CRF低温等离子发生器涂覆改性PVDF磺酸膜

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• 作者：等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
• 来源：低温等离子设备生产厂家
• 发布时间：2021-11-21
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【概要描述】CRF低温等离子发生器涂覆改性PVDF磺酸膜：        膜技术以其高能效、高分选、高选择性、低成本的优势，近年来在许多行业都取得了很大的发展，目前主要应用于酸回收、盐生产、食品脱盐、工艺废水脱盐、有机合成等方面。        聚偏氟乙烯(PVDF)是含氟乙烯基单体共聚物，其大分子量可达百万级，与其它商用聚合物相比，有着良好的耐候性、热稳定性、化学稳定性及优良的机械性能。        PVDF通过碱化作用形成双键接枝苯乙烯单体，再磺化引入活性基团，该工艺所制得的阳离子交换膜离子交换容量大，机械强度好，而商品非均相膜与合金膜常需添加网布来提高膜整体强度。        PVDFgPSSA均相膜在抗氧化性能上优于商品膜，充分体现了PVDF作为聚合物膜骨架的优异性能，但其对膜的透过性却达不到工业使用要求，所以大气等离子清洗装置需要对薄膜进行改性。        PVDF分离膜改性常用方法有低温等离子发生器等离子体改性、共混改性、化学改性等。结果表明，无机纳米材料在PVDF膜中容易团聚，尽管改性条件较好，但它在PVDF膜中的分布不均匀，影响了无机材料的改性效果。        相对来说，低温等离子体改性有着广泛的适用范围，可在整个PVDF膜表面进行改性，低温等离子体对膜表面进行改性，对膜内部结构无明显破坏。        CRF低温等离子发生器等离子体可让PVDF膜表面交联，引发接枝等一系列物理化学反应。涂层接枝改性后，膜表面更加致密平整，可有效改善PVDF磺酸膜对氯离子的阻隔，但过度辐射会腐蚀膜表面，降低膜的选择透气性。