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等离子体设备在油脂和污垢方面具有突出的优势

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-09-25
  • 访问量:

【概要描述】等离子体设备在油脂和污垢方面具有突出的优势:        等离子体设备设备对油脂污垢的作用类似于燃烧油脂污垢;但区别在于低温下的燃烧。氧等离子体设备中氧原子自由基的共同作用,使油脂分子氧化为水和二氧化碳分子,从而除去油品接触面。可见,利用等离子体设备清除(去除)油污的步骤是一个有机大分子逐步降解的步骤,生成水、二氧化碳等小分子,以气态形式排除。 等离子体设备设备清洗的另一个特点是清洗后物体已经完全干燥。经等离子体设备处理的物体接触面往往形成大多新的活性基团,使物体接触面活(化),改变性能,可以大大提高物体接触面的渗透性和粘附性,这对大多材料非常重要。因此,等离子体设备设备清洗具有溶剂湿法清洗无法比拟的优点。        等离子体设备设备清洗由真空室、真空泵、高压电源、电级、汽体导进系统、工件传输系统和控制系统组成。整块清洗步骤一般如下所述;清洗工件送真空固定,起动运作设备,逐渐放气,使真空室真空值到达10帕上下的标准真空值。一般放气时间需要几分钟上下。

等离子体设备在油脂和污垢方面具有突出的优势

【概要描述】等离子体设备在油脂和污垢方面具有突出的优势:
       等离子体设备设备对油脂污垢的作用类似于燃烧油脂污垢;但区别在于低温下的燃烧。氧等离子体设备中氧原子自由基的共同作用,使油脂分子氧化为水和二氧化碳分子,从而除去油品接触面。可见,利用等离子体设备清除(去除)油污的步骤是一个有机大分子逐步降解的步骤,生成水、二氧化碳等小分子,以气态形式排除。
等离子体设备设备清洗的另一个特点是清洗后物体已经完全干燥。经等离子体设备处理的物体接触面往往形成大多新的活性基团,使物体接触面活(化),改变性能,可以大大提高物体接触面的渗透性和粘附性,这对大多材料非常重要。因此,等离子体设备设备清洗具有溶剂湿法清洗无法比拟的优点。
       等离子体设备设备清洗由真空室、真空泵、高压电源、电级、汽体导进系统、工件传输系统和控制系统组成。整块清洗步骤一般如下所述;清洗工件送真空固定,起动运作设备,逐渐放气,使真空室真空值到达10帕上下的标准真空值。一般放气时间需要几分钟上下。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-09-25 15:47
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等离子体设备在油脂和污垢方面具有突出的优势:
       等离子体设备设备对油脂污垢的作用类似于燃烧油脂污垢;但区别在于低温下的燃烧。氧等离子体设备中氧原子自由基的共同作用,使油脂分子氧化为水和二氧化碳分子,从而除去油品接触面。可见,利用等离子体设备清除(去除)油污的步骤是一个有机大分子逐步降解的步骤,生成水、二氧化碳等小分子,以气态形式排除。
等离子体设备设备清洗的另一个特点是清洗后物体已经完全干燥。经等离子体设备处理的物体接触面往往形成大多新的活性基团,使物体接触面活(化),改变性能,可以大大提高物体接触面的渗透性和粘附性,这对大多材料非常重要。因此,等离子体设备设备清洗具有溶剂湿法清洗无法比拟的优点。

等离子体设备       等离子体设备设备清洗由真空室、真空泵、高压电源、电级、汽体导进系统、工件传输系统和控制系统组成。整块清洗步骤一般如下所述;清洗工件送真空固定,起动运作设备,逐渐放气,使真空室真空值到达10帕上下的标准真空值。一般放气时间需要几分钟上下。

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