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4大层面描述常压等离子机和真空等离子机在结构和使用上的关键差异

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-08-05
  • 访问量:

【概要描述】4大层面描述常压等离子机和真空等离子机在结构和使用上的关键差异: 一、等离子机喷嘴的结构各不相同 常压等离子机可以搭配多个喷嘴,或者是直喷等离子。这种喷嘴等离子体集中,强度大,能量高,但面积相对较小。还有一种旋喷,强度相对较小,但等离子体喷射面积相对较宽。真空腔中的等离子体是不定向的,只要暴露在外表面,就可以清洗,这也是真空等离子体清洗机的一大优势。常压等离子体只能清洗某种材料的局部或相对平整的东西,最典型的是手机玻璃板。 二、等离子机所选择的气体层面存在差异。 真空腔内各种复杂工艺的精确控制。通常有多种气体可供选择。常用的有H2、O2、Ar2等。每种气体性质不同,效果也不同。混合气体经常被使用。常压等离子体通常用于普通压缩空气,当然也可以接入氮气。例如,如果电晕机中有一些特殊要求,可以接入N2处理。 三、等离子体清洗温度 常压等离子机的温度相对较高,但大多数常压等离子机安装在装配线上,材料一个接一个地通过,不会在喷枪下停留很长时间。因此,温度过高。如果停留时间过长,即使只有几秒钟,温度也会急剧上升。也是因为温度高,所以一般脆弱的东西用真空机清洗。 四、等离子机产生的条件 常压等离子机使用压缩空气,气体达到0.2mpa时产生等离子体,但真空等离子体机不同,真空等离子体机需要真空,一般真空腔在25pa以下时产生等离子体。         以上从四个层面描述了等离子设备的结构和使用,常压等离子机和真空等离子机的关键差异。

4大层面描述常压等离子机和真空等离子机在结构和使用上的关键差异

【概要描述】4大层面描述常压等离子机和真空等离子机在结构和使用上的关键差异:
一、等离子机喷嘴的结构各不相同
常压等离子机可以搭配多个喷嘴,或者是直喷等离子。这种喷嘴等离子体集中,强度大,能量高,但面积相对较小。还有一种旋喷,强度相对较小,但等离子体喷射面积相对较宽。真空腔中的等离子体是不定向的,只要暴露在外表面,就可以清洗,这也是真空等离子体清洗机的一大优势。常压等离子体只能清洗某种材料的局部或相对平整的东西,最典型的是手机玻璃板。
二、等离子机所选择的气体层面存在差异。
真空腔内各种复杂工艺的精确控制。通常有多种气体可供选择。常用的有H2、O2、Ar2等。每种气体性质不同,效果也不同。混合气体经常被使用。常压等离子体通常用于普通压缩空气,当然也可以接入氮气。例如,如果电晕机中有一些特殊要求,可以接入N2处理。
三、等离子体清洗温度
常压等离子机的温度相对较高,但大多数常压等离子机安装在装配线上,材料一个接一个地通过,不会在喷枪下停留很长时间。因此,温度过高。如果停留时间过长,即使只有几秒钟,温度也会急剧上升。也是因为温度高,所以一般脆弱的东西用真空机清洗。
四、等离子机产生的条件
常压等离子机使用压缩空气,气体达到0.2mpa时产生等离子体,但真空等离子体机不同,真空等离子体机需要真空,一般真空腔在25pa以下时产生等离子体。
        以上从四个层面描述了等离子设备的结构和使用,常压等离子机和真空等离子机的关键差异。

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-08-05 15:14
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4大层面描述常压等离子机和真空等离子机在结构和使用上的关键差异:
一、等离子机喷嘴的结构各不相同
常压等离子机可以搭配多个喷嘴,或者是直喷等离子。这种喷嘴等离子体集中,强度大,能量高,但面积相对较小。还有一种旋喷,强度相对较小,但等离子体喷射面积相对较宽。真空腔中的等离子体是不定向的,只要暴露在外表面,就可以清洗,这也是真空等离子体清洗机的一大优势。常压等离子体只能清洗某种材料的局部或相对平整的东西,最典型的是手机玻璃板。

等离子机二、等离子机所选择的气体层面存在差异。
真空腔内各种复杂工艺的精确控制。通常有多种气体可供选择。常用的有H2、O2、Ar2等。每种气体性质不同,效果也不同。混合气体经常被使用。常压等离子体通常用于普通压缩空气,当然也可以接入氮气。例如,如果电晕机中有一些特殊要求,可以接入N2处理。
三、等离子体清洗温度
常压等离子机的温度相对较高,但大多数常压等离子机安装在装配线上,材料一个接一个地通过,不会在喷枪下停留很长时间。因此,温度过高。如果停留时间过长,即使只有几秒钟,温度也会急剧上升。也是因为温度高,所以一般脆弱的东西用真空机清洗。
四、等离子机产生的条件
常压等离子机使用压缩空气,气体达到0.2mpa时产生等离子体,但真空等离子体机不同,真空等离子体机需要真空,一般真空腔在25pa以下时产生等离子体。
        以上从四个层面描述了等离子设备的结构和使用,常压等离子机和真空等离子机的关键差异。

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