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诚峰智造crf等离子蚀刻机晶圆和线路板制造行业的应用情况

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-11-11
  • 访问量:

【概要描述】诚峰智造crf等离子蚀刻机晶圆和线路板制造行业的应用情况: 一、诚峰智造crf等离子蚀刻机应用介绍 (1)晶圆制造行业应用 芯片制造工业中四氟化碳气体用于硅片的线刻蚀,crf等离子蚀刻机使用四氟化碳来进行氮化硅刻蚀和光刻胶。用纯四氟化碳气体或四氟化碳与氧配合的方法,等离子蚀刻机能够在晶圆上形成微米级的氮化硅刻蚀,四氟化碳可与氧、氢配合使用四氟化碳来去除。 (2)线路板制造行业应用 诚峰智能制造crf等离子蚀刻机的蚀刻在电路板制造行业得到了很早的应用。硬电路板和柔性电路板在生产过程中都会去除孔内的胶水。传统工艺采用化学清洗方法。然而,随着电路板行业的发展,电路板越来越小,孔越来越小,化学药物越来越难去除孔内的胶水,孔越小,咬蚀难以控制,也会造成化学残留,影响后期工艺。等离子蚀刻机的刻蚀是干燥的,没有化学残留物,还有就是等离子体具有极强的扩散性,生成的刻蚀气相等离子体能有效地腐蚀微米级孔洞内,并能通过工艺参数的调节来控制咬蚀量。 二、C4F诚峰智造crf等离子蚀刻机使用注意事项 (1)四氟化碳气体虽为无毒不燃气体,但浓度高时会造成的窒息和麻醉性,因此使用时要注意气路密封,推荐使用防爆管道。 (2)为了保证过程的稳定性,需要采用特殊的流量控制器。 (3)四氟化碳参与反应时会产生氢氟酸,排出的废气为有害气体,需做处理后排放; (4)使用四氟化碳的等离子清洗机推荐配防锈型的干式真空泵。        亲,感谢您耐心的阅读!如果此文对您有所帮助,敬请关注一下;如果您有更好的推荐或内容补充,欢迎在咨询框留言与我们互动。诚峰智造的宗旨是专注crf等离子蚀刻机和低温等离子体的技术研讨,CRF与您分享等离子表面处理工艺、原理及应用等相关知识。

诚峰智造crf等离子蚀刻机晶圆和线路板制造行业的应用情况

【概要描述】诚峰智造crf等离子蚀刻机晶圆和线路板制造行业的应用情况:
一、诚峰智造crf等离子蚀刻机应用介绍
(1)晶圆制造行业应用
芯片制造工业中四氟化碳气体用于硅片的线刻蚀,crf等离子蚀刻机使用四氟化碳来进行氮化硅刻蚀和光刻胶。用纯四氟化碳气体或四氟化碳与氧配合的方法,等离子蚀刻机能够在晶圆上形成微米级的氮化硅刻蚀,四氟化碳可与氧、氢配合使用四氟化碳来去除。
(2)线路板制造行业应用
诚峰智能制造crf等离子蚀刻机的蚀刻在电路板制造行业得到了很早的应用。硬电路板和柔性电路板在生产过程中都会去除孔内的胶水。传统工艺采用化学清洗方法。然而,随着电路板行业的发展,电路板越来越小,孔越来越小,化学药物越来越难去除孔内的胶水,孔越小,咬蚀难以控制,也会造成化学残留,影响后期工艺。等离子蚀刻机的刻蚀是干燥的,没有化学残留物,还有就是等离子体具有极强的扩散性,生成的刻蚀气相等离子体能有效地腐蚀微米级孔洞内,并能通过工艺参数的调节来控制咬蚀量。
二、C4F诚峰智造crf等离子蚀刻机使用注意事项
(1)四氟化碳气体虽为无毒不燃气体,但浓度高时会造成的窒息和麻醉性,因此使用时要注意气路密封,推荐使用防爆管道。
(2)为了保证过程的稳定性,需要采用特殊的流量控制器。
(3)四氟化碳参与反应时会产生氢氟酸,排出的废气为有害气体,需做处理后排放;
(4)使用四氟化碳的等离子清洗机推荐配防锈型的干式真空泵。
       亲,感谢您耐心的阅读!如果此文对您有所帮助,敬请关注一下;如果您有更好的推荐或内容补充,欢迎在咨询框留言与我们互动。诚峰智造的宗旨是专注crf等离子蚀刻机和低温等离子体的技术研讨,CRF与您分享等离子表面处理工艺、原理及应用等相关知识。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-11-11 07:27
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诚峰智造crf等离子蚀刻机晶圆和线路板制造行业的应用情况:
一、诚峰智造crf等离子蚀刻机应用介绍

等离子蚀刻机(1)晶圆制造行业应用
芯片制造工业中四氟化碳气体用于硅片的线刻蚀,crf等离子蚀刻机使用四氟化碳来进行氮化硅刻蚀和光刻胶。用纯四氟化碳气体或四氟化碳与氧配合的方法,等离子蚀刻机能够在晶圆上形成微米级的氮化硅刻蚀,四氟化碳可与氧、氢配合使用四氟化碳来去除。
(2)线路板制造行业应用
诚峰智能制造crf等离子蚀刻机的蚀刻在电路板制造行业得到了很早的应用。硬电路板和柔性电路板在生产过程中都会去除孔内的胶水。传统工艺采用化学清洗方法。然而,随着电路板行业的发展,电路板越来越小,孔越来越小,化学药物越来越难去除孔内的胶水,孔越小,咬蚀难以控制,也会造成化学残留,影响后期工艺。等离子蚀刻机的刻蚀是干燥的,没有化学残留物,还有就是等离子体具有极强的扩散性,生成的刻蚀气相等离子体能有效地腐蚀微米级孔洞内,并能通过工艺参数的调节来控制咬蚀量。
二、C4F诚峰智造crf等离子蚀刻机使用注意事项
(1)四氟化碳气体虽为无毒不燃气体,但浓度高时会造成的窒息和麻醉性,因此使用时要注意气路密封,推荐使用防爆管道。
(2)为了保证过程的稳定性,需要采用特殊的流量控制器。
(3)四氟化碳参与反应时会产生氢氟酸,排出的废气为有害气体,需做处理后排放;
(4)使用四氟化碳的等离子清洗机推荐配防锈型的干式真空泵。
       亲,感谢您耐心的阅读!如果此文对您有所帮助,敬请关注一下;如果您有更好的推荐或内容补充,欢迎在咨询框留言与我们互动。诚峰智造的宗旨是专注crf等离子蚀刻机和低温等离子体的技术研讨,CRF与您分享等离子表面处理工艺、原理及应用等相关知识。

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