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真空等离子设备的工作流程需要哪些条件配合进行化学和物理反应

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-08-07
  • 访问量:

【概要描述】真空等离子设备的工作流程需要哪些条件配合进行化学和物理反应       真空等离子设备的工作流程须要以气体为冲洗介质进行化学和物理反应,高(效)规避了溶液冲洗介质对被冲洗物体的二次污染: (1)冲洗过的工件送到真空室等离子机并固定,启动运转装置,開始排气口,使真空室真空等离子设备内真空程度达到十帕之间的标准真空值。一般排气口(时间2分钟之间)。 (2)将真空等离子设备用气体引入真空室等离子设备,使其压力保持在一百帕。根据冲洗材料的不同,可以选择o2、H2、AR2或n2等气体。 (3)在真空室等离子设备的电位和接地间施加压力高频率电压,破坏气体,通过光放电发生离子体和等离子体。将真空室发生的等离子体完全包覆在被处理工件上,開始清洁工作。一般冲洗处理持续10s到10min。 (4)冲洗真空等离子设备后,切断高频率电压,排出气体和汽化污垢,同时向真空室内鼓入空气,将气压升至大气压; 传统湿法工艺相比,真空等离子设备具有以下八个优点: (1)真空等离子设备清洗后,被冲洗的物体已很干燥,无需干燥处理即可送到下一道工序; (2)不使用三氯乙烯ODS有危害的溶剂,真空等离子体设备清洗后不发生有危害的杂物,是生态环保的绿色冲洗方法 (3)在电磁波范畴内高频率发生的等离子体不同于激光等直射光,指向性不强,可以深入到物体的微孔和凹陷内,完成冲洗任务,无需考虑被冲洗物体形状的影响,这些难以冲洗的部位的冲洗(效)果类似氟利昂。 (4)整个真空等离子设备的冲洗过程可以在几分钟内完成,因而具有高(效)率的特点; (5)真空等离子设备须要把控一般在一百帕的真空值,在I厂具体生产中易于实现。该装置的设备成本不高,冲洗过程中不需要使用昂贵的有(机)溶剂,因而低于传统的冲洗l艺术 (6)由于无需运输、储存、排放清洗液等处理措施,生产现场易于保持清洁卫生; (7)真空等离子设备的较大技术特征是,不将处理对象分开,可处理不同基板,无论是金属、半导体、氧化物或聚合物(如聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等聚合物),都能比较好地处理等离子体,因而尤其适用不耐高温、不耐溶剂的基板。并且可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分冲洗; (8)在完成真空等离子设备去污的同时,还可以改变材料本身的面上的性能,如加强面上的亲水性能和膜的粘合力,这在很多使用中很重要。

