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CRF常压等离子表面处理器在哪些方面要优于真空设备?

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-08-03
  • 访问量:

【概要描述】       等离子表面处理器-其特征是低成本,能量消耗高,產品高。适用表面平整,或对產品进行局部处理。常常采用较多的是手机装配行业,都是一条等离子清洗线。智能手机行业中的对等离子清洗工序只规定达到(效)果,且材料耐高温,对生产量规定较高,适用表面处理器。 与常压等离子表面处理器不一样,真空等离子表面处理器正在真空腔中进行清理,需要抽真空,不光(效)果全面,而且工序可控。若清洁材料对清洁工序规定较高,正好到达多少达因值,或材料本身较脆弱,如ic芯片。因此,采用真空等离子表面处理器是一个较好的选择。 空气等离子与真空等离子采用的区别如下: 1)喷嘴结构不一样:常压机有两种喷嘴,要么是直喷等离子。这种喷嘴等离子集中,强度大,能量消耗高,但面积相对较小。还有一种旋喷,强度相对较小,但等离子喷射面积相对较大。目前旋喷头可以直径8厘米。真空室内的等离子没有定向,只要暴露在外表面即可清理,这也是真空真空的一大优点。常压等离子只能清理某种材料的局部或相对平整的东西,典型的是手机玻璃板和tp框。 2)选择的汽体方面存在差异:真空腔内对各种繁杂工序进行精确控制。常常有多种汽体可供选择。常用的有H2,O2,Ar2等。每种汽体的性质各不相同,所能到达的效果也各不相同。混合气常常用以常压等离子表面处理器,常用于普通压缩空气。当然,氮气也可以连接到电晕机中。如果有一些特殊要求,可以连接到氮气处理。国内很多企业还是做不到,但好消息是东信可以做到。 3)清洁温度:常压式等离子表面处理器的温度较高,但常压式等离子大多安装在生产流水线上,材料一个接一个地通过,不会在喷枪下停留很长时间。因此温度也过去了,如果停留时间过长,即使只有几秒钟,温度也会急剧上升。又因为温度高,所以一般较为脆弱的东西都是用真空机清理。无需繁杂的真空等离子清洗机。根据电源頻率,以40KHz和13.56兆赫兹为例:正常情况下,材料放入室内工作,頻率小于40KHz。此外,机器内部配有强冷风扇,处理时间不长,材料表面温度会与室温一致。頻率为13.56兆赫兹,常常小于30°。因此处理一些受热容易发生变形的材料,低温真空的材料在再合适不过了。 4)等离子形成的条件:常压型等离子表面处理器采用的是压缩空气,汽体到达0.2兆帕便会形成等离子,可是真空等离子表面处理器不一样,真空等离子表面处理需要真空,一般真空腔会在低于25pa时形成等离子。        此外,通常情况下,真空等离子表面处理器的价钱较为高,当然CRF常压等离子表面处理器也需看经营规模,有一些生产流水线上同時清理十多把喷枪,算下来价钱也不便宜。可是,材料可以用真空等离子处理,也可以用常压常压等离子表面处理器处理。常压等离子表面处理器不光价钱便宜,生产量也很高。

CRF常压等离子表面处理器在哪些方面要优于真空设备?

