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低温plasma的臭味_你们知道是什么会产生的吗?

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-09-25
  • 访问量:

【概要描述】低温plasma的臭味_你们知道是什么会产生的吗?        低温固形物会产生的条件:有足够的反应气体和反应压力,而所会产生的反应气体应能以较快的速度冲击到被清洗物表层,并有足够的能量,反应后会产生的物质必须是微小的挥发性结合物。 冷等离子体会产生什么样的气体? 回答是:O3。         在放电反应器中,由含氧气体所形成的低温plasma气氛中,是低温放电时会产生O3的基础原理。自由电荷在特定能量下将氧原子分解为氧原子,在三体碰撞后形成O3分子,并发生臭氧分解反应。臭氧层是O3,也被称为三原子氧,超氧,由于有一种鱼腥味的气味而命名,在常温下能自动还原成氧气。比例比氧大,溶解性好,易分解。因为O3分子携带一个氧原子而构成,因此,O3只能处于暂存状态,除了氧化作用之外,携带的氧原子与氧结合,进入稳定状态,因此O3并不会受到二次污染。        假如我们吸入的气体含有氧,那么在反应过程中,O3会产生量很少,正因为有O3的存在,在使用低温等离子体时,偶尔会嗅到有股臭味,这也是低温等离子体体验到臭味的原因。        低温等离子体表面处理技术没有毁灭性,并不会对商品或材料表层产生损害,并能在表层起到清洁、修饰、镀膜等作用。真空等离子体清洗装置中常用的真空吸盘,将气体转换成高活性的低温plasma,并在特定的真空低压和高频率电场作用下,该低温晶状体可与角膜塑形镜表层多种有机污染物发生微细反应,改变其分子结构,在特定条件下改变镜片表层的性质,以达到清洁消毒的目的。另外,由于所用清洗介质是气体,反应生成物也是气体,因此没有二次污染。

低温plasma的臭味_你们知道是什么会产生的吗?

【概要描述】低温plasma的臭味_你们知道是什么会产生的吗?
       低温固形物会产生的条件:有足够的反应气体和反应压力,而所会产生的反应气体应能以较快的速度冲击到被清洗物表层,并有足够的能量,反应后会产生的物质必须是微小的挥发性结合物。
冷等离子体会产生什么样的气体?
回答是:O3。
        在放电反应器中,由含氧气体所形成的低温plasma气氛中,是低温放电时会产生O3的基础原理。自由电荷在特定能量下将氧原子分解为氧原子,在三体碰撞后形成O3分子,并发生臭氧分解反应。臭氧层是O3,也被称为三原子氧,超氧,由于有一种鱼腥味的气味而命名,在常温下能自动还原成氧气。比例比氧大,溶解性好,易分解。因为O3分子携带一个氧原子而构成,因此,O3只能处于暂存状态,除了氧化作用之外,携带的氧原子与氧结合,进入稳定状态,因此O3并不会受到二次污染。
       假如我们吸入的气体含有氧,那么在反应过程中,O3会产生量很少,正因为有O3的存在,在使用低温等离子体时,偶尔会嗅到有股臭味,这也是低温等离子体体验到臭味的原因。
       低温等离子体表面处理技术没有毁灭性,并不会对商品或材料表层产生损害,并能在表层起到清洁、修饰、镀膜等作用。真空等离子体清洗装置中常用的真空吸盘,将气体转换成高活性的低温plasma,并在特定的真空低压和高频率电场作用下,该低温晶状体可与角膜塑形镜表层多种有机污染物发生微细反应,改变其分子结构,在特定条件下改变镜片表层的性质,以达到清洁消毒的目的。另外,由于所用清洗介质是气体,反应生成物也是气体,因此没有二次污染。

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  • 发布时间:2021-09-25 06:41
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低温plasma的臭味_你们知道是什么会产生的吗?
       低温固形物会产生的条件:有足够的反应气体和反应压力,而所会产生的反应气体应能以较快的速度冲击到被清洗物表层,并有足够的能量,反应后会产生的物质必须是微小的挥发性结合物。
冷等离子体会产生什么样的气体?
回答是:O3。

plasma        在放电反应器中,由含氧气体所形成的低温plasma气氛中,是低温放电时会产生O3的基础原理。自由电荷在特定能量下将氧原子分解为氧原子,在三体碰撞后形成O3分子,并发生臭氧分解反应。臭氧层是O3,也被称为三原子氧,超氧,由于有一种鱼腥味的气味而命名,在常温下能自动还原成氧气。比例比氧大,溶解性好,易分解。因为O3分子携带一个氧原子而构成,因此,O3只能处于暂存状态,除了氧化作用之外,携带的氧原子与氧结合,进入稳定状态,因此O3并不会受到二次污染。
       假如我们吸入的气体含有氧,那么在反应过程中,O3会产生量很少,正因为有O3的存在,在使用低温等离子体时,偶尔会嗅到有股臭味,这也是低温等离子体体验到臭味的原因。
       低温等离子体表面处理技术没有毁灭性,并不会对商品或材料表层产生损害,并能在表层起到清洁、修饰、镀膜等作用。真空等离子体清洗装置中常用的真空吸盘,将气体转换成高活性的低温plasma,并在特定的真空低压和高频率电场作用下,该低温晶状体可与角膜塑形镜表层多种有机污染物发生微细反应,改变其分子结构,在特定条件下改变镜片表层的性质,以达到清洁消毒的目的。另外,由于所用清洗介质是气体,反应生成物也是气体,因此没有二次污染。

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