深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

plasma设备在增进硬盘品质领域的成功应用

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-10-07
  • 访问量:

【概要描述】plasma设备在增进硬盘品质领域的成功应用:         经济的快速发展,大众的生活水平持续增进,对消费品市场的质量需求也愈来愈高。随着工艺问题的持续提出,新材料持续出现,越来越多的科学研究机构意识到了等离子技术的重要性。活动硬盘和软件学的快速发展,工艺的不断发展,计算机硬盘的各项性能也在持续增进,其容量也在持续增加,碟片的转速也达到了7200转/分,这对硬盘结构的需求也愈来愈高,硬盘内部部件之间的连接效(正)直接影响硬盘的性能、可靠性、使用寿命等指标。        服务器上的硬盘数据致关重要,而且随着硬盘的存储量越来越大,稳定性愈来愈难以达到需求,因此增进服务器硬盘的稳定性成为业界的不懈追求。而硬盘的稳定性依赖于硬盘支架与盘面的寿命和稳定性,其中硬盘支架上的HC和阴离子数目超标将直接导致硬盘在运行的过程中容易造成类似干电池的腐蚀,继而丢失数据甚致硬盘报废,而用传统的方法很难有效降(低)其数量,因此,HC和相关阴离子很难降(低)到标准需求成了硬盘领域快速发展的一个瓶颈,属于业界公认的难题。目前为了(降)低HC和相关阴离子数目多采用化学清洗方式,良品率低,效(果)不理想。        诚峰智造plasma设备通过长达半年的工艺探索,与客户深入合作,通过修改清洗配方,更改反应腔体结构材质、增进腔内清洗均匀性等等,终于可靠将HC和相关阴离子数目降到标准需求以内,plasma设备已经在国(际)硬盘支架市场占有量第壹的生产基地得以推广应用,大大提高了成品的良品率,缩减了生产成本,更关键的是增进了硬盘的稳定性和寿命,可靠性及抗碰撞性也有明(显)的改善。给客户带来了很大的经济效益和快速发展契机,甚致可以说,plasma设备处理在增进硬盘品质领域的成功应用成为硬盘发展史上一个新的里程碑。

plasma设备在增进硬盘品质领域的成功应用

【概要描述】plasma设备在增进硬盘品质领域的成功应用:
        经济的快速发展,大众的生活水平持续增进,对消费品市场的质量需求也愈来愈高。随着工艺问题的持续提出,新材料持续出现,越来越多的科学研究机构意识到了等离子技术的重要性。活动硬盘和软件学的快速发展,工艺的不断发展,计算机硬盘的各项性能也在持续增进,其容量也在持续增加,碟片的转速也达到了7200转/分,这对硬盘结构的需求也愈来愈高,硬盘内部部件之间的连接效(正)直接影响硬盘的性能、可靠性、使用寿命等指标。
       服务器上的硬盘数据致关重要,而且随着硬盘的存储量越来越大,稳定性愈来愈难以达到需求,因此增进服务器硬盘的稳定性成为业界的不懈追求。而硬盘的稳定性依赖于硬盘支架与盘面的寿命和稳定性,其中硬盘支架上的HC和阴离子数目超标将直接导致硬盘在运行的过程中容易造成类似干电池的腐蚀,继而丢失数据甚致硬盘报废,而用传统的方法很难有效降(低)其数量,因此,HC和相关阴离子很难降(低)到标准需求成了硬盘领域快速发展的一个瓶颈,属于业界公认的难题。目前为了(降)低HC和相关阴离子数目多采用化学清洗方式,良品率低,效(果)不理想。
       诚峰智造plasma设备通过长达半年的工艺探索,与客户深入合作,通过修改清洗配方,更改反应腔体结构材质、增进腔内清洗均匀性等等,终于可靠将HC和相关阴离子数目降到标准需求以内,plasma设备已经在国(际)硬盘支架市场占有量第壹的生产基地得以推广应用,大大提高了成品的良品率,缩减了生产成本,更关键的是增进了硬盘的稳定性和寿命,可靠性及抗碰撞性也有明(显)的改善。给客户带来了很大的经济效益和快速发展契机,甚致可以说,plasma设备处理在增进硬盘品质领域的成功应用成为硬盘发展史上一个新的里程碑。

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-10-07 11:26
  • 访问量:
详情

plasma设备在增进硬盘品质领域的成功应用:
        经济的快速发展,大众的生活水平持续增进,对消费品市场的质量需求也愈来愈高。随着工艺问题的持续提出,新材料持续出现,越来越多的科学研究机构意识到了等离子技术的重要性。活动硬盘和软件学的快速发展,工艺的不断发展,计算机硬盘的各项性能也在持续增进,其容量也在持续增加,碟片的转速也达到了7200转/分,这对硬盘结构的需求也愈来愈高,硬盘内部部件之间的连接效(正)直接影响硬盘的性能、可靠性、使用寿命等指标。 
plasma设备       服务器上的硬盘数据致关重要,而且随着硬盘的存储量越来越大,稳定性愈来愈难以达到需求,因此增进服务器硬盘的稳定性成为业界的不懈追求。而硬盘的稳定性依赖于硬盘支架与盘面的寿命和稳定性,其中硬盘支架上的HC和阴离子数目超标将直接导致硬盘在运行的过程中容易造成类似干电池的腐蚀,继而丢失数据甚致硬盘报废,而用传统的方法很难有效降(低)其数量,因此,HC和相关阴离子很难降(低)到标准需求成了硬盘领域快速发展的一个瓶颈,属于业界公认的难题。目前为了(降)低HC和相关阴离子数目多采用化学清洗方式,良品率低,效(果)不理想。
       诚峰智造plasma设备通过长达半年的工艺探索,与客户深入合作,通过修改清洗配方,更改反应腔体结构材质、增进腔内清洗均匀性等等,终于可靠将HC和相关阴离子数目降到标准需求以内,plasma设备已经在国(际)硬盘支架市场占有量第壹的生产基地得以推广应用,大大提高了成品的良品率,缩减了生产成本,更关键的是增进了硬盘的稳定性和寿命,可靠性及抗碰撞性也有明(显)的改善。给客户带来了很大的经济效益和快速发展契机,甚致可以说,plasma设备处理在增进硬盘品质领域的成功应用成为硬盘发展史上一个新的里程碑。

关键词:

扫二维码用手机看

相关资讯

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区