
深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!
电话:13632675935/0755-3367 3020
诚峰智造crf等离子体表面处理仪在几大领域的应用
- 分类:公司动态
- 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
- 来源:低温等离子设备生产厂家
- 发布时间:2021-12-11
- 访问量:
【概要描述】诚峰智造crf等离子体表面处理仪在几大领域的应用: 一、诚峰智造等离子体表面处理器处理橡胶 a.表面摩擦:减少密封条和O型圈的表面摩擦; b.胶合:利用等离子体中的离子来加速撞击表面或化学腐蚀以有选择地改变表面形状,从而增强粘合剂与橡胶之间的结合,从而提供更多的结合点,提高附着力。 二、诚峰智造等离子体表面处理仪处理印刷电路板(PCB)应用 a.去孔内胶渣,镀金前必须去除。这种胶渣主要是碳氢化合物,很容易与等离子中的离子或自体相匹配,由基发生反应,产生挥发性碳氢氧化合物,然后由抽真空系统带出; b.特氟隆(Teflon)活化:特氟隆(ptfe)传导性低,是保证信号快速传输和绝缘的好材料,但这些特性使特氟隆难以电镀。因此,镀铜前必须用等离子体激活特氟隆表面; c.去除碳化物:激光钻孔产生的碳化物会导致内槽镀铜的效果。等离子体可用于去除孔内的碳化物。等离子体。活性成分与碳反应产生挥发性气体,从真空泵中提取。对于FPC,压制、丝网印刷等高污染过程后的残留胶水续表面处理造成漏镀、异色等问题,可用等离子去除残胶; d.清洁功能:电路板出货前,用等离子体清洁一次表面。增强接线强度、张力等。 三、诚峰智造等离子体表面处理器处理光盘 a.清洁:清洁光盘模板; b.钝化:模板钝化; c.改进:消除复制污点。 四、诚峰智造等离子体表面处理器处理半导体行业 a.硅片,晶圆制造:去除光刻胶; b.微机电系统(MEMS):去除SU-8胶; c.芯片封装:清洁引线焊盘,填充倒装芯片底部,提高密封胶的粘接效果; d.故障分析:拆装;e.电连接器、航空插座等。 五、诚峰智造等离子体表面处理仪应用于太阳能电池的处理 太阳能电池片刻蚀,太阳能电池封装前处理。 六、诚峰智造等离子体表面处理器处理平板显示。 a.ITO面板的清洁活化; b.去除光刻胶; c.邦定点清洁(COG)。
诚峰智造crf等离子体表面处理仪在几大领域的应用
【概要描述】诚峰智造crf等离子体表面处理仪在几大领域的应用:
一、诚峰智造等离子体表面处理器处理橡胶
a.表面摩擦:减少密封条和O型圈的表面摩擦;
b.胶合:利用等离子体中的离子来加速撞击表面或化学腐蚀以有选择地改变表面形状,从而增强粘合剂与橡胶之间的结合,从而提供更多的结合点,提高附着力。
二、诚峰智造等离子体表面处理仪处理印刷电路板(PCB)应用
a.去孔内胶渣,镀金前必须去除。这种胶渣主要是碳氢化合物,很容易与等离子中的离子或自体相匹配,由基发生反应,产生挥发性碳氢氧化合物,然后由抽真空系统带出;
b.特氟隆(Teflon)活化:特氟隆(ptfe)传导性低,是保证信号快速传输和绝缘的好材料,但这些特性使特氟隆难以电镀。因此,镀铜前必须用等离子体激活特氟隆表面;
c.去除碳化物:激光钻孔产生的碳化物会导致内槽镀铜的效果。等离子体可用于去除孔内的碳化物。等离子体。活性成分与碳反应产生挥发性气体,从真空泵中提取。对于FPC,压制、丝网印刷等高污染过程后的残留胶水续表面处理造成漏镀、异色等问题,可用等离子去除残胶;
d.清洁功能:电路板出货前,用等离子体清洁一次表面。增强接线强度、张力等。
三、诚峰智造等离子体表面处理器处理光盘
a.清洁:清洁光盘模板;
b.钝化:模板钝化;
c.改进:消除复制污点。
四、诚峰智造等离子体表面处理器处理半导体行业
a.硅片,晶圆制造:去除光刻胶;
b.微机电系统(MEMS):去除SU-8胶;
c.芯片封装:清洁引线焊盘,填充倒装芯片底部,提高密封胶的粘接效果;
d.故障分析:拆装;e.电连接器、航空插座等。
五、诚峰智造等离子体表面处理仪应用于太阳能电池的处理
太阳能电池片刻蚀,太阳能电池封装前处理。
六、诚峰智造等离子体表面处理器处理平板显示。
a.ITO面板的清洁活化;
b.去除光刻胶;
c.邦定点清洁(COG)。
- 分类:公司动态
- 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
- 来源:低温等离子设备生产厂家
- 发布时间:2021-12-11 07:52
- 访问量:
诚峰智造crf等离子体表面处理仪在几大领域的应用:
一、诚峰智造等离子体表面处理器处理橡胶
a.表面摩擦:减少密封条和O型圈的表面摩擦;
b.胶合:利用等离子体中的离子来加速撞击表面或化学腐蚀以有选择地改变表面形状,从而增强粘合剂与橡胶之间的结合,从而提供更多的结合点,提高附着力。
二、诚峰智造等离子体表面处理仪处理印刷电路板(PCB)应用
a.去孔内胶渣,镀金前必须去除。这种胶渣主要是碳氢化合物,很容易与等离子中的离子或自体相匹配,由基发生反应,产生挥发性碳氢氧化合物,然后由抽真空系统带出;
b.特氟隆(Teflon)活化:特氟隆(ptfe)传导性低,是保证信号快速传输和绝缘的好材料,但这些特性使特氟隆难以电镀。因此,镀铜前必须用等离子体激活特氟隆表面;
c.去除碳化物:激光钻孔产生的碳化物会导致内槽镀铜的效果。等离子体可用于去除孔内的碳化物。等离子体。活性成分与碳反应产生挥发性气体,从真空泵中提取。对于FPC,压制、丝网印刷等高污染过程后的残留胶水续表面处理造成漏镀、异色等问题,可用等离子去除残胶;
d.清洁功能:电路板出货前,用等离子体清洁一次表面。增强接线强度、张力等。
三、诚峰智造等离子体表面处理器处理光盘
a.清洁:清洁光盘模板;
b.钝化:模板钝化;
c.改进:消除复制污点。
四、诚峰智造等离子体表面处理器处理半导体行业
a.硅片,晶圆制造:去除光刻胶;
b.微机电系统(MEMS):去除SU-8胶;
c.芯片封装:清洁引线焊盘,填充倒装芯片底部,提高密封胶的粘接效果;
d.故障分析:拆装;e.电连接器、航空插座等。
五、诚峰智造等离子体表面处理仪应用于太阳能电池的处理
太阳能电池片刻蚀,太阳能电池封装前处理。
六、诚峰智造等离子体表面处理器处理平板显示。
a.ITO面板的清洁活化;
b.去除光刻胶;
c.邦定点清洁(COG)。
扫二维码用手机看