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真空等离子体设备清洗产品前必须要做的准备有哪些?

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-08-14
  • 访问量:

【概要描述】真空等离子体设备清洗产品前必须要做的准备有哪些? 一、真空等离子体设备的工作原理 真空等离子体设备以气体为清理介质,能有效地避免液体清理介质对清理物件的再次污染。利用外接进口真空泵,清理腔体内的等离子体冲刷待清理物件的的表面,可以在短时间内彻底清理有(机)污染物。同时污染物被进口真空泵抽走,从而达到清理的目的。在特定的环境中,其属性可以根据不同的产品的表面而改变。等离子体使用于产品的表面,重组产品的表面的分子化学键,形成新的的表面特性。 二、真空等离子体设备的基本构造 根据真空等离子体设备使用的需要,可以选择多种结构的真空等离子体设备,也可以选择无用气型,通用的调节装置包括真空室、进口真空泵、高频电源、接触器、气体输入系统、工作输送系统和控制系统等。进口真空泵一般采用旋转泵,高频电源一般采用13.56兆赫无线电波。 三、真空等离子体设备工作流程 1.清洁后的工件送入真空室并固定好,启动运转装置,开始排气,使真空室的真空度达到一百帕标准真空。通常的排气时间大约2毫秒。 2.向真空室中注入等离子清洗用的气体,并保持压力为一百帕。根据不使用的清洁产品,可以选择O2、N2或Ar2。 3.对真空室电极和接地装置之间施加高频电压,会引起气体破裂,产生离子化使用,使电浆利用辉光放电产生电浆。将真空室产生的等离子体完(全)覆盖在处理后的工件上,真空等离子体设备开始清理运作。一般的清理过程会持续几十秒到几分钟。 4.真空等离子体设备清洁完毕后,切断高频电压,把气体和蒸发的污物排出,同时把气体压入真空室内,使空气压力升高,使空气压力上升。

真空等离子体设备清洗产品前必须要做的准备有哪些?

【概要描述】真空等离子体设备清洗产品前必须要做的准备有哪些?
一、真空等离子体设备的工作原理
真空等离子体设备以气体为清理介质,能有效地避免液体清理介质对清理物件的再次污染。利用外接进口真空泵,清理腔体内的等离子体冲刷待清理物件的的表面,可以在短时间内彻底清理有(机)污染物。同时污染物被进口真空泵抽走,从而达到清理的目的。在特定的环境中,其属性可以根据不同的产品的表面而改变。等离子体使用于产品的表面,重组产品的表面的分子化学键,形成新的的表面特性。
二、真空等离子体设备的基本构造
根据真空等离子体设备使用的需要,可以选择多种结构的真空等离子体设备,也可以选择无用气型,通用的调节装置包括真空室、进口真空泵、高频电源、接触器、气体输入系统、工作输送系统和控制系统等。进口真空泵一般采用旋转泵,高频电源一般采用13.56兆赫无线电波。
三、真空等离子体设备工作流程
1.清洁后的工件送入真空室并固定好,启动运转装置,开始排气,使真空室的真空度达到一百帕标准真空。通常的排气时间大约2毫秒。
2.向真空室中注入等离子清洗用的气体,并保持压力为一百帕。根据不使用的清洁产品,可以选择O2、N2或Ar2。
3.对真空室电极和接地装置之间施加高频电压,会引起气体破裂,产生离子化使用,使电浆利用辉光放电产生电浆。将真空室产生的等离子体完(全)覆盖在处理后的工件上,真空等离子体设备开始清理运作。一般的清理过程会持续几十秒到几分钟。
4.真空等离子体设备清洁完毕后,切断高频电压,把气体和蒸发的污物排出,同时把气体压入真空室内,使空气压力升高,使空气压力上升。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-08-14 13:55
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真空等离子体设备清洗产品前必须要做的准备有哪些?
一、真空等离子体设备的工作原理
真空等离子体设备以气体为清理介质,能有效地避免液体清理介质对清理物件的再次污染。利用外接进口真空泵,清理腔体内的等离子体冲刷待清理物件的的表面,可以在短时间内彻底清理有(机)污染物。同时污染物被进口真空泵抽走,从而达到清理的目的。在特定的环境中,其属性可以根据不同的产品的表面而改变。等离子体使用于产品的表面,重组产品的表面的分子化学键,形成新的的表面特性。

真空等离子体设备二、真空等离子体设备的基本构造
根据真空等离子体设备使用的需要,可以选择多种结构的真空等离子体设备,也可以选择无用气型,通用的调节装置包括真空室、进口真空泵、高频电源、接触器、气体输入系统、工作输送系统和控制系统等。进口真空泵一般采用旋转泵,高频电源一般采用13.56兆赫无线电波。
三、真空等离子体设备工作流程
1.清洁后的工件送入真空室并固定好,启动运转装置,开始排气,使真空室的真空度达到一百帕标准真空。通常的排气时间大约2毫秒。
2.向真空室中注入等离子清洗用的气体,并保持压力为一百帕。根据不使用的清洁产品,可以选择O2、N2或Ar2。
3.对真空室电极和接地装置之间施加高频电压,会引起气体破裂,产生离子化使用,使电浆利用辉光放电产生电浆。将真空室产生的等离子体完(全)覆盖在处理后的工件上,真空等离子体设备开始清理运作。一般的清理过程会持续几十秒到几分钟。
4.真空等离子体设备清洁完毕后,切断高频电压,把气体和蒸发的污物排出,同时把气体压入真空室内,使空气压力升高,使空气压力上升。

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