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等离子体表面处理机的这些发展前景不可估量

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-09-15
  • 访问量:

【概要描述】       目前广泛选用的工艺主要是等离子体表面处理机的清洗工艺,对埋孔构造非常有效,工艺简单,对环境友好。等离子体表面处理设备具有良好的清洗效果。等离子体表面处理机是指高度活(化)等离子体在电场作用下定向运动,与孔壁产生气固化学反应,同时产生的气体产物和部分未产生反應的颗粒由抽气泵排出。在HDI板埋孔清洗过程中,等离子体分为三个阶段:第一阶段用高纯N_2生成等离子体,同时预热印制板,使聚合物原料处于某种活(化)态;第2级O2.CF4作为原始气体,将O.F等离子体与丙烯酸酯、DPI、FR4、玻璃纤维等反應,以实行去钻污的目地;第三级以O2作为原始气体,等离子体与反應残留物共同净化了孔壁。        选用等离子体表面处理机清法,等离子体除了产生等离子体化学反应外,还与原料表面产生物理反应。电浆微粒击打原料表面或原料表面的原子,有利于清洁蚀刻反應。随着原料工艺的进步,埋埋孔构造的实行将变得越来越小、变得越来越细致;在对埋孔进行电镀填孔时,传统的化学除渣方式将变得越来越困难,但等离子体表面处理机所选用的清法方式能有效地摆脱湿式去除胶渣的特点,并能对埋孔和微孔有较好的清洗效果,这样就能保证在埋孔电镀填孔中实行良好的效(果)。

等离子体表面处理机的这些发展前景不可估量

【概要描述】       目前广泛选用的工艺主要是等离子体表面处理机的清洗工艺,对埋孔构造非常有效,工艺简单,对环境友好。等离子体表面处理设备具有良好的清洗效果。等离子体表面处理机是指高度活(化)等离子体在电场作用下定向运动,与孔壁产生气固化学反应,同时产生的气体产物和部分未产生反應的颗粒由抽气泵排出。在HDI板埋孔清洗过程中,等离子体分为三个阶段:第一阶段用高纯N_2生成等离子体,同时预热印制板,使聚合物原料处于某种活(化)态;第2级O2.CF4作为原始气体,将O.F等离子体与丙烯酸酯、DPI、FR4、玻璃纤维等反應,以实行去钻污的目地;第三级以O2作为原始气体,等离子体与反應残留物共同净化了孔壁。
       选用等离子体表面处理机清法,等离子体除了产生等离子体化学反应外,还与原料表面产生物理反应。电浆微粒击打原料表面或原料表面的原子,有利于清洁蚀刻反應。随着原料工艺的进步,埋埋孔构造的实行将变得越来越小、变得越来越细致;在对埋孔进行电镀填孔时,传统的化学除渣方式将变得越来越困难,但等离子体表面处理机所选用的清法方式能有效地摆脱湿式去除胶渣的特点,并能对埋孔和微孔有较好的清洗效果,这样就能保证在埋孔电镀填孔中实行良好的效(果)。

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       目前广泛选用的工艺主要是等离子体表面处理机的清洗工艺,对埋孔构造非常有效,工艺简单,对环境友好。等离子体表面处理设备具有良好的清洗效果。等离子体表面处理机是指高度活(化)等离子体在电场作用下定向运动,与孔壁产生气固化学反应,同时产生的气体产物和部分未产生反應的颗粒由抽气泵排出。在HDI板埋孔清洗过程中,等离子体分为三个阶段:第一阶段用高纯N_2生成等离子体,同时预热印制板,使聚合物原料处于某种活(化)态;第2级O2.CF4作为原始气体,将O.F等离子体与丙烯酸酯、DPI、FR4、玻璃纤维等反應,以实行去钻污的目地;第三级以O2作为原始气体,等离子体与反應残留物共同净化了孔壁。
等离子体表面处理机       选用等离子体表面处理机清法,等离子体除了产生等离子体化学反应外,还与原料表面产生物理反应。电浆微粒击打原料表面或原料表面的原子,有利于清洁蚀刻反應。随着原料工艺的进步,埋埋孔构造的实行将变得越来越小、变得越来越细致;在对埋孔进行电镀填孔时,传统的化学除渣方式将变得越来越困难,但等离子体表面处理机所选用的清法方式能有效地摆脱湿式去除胶渣的特点,并能对埋孔和微孔有较好的清洗效果,这样就能保证在埋孔电镀填孔中实行良好的效(果)。

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