传统湿法和等离子清洗机干法两种蚀刻方式的优点和缺点对比

• 分类：业界动态
• 作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
• 来源：低温等离子设备生产厂家
• 发布时间：2021-12-18
• 访问量：

【概要描述】传统湿法和等离子清洗机干法两种蚀刻方式的优点和缺点对比：     湿法清洗系统，适用于先进的无损兆声清洗，可以用来制作容易损坏的带或不带图案的基片，包含带保护膜的模板。为了在保证基片无损伤的同时达到佳 清洁作用中，兆声能量密度必须保持在样品的所有部位略低损害阀值。湿法刻蚀技术使基片表面声波能量均匀分布，提高了分布能量以支持理想清洗，并保证在样片损害阀值范围内。该系统具有重复性高，均匀度好，Z级先进的兆声清洗功能，兆声辅助下的光刻胶剥离和湿法刻蚀功能。该产品可以按工艺步骤进行无损检测、化学试剂清洗、刷子清洗、烘干等。        两种湿式和等离子清洗机干式蚀刻方式的优点和缺点对比：        传统湿法蚀刻系统是通过化学蚀刻液与被蚀刻物之间的化学反应使其剥落的一种蚀刻方式。湿法蚀刻多为各向同性蚀刻，不易控制。        特点：适应性强，表面均匀，对硅片的损害小，几乎适用于所有的金属、玻璃、塑料等材料。        缺点：绘图质量不理想，绘图中的小线难以把握。        等离子清洗机干法蚀刻系统的蚀刻介质是等离子体，它是利用等离子体与表面膜反应，产生挥发性物质，或直接轰击膜表面使其蚀刻的过程。        特征性：能实现各向异性蚀刻，以保证细节转换后图像的保真性。        缺点：成本一般，且用以微流控芯片的制备较少。 crf等离子清洗机干式刻蚀系统包含：用以容置电浆用的空腔；空腔上边的石英盘；石英盘上边的多个磁体；转动机构，它带动多个磁体转动，其中多个磁体产生与该磁体一起转动的磁场。通过进一步提高粒子的碰撞频率，可以获得佳的电浆均匀性，提高等离子浓度。