表面化学反应所需的能量。在这种化学环节中,只有材料表面的几个原子层参与,聚合物的本体属性才有可能保持变形。选择适当的作用气体和工艺参数,可促进某些特定的作用,从而形成特殊的聚合物附着物和结构。常选用反应物使等离子体与基质发生作用,生成易挥发的附着物。经处理的材料表面的附属物,由于脱附而被真空泵抽走,无需进一步清洗或中和,即可实现对表面的刻蚀。

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-12-23 11:31
  • 访问量:
详情

诚峰CRF真空等离子设备处理技术引起材料表面分子结构变化:
       诚峰CRF
真空等离子设备表层处理技术就是指使用等离子体中的高能粒子对材料表面做好跃迁,使其表面成分分解,提升外表粗糙度,在等离子体中加入其它活性粒子,如氧等离子体,就可以通过与表面成分作用而使表面活化的方法。等离子体处理技术可以用以化学纤维,塑料,橡胶和复合材料的表层处理。
真空等离子设备       真空等离子设备表层处理技术提供了1种对绿色环保且低成本的材料做好微观改性的方法,且改性环节不用机械加工制造和化学试剂。通过低电压等离子表层处理技术,既能对材料表面做好清洁、活化、蚀刻,又能对塑料、金属或陶瓷材料表面做好修饰,提高其结合能力,或赋予全新的表面性能。它潜在的医疗价值包括改善材料表面的亲水性或疏水性,减少表面摩擦,以及改善材料表面的阻隔性。
       诚峰CRF真空等离子设备表层处理技术是1种仅改变聚合物表面几个原子层就能提高其表面吸附能力的技术。改性后的聚烯烃、硅胶和含氟聚合物材料具有很好的粘结性能。根据这一相似原理,使用等离子表层处理技术,在获得需要移植和聚合的材料表面的同时,不会损失材料本身的物理性质。等离子体表层处理对材料的物理性质没有影响,经过等离子体处理的材料的位置与未经等离子体技术处理的位置相比,一般是视觉上和物理上难以分辨的。
       CRF
真空等离子设备表层处理通常是1种引起表面分子结构变化或表面原子排列的等离子体作用。等离子体处理可在低温环境中产生高活性基团,即使在氧或氮等不活泼的环境中也是如此。这一环节中,等离子体也会产生高能紫外光,这些紫外光与快速产生的离子和电子一起提供中断聚合物键合和产生表面化学反应所需的能量。在这种化学环节中,只有材料表面的几个原子层参与,聚合物的本体属性才有可能保持变形。选择适当的作用气体和工艺参数,可促进某些特定的作用,从而形成特殊的聚合物附着物和结构。常选用反应物使等离子体与基质发生作用,生成易挥发的附着物。经处理的材料表面的附属物,由于脱附而被真空泵抽走,无需进一步清洗或中和,即可实现对表面的刻蚀。

关键词:

扫二维码用手机看

相关资讯

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区