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讲述低温plasma设备常用的电源及温度问题

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-08-17
  • 访问量:

【概要描述】        很多客户会询问plasma设备的温度问题,主要是担心plasma设备在处置產品或部件时会因等离子体温过高而损坏表面。等离子体清洗时,plasma设备的火苗看上去与传统火苗类似,但plasma设备使用中频电源时,功率高,能量强,不加水的冷却温度也高,清洗材料不耐温时需要注意温度。          plasma设备常用的电源有两种,一种是13.56KHz的射频电源,这种电源产生的等离子密度高,能量柔和,温度低,功率一般为1~2KW,大的可达5KW,小的可达几百W,是用得多的N2电源;另一种是40KHz的中频电源,这种电源与射频电源正好相反,等离子的密度不高,但强度大,能量高,高度高,功率也高,大功率可达几十KW,甚至从理论上讲,几百KW,常用作除渣、刻蚀,真空plasma设备如果使用中频电源,需要加水冷,这也是plasma设备常用的电源。        射频plasma设备的温度和平时室内的温度差不多。当然,如果真空机整天不间断使用,还是要加水冷系统。等离子射流的平均温度约为200-250℃。如果距离和速度设定正确,表面温度可达70-80℃左右。因此,该技术可用于所有标准材料(金属、陶瓷、玻璃、塑料、弹性体)、射频plasma设备通常用于改造成流水线在线设备,射流型plasma设备由于流水线不断运转,材料不会在喷嘴下停留太长时间,因为如果材料在喷嘴下停留太长时间,材料就会烧焦。一些射流plasma设备也使用N2,因为N2产生的等离子体温度相对较低。温度是物体的冷热程度,从微观角度来看,温度是粒子运动的量。温度越高,粒子的平均动能越大,反之亦然。在等离子体中,通常直接用粒子的平均能量来表示温度,当电子(荷电为1.6×10-19库仑)在静电场中通过电位差为1伏特时,电子从静电场中得到的能量。  

讲述低温plasma设备常用的电源及温度问题

【概要描述】        很多客户会询问plasma设备的温度问题,主要是担心plasma设备在处置產品或部件时会因等离子体温过高而损坏表面。等离子体清洗时,plasma设备的火苗看上去与传统火苗类似,但plasma设备使用中频电源时,功率高,能量强,不加水的冷却温度也高,清洗材料不耐温时需要注意温度。
         plasma设备常用的电源有两种,一种是13.56KHz的射频电源,这种电源产生的等离子密度高,能量柔和,温度低,功率一般为1~2KW,大的可达5KW,小的可达几百W,是用得多的N2电源;另一种是40KHz的中频电源,这种电源与射频电源正好相反,等离子的密度不高,但强度大,能量高,高度高,功率也高,大功率可达几十KW,甚至从理论上讲,几百KW,常用作除渣、刻蚀,真空plasma设备如果使用中频电源,需要加水冷,这也是plasma设备常用的电源。
       射频plasma设备的温度和平时室内的温度差不多。当然,如果真空机整天不间断使用,还是要加水冷系统。等离子射流的平均温度约为200-250℃。如果距离和速度设定正确,表面温度可达70-80℃左右。因此,该技术可用于所有标准材料(金属、陶瓷、玻璃、塑料、弹性体)、射频plasma设备通常用于改造成流水线在线设备,射流型plasma设备由于流水线不断运转,材料不会在喷嘴下停留太长时间,因为如果材料在喷嘴下停留太长时间,材料就会烧焦。一些射流plasma设备也使用N2,因为N2产生的等离子体温度相对较低。温度是物体的冷热程度,从微观角度来看,温度是粒子运动的量。温度越高,粒子的平均动能越大,反之亦然。在等离子体中,通常直接用粒子的平均能量来表示温度,当电子(荷电为1.6×10-19库仑)在静电场中通过电位差为1伏特时,电子从静电场中得到的能量。
 

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-08-17 15:06
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        很多客户会询问plasma设备的温度问题,主要是担心plasma设备在处置產品或部件时会因等离子体温过高而损坏表面。等离子体清洗时,plasma设备的火苗看上去与传统火苗类似,但plasma设备使用中频电源时,功率高,能量强,不加水的冷却温度也高,清洗材料不耐温时需要注意温度。
 
plasma设备        plasma设备常用的电源有两种,一种是13.56KHz的射频电源,这种电源产生的等离子密度高,能量柔和,温度低,功率一般为1~2KW,大的可达5KW,小的可达几百W,是用得多的N2电源;另一种是40KHz的中频电源,这种电源与射频电源正好相反,等离子的密度不高,但强度大,能量高,高度高,功率也高,大功率可达几十KW,甚至从理论上讲,几百KW,常用作除渣、刻蚀,真空plasma设备如果使用中频电源,需要加水冷,这也是plasma设备常用的电源。
       射频plasma设备的温度和平时室内的温度差不多。当然,如果真空机整天不间断使用,还是要加水冷系统。等离子射流的平均温度约为200-250℃。如果距离和速度设定正确,表面温度可达70-80℃左右。因此,该技术可用于所有标准材料(金属、陶瓷、玻璃、塑料、弹性体)、射频plasma设备通常用于改造成流水线在线设备,射流型plasma设备由于流水线不断运转,材料不会在喷嘴下停留太长时间,因为如果材料在喷嘴下停留太长时间,材料就会烧焦。一些射流plasma设备也使用N2,因为N2产生的等离子体温度相对较低。温度是物体的冷热程度,从微观角度来看,温度是粒子运动的量。温度越高,粒子的平均动能越大,反之亦然。在等离子体中,通常直接用粒子的平均能量来表示温度,当电子(荷电为1.6×10-19库仑)在静电场中通过电位差为1伏特时,电子从静电场中得到的能量。

 

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