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两大等离子体净化分类讲明白等离子体处理设备

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-08-05
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【概要描述】

两大等离子体净化分类讲明白等离子体处理设备

【概要描述】

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-08-05 09:38
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两大等离子体净化分类讲明白等离子体处理设备:
一、等离子体处理设备反应类型分类
       等离子体处理设备与块体面上的作用可分成物理和化合反应。物理反应原则是活性颗粒轰击待除污面上,使污染物脱离面上,然后被真空泵吸走;化合反应原则是各种活性颗粒和污染物作用带来挥发性物质,然后由真空泵吸走挥发性物质。
       等离子体处理设备主要是物理反应,也称为溅射腐化(SPE)或离子铣削(IM)。其益处是不发生化合反应,等离子体处理设备的去污表面不会留下其他氧化物质,可以保持被净化物的化学纯度,腐化作用各向异性;弱项是对面毁坏大,对被净化表面的各种物质选择性差,腐化速度低。化学等离子体净化方式具有净化速度快、选择性好、去除有(机)物等益处,弱项是会在面上带来氧化物质。与物理反应相较,化合反应的弱项难以克服。此外,2种作用原则对面上微观外观的影响显著不同。物理作用可使表面表面变得更粗糙,从而改变表面的粘结性。在表面反应原理中,等离子体净化起了关键的作用,即作用离子体腐化和作用电子束腐化,这2种等离子体净化相互促进,离子轰击毁坏被净化面,削弱化学键,形成原子状态,易于吸收作用剂,离子碰撞使被净化物加热。
       传统的等离子处理设备物理净化工艺为氩气等离子清洗。氩自身也是稀有气体,等离子体的氩不会与面上发生作用,而是通过离子轰击使面上干净。典型的等离子化学清洗技术是氧等离子清洗。在电浆中带来的氧自由基非常活泼,容易与烃类作用生成CO2、CO、H2O等挥发性物质,从而有效地去除面上污染物。

等离子体处理设备二、等离子体处理设备激起頻率分类
       等离子体的相对密度与激起頻率有关:nc=1.2425×108v2,这儿nc是等离子态相对密度(cm-3),v是激起頻率(赫兹)。
       现阶段较常用的等离子体处理设备有3种激起頻率:激起頻率40kHz的等离子体为超声等离子体、13.56兆赫兹等离子体处理设备和2.45GHz等离子体处理设备。
       各种等离子处理装置带来相同的自偏压。超声波的自偏压约有是一千伏,频射等离子体处理设备的自偏压约有是二百五十伏,微波射频的自偏压很低,仅有十几伏,3种等离子体的原则也不同。超声等离子体处理设备的作用是物理反应,频射等离子体处理设备的作用是物理反应和化合反应,微波射频等离子处理装置的作用是化合反应。超声波等离子体处理设备净化对净化面上有很大影响,因此在实际的半导体器件生产制造用途中,多选取频射等离子体净化和微波射频等离子体处理设备。

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