深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

等离子表面处理工艺已开始变成微电子生产过程中不能或缺的1项工艺

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-09-13
  • 访问量:

【概要描述】

等离子表面处理工艺已开始变成微电子生产过程中不能或缺的1项工艺

【概要描述】

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-09-13 18:41
  • 访问量:
详情


       近年来,随着科学技术的不断发展,液晶显示工艺与传统显示技术相比,等离子表面处理效果得到明显改善,废品率下降到50%以上。LCD玻璃采用低温、常压等离子体清洗工艺,不仅仅能够祛除杂物粒状,提高材料的表面能,而且促进产品的产出率出现数量级提高。
       等离子表面处理工艺已开始变成微电子生产过程中不能或缺的1项工艺。与等离子表面处理设备相比,行业中较为常见的名称为“等离子清洗机”,也开始被人们所熟悉。与传统的机械清洗(如机械清洗、水洗和溶剂清洗)不同的是,传统的清洗方法在清洗完成后,在表面仍会残留数纳米到几十纳米的残留物。在精密加工技术要求越来越严格的今天,这些残留往往会对生产过程和产品的安全性造成不良后果。
       物质表面污染物的主要来源有两种,通过物理化学方式吸附在物质表面的外来分子与其表面自然氧化层:外来物在材料表面的污染物:
1、外源分子一般可通过加热解吸附,而用化学吸附的外来分子则需要比较高能的化学反应过程才能将其吸附在材料表面上;
2、表面自然氧化层一般生成在金属表面,会对金属的可焊性以及与其他材料的结合性能造成影响。
       等离子体表面处理工艺能有效地处理上述两类表面污染物,但处理过程中首先要选择合适的处理气体。用氧和氩作为等离子表面处理工艺中最常用的工艺气体。
1、氧气可在等离子环境下电离造成大量含氧极性基团,可有效地祛除材料表面的有机污染物,并在材料表面吸附极性基团,有效地提高材料的结合性能–微电子封装工艺中,塑封前的等离子处理是此类处理的典型应用。经等离子表面处理后的表面能较高,可有效地与塑封料结合,减少塑封过程中出现的分裂、针孔等现象。
2、氩气可在等离子环境中造成氩离子,并利用材料表面造成的自偏压作用对材料进行溅射,消除在表面吸附的外来分子,并能有效地祛除表面金属氧化物-在微电子过程中,打线前的等离子处理是该工艺的典型代表。电浆处理后的焊盘表面因能除去金属氧化层中的杂物,可提高后续打线工艺的良率和焊线的推拉力。
       等离子表面处理工艺过程中,等离子体电源、电极结构、反应压力等因素对处理效果的影响也不尽相同。

扫二维码用手机看

相关资讯

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区