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传统低温等离子发生器渗氮工艺采用的是直流或脉冲异常辉光放电
- 分类:技术支持
- 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
- 来源:低温等离子设备生产厂家
- 发布时间:2021-08-31
- 访问量:
【概要描述】 克服低温等离子渗氮层质量的缺点,研究人员开发了低温等离子发生器,当气压低于10PA时,就不会产生异常辉光放电了。通过射频激发微波,或从热丝上释放出的高能电子冲击电离等方式都可以产生等离子体,这些低压等离子体充满整个处理空间,其中包含了大量的活性原子,如此会提高渗氮效率。在射频低温等离子发生器渗氮中,低温等离子发生器的产生和基底偏压是分开控制的,因而能够分別控制离子能量转换和基底表面的通量。由于工作气压比较低,消耗的气量也相应降(低)。 在原子团渗氮工艺中,低能量转换的直流辉光放电能够产生NH原子团,能够利用这些高活性的原子团来渗氮,整个工艺需要一个外加电源来加热工件,这与气体渗氮过程相仿。这种工业不仅能够精(确)地控制表面拓扑,而且还可以选择是否形成化合物层,也可以在低温等离子发生器表面结构特性不改变的前提下,控制化合物层的厚度和扩散层的深度。若金属表面有窄缝和孔,用这种工艺也可以很容易地实现渗氮。 传统低温等离子发生器渗氮工艺采用的是直流或脉冲异常辉光放电。这种工艺在低合金钢和工具钢的渗氮处理表现尚可,但对不锈钢,特别是有奥氏体结构的钢来说,就表现欠佳。高温渗氮工艺过程中会析出CrN,所以金属表面很硬而且耐磨,但缺点是易被腐蚀。低温和低压放电技术已成功地解决了这个问题,用这种工艺生产出的改性层包含一个称为扩展奥氏体的富氮层。
传统低温等离子发生器渗氮工艺采用的是直流或脉冲异常辉光放电
【概要描述】 克服低温等离子渗氮层质量的缺点,研究人员开发了低温等离子发生器,当气压低于10PA时,就不会产生异常辉光放电了。通过射频激发微波,或从热丝上释放出的高能电子冲击电离等方式都可以产生等离子体,这些低压等离子体充满整个处理空间,其中包含了大量的活性原子,如此会提高渗氮效率。在射频低温等离子发生器渗氮中,低温等离子发生器的产生和基底偏压是分开控制的,因而能够分別控制离子能量转换和基底表面的通量。由于工作气压比较低,消耗的气量也相应降(低)。
在原子团渗氮工艺中,低能量转换的直流辉光放电能够产生NH原子团,能够利用这些高活性的原子团来渗氮,整个工艺需要一个外加电源来加热工件,这与气体渗氮过程相仿。这种工业不仅能够精(确)地控制表面拓扑,而且还可以选择是否形成化合物层,也可以在低温等离子发生器表面结构特性不改变的前提下,控制化合物层的厚度和扩散层的深度。若金属表面有窄缝和孔,用这种工艺也可以很容易地实现渗氮。
传统低温等离子发生器渗氮工艺采用的是直流或脉冲异常辉光放电。这种工艺在低合金钢和工具钢的渗氮处理表现尚可,但对不锈钢,特别是有奥氏体结构的钢来说,就表现欠佳。高温渗氮工艺过程中会析出CrN,所以金属表面很硬而且耐磨,但缺点是易被腐蚀。低温和低压放电技术已成功地解决了这个问题,用这种工艺生产出的改性层包含一个称为扩展奥氏体的富氮层。
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- 发布时间:2021-08-31 16:59
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克服低温等离子渗氮层质量的缺点,研究人员开发了低温等离子发生器,当气压低于10PA时,就不会产生异常辉光放电了。通过射频激发微波,或从热丝上释放出的高能电子冲击电离等方式都可以产生等离子体,这些低压等离子体充满整个处理空间,其中包含了大量的活性原子,如此会提高渗氮效率。在射频低温等离子发生器渗氮中,低温等离子发生器的产生和基底偏压是分开控制的,因而能够分別控制离子能量转换和基底表面的通量。由于工作气压比较低,消耗的气量也相应降(低)。
在原子团渗氮工艺中,低能量转换的直流辉光放电能够产生NH原子团,能够利用这些高活性的原子团来渗氮,整个工艺需要一个外加电源来加热工件,这与气体渗氮过程相仿。这种工业不仅能够精(确)地控制表面拓扑,而且还可以选择是否形成化合物层,也可以在低温等离子发生器表面结构特性不改变的前提下,控制化合物层的厚度和扩散层的深度。若金属表面有窄缝和孔,用这种工艺也可以很容易地实现渗氮。
传统低温等离子发生器渗氮工艺采用的是直流或脉冲异常辉光放电。这种工艺在低合金钢和工具钢的渗氮处理表现尚可,但对不锈钢,特别是有奥氏体结构的钢来说,就表现欠佳。高温渗氮工艺过程中会析出CrN,所以金属表面很硬而且耐磨,但缺点是易被腐蚀。低温和低压放电技术已成功地解决了这个问题,用这种工艺生产出的改性层包含一个称为扩展奥氏体的富氮层。
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