【概要描述】       等离子表面处理器-其特征是低成本,能量消耗高,產品高。适用表面平整,或对產品进行局部处理。常常采用较多的是手机装配行业,都是一条等离子清洗线。智能手机行业中的对等离子清洗工序只规定达到(效)果,且材料耐高温,对生产量规定较高,适用表面处理器。
与常压等离子表面处理器不一样,真空等离子表面处理器正在真空腔中进行清理,需要抽真空,不光(效)果全面,而且工序可控。若清洁材料对清洁工序规定较高,正好到达多少达因值,或材料本身较脆弱,如ic芯片。因此,采用真空等离子表面处理器是一个较好的选择。
空气等离子与真空等离子采用的区别如下:
1)喷嘴结构不一样:常压机有两种喷嘴,要么是直喷等离子。这种喷嘴等离子集中,强度大,能量消耗高,但面积相对较小。还有一种旋喷,强度相对较小,但等离子喷射面积相对较大。目前旋喷头可以直径8厘米。真空室内的等离子没有定向,只要暴露在外表面即可清理,这也是真空真空的一大优点。常压等离子只能清理某种材料的局部或相对平整的东西,典型的是手机玻璃板和tp框。
2)选择的汽体方面存在差异:真空腔内对各种繁杂工序进行精确控制。常常有多种汽体可供选择。常用的有H2,O2,Ar2等。每种汽体的性质各不相同,所能到达的效果也各不相同。混合气常常用以常压等离子表面处理器,常用于普通压缩空气。当然,氮气也可以连接到电晕机中。如果有一些特殊要求,可以连接到氮气处理。国内很多企业还是做不到,但好消息是东信可以做到。
3)清洁温度:常压式等离子表面处理器的温度较高,但常压式等离子大多安装在生产流水线上,材料一个接一个地通过,不会在喷枪下停留很长时间。因此温度也过去了,如果停留时间过长,即使只有几秒钟,温度也会急剧上升。又因为温度高,所以一般较为脆弱的东西都是用真空机清理。无需繁杂的真空等离子清洗机。根据电源頻率,以40KHz和13.56兆赫兹为例:正常情况下,材料放入室内工作,頻率小于40KHz。此外,机器内部配有强冷风扇,处理时间不长,材料表面温度会与室温一致。頻率为13.56兆赫兹,常常小于30°。因此处理一些受热容易发生变形的材料,低温真空的材料在再合适不过了。
4)等离子形成的条件:常压型等离子表面处理器采用的是压缩空气,汽体到达0.2兆帕便会形成等离子,可是真空等离子表面处理器不一样,真空等离子表面处理需要真空,一般真空腔会在低于25pa时形成等离子。
       此外,通常情况下,真空等离子表面处理器的价钱较为高,当然CRF常压等离子表面处理器也需看经营规模,有一些生产流水线上同時清理十多把喷枪,算下来价钱也不便宜。可是,材料可以用真空等离子处理,也可以用常压常压等离子表面处理器处理。常压等离子表面处理器不光价钱便宜,生产量也很高。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-08-03 22:27
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       等离子表面处理器-其特征是低成本,能量消耗高,產品高。适用表面平整,或对產品进行局部处理。常常采用较多的是手机装配行业,都是一条等离子清洗线。智能手机行业中的对等离子清洗工序只规定达到(效)果,且材料耐高温,对生产量规定较高,适用表面处理器。
与常压等离子表面处理器不一样,真空等离子表面处理器正在真空腔中进行清理,需要抽真空,不光(效)果全面,而且工序可控。若清洁材料对清洁工序规定较高,正好到达多少达因值,或材料本身较脆弱,如ic芯片。因此,采用真空等离子表面处理器是一个较好的选择。
空气等离子与真空等离子采用的区别如下:

等离子表面处理器1)喷嘴结构不一样:常压机有两种喷嘴,要么是直喷等离子。这种喷嘴等离子集中,强度大,能量消耗高,但面积相对较小。还有一种旋喷,强度相对较小,但等离子喷射面积相对较大。目前旋喷头可以直径8厘米。真空室内的等离子没有定向,只要暴露在外表面即可清理,这也是真空真空的一大优点。常压等离子只能清理某种材料的局部或相对平整的东西,典型的是手机玻璃板和tp框。
2)选择的汽体方面存在差异:真空腔内对各种繁杂工序进行精确控制。常常有多种汽体可供选择。常用的有H2,O2,Ar2等。每种汽体的性质各不相同,所能到达的效果也各不相同。混合气常常用以常压等离子表面处理器,常用于普通压缩空气。当然,氮气也可以连接到电晕机中。如果有一些特殊要求,可以连接到氮气处理。国内很多企业还是做不到,但好消息是东信可以做到。

等离子表面处理器3)清洁温度:常压式等离子表面处理器的温度较高,但常压式等离子大多安装在生产流水线上,材料一个接一个地通过,不会在喷枪下停留很长时间。因此温度也过去了,如果停留时间过长,即使只有几秒钟,温度也会急剧上升。又因为温度高,所以一般较为脆弱的东西都是用真空机清理。无需繁杂的真空等离子清洗机。根据电源頻率,以40KHz和13.56兆赫兹为例:正常情况下,材料放入室内工作,頻率小于40KHz。此外,机器内部配有强冷风扇,处理时间不长,材料表面温度会与室温一致。頻率为13.56兆赫兹,常常小于30°。因此处理一些受热容易发生变形的材料,低温真空的材料在再合适不过了。
4)等离子形成的条件:常压型等离子表面处理器采用的是压缩空气,汽体到达0.2兆帕便会形成等离子,可是真空等离子表面处理器不一样,真空等离子表面处理需要真空,一般真空腔会在低于25pa时形成等离子。
       此外,通常情况下,真空等离子表面处理器的价钱较为高,当然CRF常压等离子表面处理器也需看经营规模,有一些生产流水线上同時清理十多把喷枪,算下来价钱也不便宜。可是,材料可以用真空等离子处理,也可以用常压常压等离子表面处理器处理。常压等离子表面处理器不光价钱便宜,生产量也很高。

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