真空等离子设备的工作流程需要哪些条件配合进行化学和物理反应

【概要描述】真空等离子设备的工作流程需要哪些条件配合进行化学和物理反应
      真空等离子设备的工作流程须要以气体为冲洗介质进行化学和物理反应,高(效)规避了溶液冲洗介质对被冲洗物体的二次污染:
(1)冲洗过的工件送到真空室等离子机并固定,启动运转装置,開始排气口,使真空室真空等离子设备内真空程度达到十帕之间的标准真空值。一般排气口(时间2分钟之间)。
(2)将真空等离子设备用气体引入真空室等离子设备,使其压力保持在一百帕。根据冲洗材料的不同,可以选择o2、H2、AR2或n2等气体。
(3)在真空室等离子设备的电位和接地间施加压力高频率电压,破坏气体,通过光放电发生离子体和等离子体。将真空室发生的等离子体完全包覆在被处理工件上,開始清洁工作。一般冲洗处理持续10s到10min。
(4)冲洗真空等离子设备后,切断高频率电压,排出气体和汽化污垢,同时向真空室内鼓入空气,将气压升至大气压;
传统湿法工艺相比,真空等离子设备具有以下八个优点:
(1)真空等离子设备清洗后,被冲洗的物体已很干燥,无需干燥处理即可送到下一道工序;
(2)不使用三氯乙烯ODS有危害的溶剂,真空等离子体设备清洗后不发生有危害的杂物,是生态环保的绿色冲洗方法
(3)在电磁波范畴内高频率发生的等离子体不同于激光等直射光,指向性不强,可以深入到物体的微孔和凹陷内,完成冲洗任务,无需考虑被冲洗物体形状的影响,这些难以冲洗的部位的冲洗(效)果类似氟利昂。
(4)整个真空等离子设备的冲洗过程可以在几分钟内完成,因而具有高(效)率的特点;
(5)真空等离子设备须要把控一般在一百帕的真空值,在I厂具体生产中易于实现。该装置的设备成本不高,冲洗过程中不需要使用昂贵的有(机)溶剂,因而低于传统的冲洗l艺术
(6)由于无需运输、储存、排放清洗液等处理措施,生产现场易于保持清洁卫生;
(7)真空等离子设备的较大技术特征是,不将处理对象分开,可处理不同基板,无论是金属、半导体、氧化物或聚合物(如聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等聚合物),都能比较好地处理等离子体,因而尤其适用不耐高温、不耐溶剂的基板。并且可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分冲洗;
(8)在完成真空等离子设备去污的同时,还可以改变材料本身的面上的性能,如加强面上的亲水性能和膜的粘合力,这在很多使用中很重要。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-08-07 15:48
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       真空等离子设备的工作流程须要以气体为冲洗介质进行化学和物理反应,高(效)规避了溶液冲洗介质对被冲洗物体的二次污染:
(1)冲洗过的工件送到真空室等离子机并固定,启动运转装置,開始排气口,使真空室真空等离子设备内真空程度达到十帕之间的标准真空值。一般排气口(时间2分钟之间)。
(2)将真空等离子设备用气体引入真空室等离子设备,使其压力保持在一百帕。根据冲洗材料的不同,可以选择o2、H2、AR2或n2等气体。
(3)在真空室等离子设备的电位和接地间施加压力高频率电压,破坏气体,通过光放电发生离子体和等离子体。将真空室发生的等离子体完全包覆在被处理工件上,開始清洁工作。一般冲洗处理持续10s到10min。

真空等离子设备(4)冲洗真空等离子设备后,切断高频率电压,排出气体和汽化污垢,同时向真空室内鼓入空气,将气压升至大气压;
传统湿法工艺相比,真空等离子设备具有以下八个优点:
(1)真空等离子设备清洗后,被冲洗的物体已很干燥,无需干燥处理即可送到下一道工序;
(2)不使用三氯乙烯ODS有危害的溶剂,真空等离子体设备清洗后不发生有危害的杂物,是生态环保的绿色冲洗方法
(3)在电磁波范畴内高频率发生的等离子体不同于激光等直射光,指向性不强,可以深入到物体的微孔和凹陷内,完成冲洗任务,无需考虑被冲洗物体形状的影响,这些难以冲洗的部位的冲洗(效)果类似氟利昂。
(4)整个真空等离子设备的冲洗过程可以在几分钟内完成,因而具有高(效)率的特点;
(5)真空等离子设备须要把控一般在一百帕的真空值,在I厂具体生产中易于实现。该装置的设备成本不高,冲洗过程中不需要使用昂贵的有(机)溶剂,因而低于传统的冲洗l艺术
(6)由于无需运输、储存、排放清洗液等处理措施,生产现场易于保持清洁卫生;
(7)真空等离子设备的较大技术特征是,不将处理对象分开,可处理不同基板,无论是金属、半导体、氧化物或聚合物(如聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等聚合物),都能比较好地处理等离子体,因而尤其适用不耐高温、不耐溶剂的基板。并且可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分冲洗;
(8)在完成真空等离子设备去污的同时,还可以改变材料本身的面上的性能,如加强面上的亲水性能和膜的粘合力,这在很多使用中很重要。

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