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诚峰智造crf等离子表面处理器效果评估之水滴角测试仪测试原理

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-12-11
  • 访问量:

【概要描述】诚峰智造crf等离子表面处理器效果评估之水滴角测试仪测试原理:        水滴角测试仪可有效地点评crf等离子表面处理器清洗上下表面处理的效果。滴角仪是一种专业分析仪器,它以蒸馏水为检测器,以水表面张力的高敏感性,点评固体物质表面自由能或固体物质与水的润湿角。        在半导体芯片行业,尤其是晶圆制造过程中,对清净度的要求很高,只有晶圆达到要求才能被认为合格。水滴角测试仪作为crf等离子表面处理器清洗效果评定的测试工具,是评定晶圆质量的有效工具。近年来,中国的晶片工业发展很快,因此,对晶片滴角的检测有了更高的要求。 依据水滴角测试的基本原理:固体样品表面由于其本身存在的表面粗糙度、化学多样性、异构性等因素,经过等离子表面处理器固体表面的接触角值或水滴角表现为左右、上下不一致;因此,水滴角测量仪器的算法必须采用符合界面化学原理的基本原理,并能实现一键快速测量。        应用程序对测试芯片半导体的技术要求:        由于芯片纳米级工艺,例如12或7纳米工艺,其结构和方向都是多种多样的,因此,异构性在芯片或晶片工艺中尤为突出。同时,还要求水滴角测试仪具有拍摄、截图、光学摄像等功能。        水滴角度测量仪的适用物性要求能灵敏地捕捉微滴(尽量在1毫升以下,使用超细针头)在小范围内的左右、上下因清洗效果不佳而产生的角度的微小变化。角的大小明显地出现了左右角的偏移,说明试样表面没有经过等离子表面处理器清洁。        从整体上看,对晶片或晶圆加工而言,除测试crf等离子表面处理器的效果外,更重要的一点是要评估在什么情况下晶圆的粘附力或表面自由能(尤其是后者)。

诚峰智造crf等离子表面处理器效果评估之水滴角测试仪测试原理

【概要描述】诚峰智造crf等离子表面处理器效果评估之水滴角测试仪测试原理:
       水滴角测试仪可有效地点评crf等离子表面处理器清洗上下表面处理的效果。滴角仪是一种专业分析仪器,它以蒸馏水为检测器,以水表面张力的高敏感性,点评固体物质表面自由能或固体物质与水的润湿角。
       在半导体芯片行业,尤其是晶圆制造过程中,对清净度的要求很高,只有晶圆达到要求才能被认为合格。水滴角测试仪作为crf等离子表面处理器清洗效果评定的测试工具,是评定晶圆质量的有效工具。近年来,中国的晶片工业发展很快,因此,对晶片滴角的检测有了更高的要求。
依据水滴角测试的基本原理:固体样品表面由于其本身存在的表面粗糙度、化学多样性、异构性等因素,经过等离子表面处理器固体表面的接触角值或水滴角表现为左右、上下不一致;因此,水滴角测量仪器的算法必须采用符合界面化学原理的基本原理,并能实现一键快速测量。
       应用程序对测试芯片半导体的技术要求:
       由于芯片纳米级工艺,例如12或7纳米工艺,其结构和方向都是多种多样的,因此,异构性在芯片或晶片工艺中尤为突出。同时,还要求水滴角测试仪具有拍摄、截图、光学摄像等功能。
       水滴角度测量仪的适用物性要求能灵敏地捕捉微滴(尽量在1毫升以下,使用超细针头)在小范围内的左右、上下因清洗效果不佳而产生的角度的微小变化。角的大小明显地出现了左右角的偏移,说明试样表面没有经过等离子表面处理器清洁。
       从整体上看,对晶片或晶圆加工而言,除测试crf等离子表面处理器的效果外,更重要的一点是要评估在什么情况下晶圆的粘附力或表面自由能(尤其是后者)。

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-12-11 07:53
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诚峰智造crf等离子表面处理器效果评估之水滴角测试仪测试原理:
       水滴角测试仪可有效地点评crf等离子表面处理器清洗上下表面处理的效果。滴角仪是一种专业分析仪器,它以蒸馏水为检测器,以水表面张力的高敏感性,点评固体物质表面自由能或固体物质与水的润湿角。

等离子表面处理器       在半导体芯片行业,尤其是晶圆制造过程中,对清净度的要求很高,只有晶圆达到要求才能被认为合格。水滴角测试仪作为crf等离子表面处理器清洗效果评定的测试工具,是评定晶圆质量的有效工具。近年来,中国的晶片工业发展很快,因此,对晶片滴角的检测有了更高的要求。
依据水滴角测试的基本原理:固体样品表面由于其本身存在的表面粗糙度、化学多样性、异构性等因素,经过等离子表面处理器固体表面的接触角值或水滴角表现为左右、上下不一致;因此,水滴角测量仪器的算法必须采用符合界面化学原理的基本原理,并能实现一键快速测量。
       应用程序对测试芯片半导体的技术要求:
       由于芯片纳米级工艺,例如12或7纳米工艺,其结构和方向都是多种多样的,因此,异构性在芯片或晶片工艺中尤为突出。同时,还要求水滴角测试仪具有拍摄、截图、光学摄像等功能。
       水滴角度测量仪的适用物性要求能灵敏地捕捉微滴(尽量在1毫升以下,使用超细针头)在小范围内的左右、上下因清洗效果不佳而产生的角度的微小变化。角的大小明显地出现了左右角的偏移,说明试样表面没有经过等离子表面处理器清洁。
       从整体上看,对晶片或晶圆加工而言,除测试crf等离子表面处理器的效果外,更重要的一点是要评估在什么情况下晶圆的粘附力或表面自由能(尤其是后者)。

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