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4大影响小型等离子处理器使用的因素

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-07-31
  • 访问量:

【概要描述】       随着科技的进步,小型等离子处理器在现代工业上高速发展,原因也很容易,挑选小型等离子处理器是因为它工作作简单、工作效率高、成本低、生态环保且除胶后表面光洁。下面是由诚峰智造小编为大伙介绍等离子除胶机在使用中四大影响因素,我希望能帮助到大伙。 一、小型等离子处理器調整合适的频率        频点越高,氧气就越容易电离形成等离子体。频点过高,导致电子器件震幅低于其平均自由程,则电子器件与空气分子撞击的几率反而减小,使电离率下降。经常使用的频率是13.56MHz2.45GHZ。 二、小型等离子处理器調整合适功率        对于一定量的空气,功率大,等离子体中的活性颗粒密度大,除胶速度快;但当功率增加到一定值时,反应能耗的活性离子达到饱满,功率再大,除胶速度也不会显著增加。由于功率大,基板温度高,应根据技术要求调节功率。 三、小型等离子处理器調整合适的真空值        适当的真空值可以增加电子设备运动的平均自由程,从电场获得的能量大,有利于电离。其他当O2流量必须是守时的时候,真空值越高,氧气的相对份额就越大,活性颗粒的浓度就越大。真空值过大,则活性粒子浓度反而(降)低。 等离子除胶机,就选CRF,自主研发生产,拥有自己的专利证书 四、小型等离子处理器O2流量的調整        O2流量大,活性粒子密度大,除胶速率加速;但流量太大,则离子的复合概率增大,电子器件运动的平均自由程缩短,电离强度反而(降)低。如果反应室的压力保持不变,流量增加,抽出的空气量也会增加,不参与反应的活性颗粒的抽出量也会增加,因此流量增加对除胶速率的影响不是很显著。        以上便是诚峰智造小型等离子处理器厂家为大伙整理分享,是不是对等离子除胶机的使用有了更深入的了解,如果您还有什么疑问,欢迎您咨询。

4大影响小型等离子处理器使用的因素

【概要描述】       随着科技的进步,小型等离子处理器在现代工业上高速发展,原因也很容易,挑选小型等离子处理器是因为它工作作简单、工作效率高、成本低、生态环保且除胶后表面光洁。下面是由诚峰智造小编为大伙介绍等离子除胶机在使用中四大影响因素,我希望能帮助到大伙。
一、小型等离子处理器調整合适的频率
       频点越高,氧气就越容易电离形成等离子体。频点过高,导致电子器件震幅低于其平均自由程,则电子器件与空气分子撞击的几率反而减小,使电离率下降。经常使用的频率是13.56MHz2.45GHZ。
二、小型等离子处理器調整合适功率
       对于一定量的空气,功率大,等离子体中的活性颗粒密度大,除胶速度快;但当功率增加到一定值时,反应能耗的活性离子达到饱满,功率再大,除胶速度也不会显著增加。由于功率大,基板温度高,应根据技术要求调节功率。
三、小型等离子处理器調整合适的真空值
       适当的真空值可以增加电子设备运动的平均自由程,从电场获得的能量大,有利于电离。其他当O2流量必须是守时的时候,真空值越高,氧气的相对份额就越大,活性颗粒的浓度就越大。真空值过大,则活性粒子浓度反而(降)低。
等离子除胶机,就选CRF,自主研发生产,拥有自己的专利证书
四、小型等离子处理器O2流量的調整
       O2流量大,活性粒子密度大,除胶速率加速;但流量太大,则离子的复合概率增大,电子器件运动的平均自由程缩短,电离强度反而(降)低。如果反应室的压力保持不变,流量增加,抽出的空气量也会增加,不参与反应的活性颗粒的抽出量也会增加,因此流量增加对除胶速率的影响不是很显著。
       以上便是诚峰智造小型等离子处理器厂家为大伙整理分享,是不是对等离子除胶机的使用有了更深入的了解,如果您还有什么疑问,欢迎您咨询。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-07-31 12:53
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       随着科技的进步,小型等离子处理器在现代工业上高速发展,原因也很容易,挑选小型等离子处理器是因为它工作作简单、工作效率高、成本低、生态环保且除胶后表面光洁。下面是由诚峰智造小编为大伙介绍等离子除胶机在使用中四大影响因素,我希望能帮助到大伙。
一、小型等离子处理器調整合适的频率
       频点越高,氧气就越容易电离形成等离子体。频点过高,导致电子器件震幅低于其平均自由程,则电子器件与空气分子撞击的几率反而减小,使电离率下降。经常使用的频率是13.56MHz2.45GHZ。

小型等离子处理器二、小型等离子处理器調整合适功率
       对于一定量的空气,功率大,等离子体中的活性颗粒密度大,除胶速度快;但当功率增加到一定值时,反应能耗的活性离子达到饱满,功率再大,除胶速度也不会显著增加。由于功率大,基板温度高,应根据技术要求调节功率。
三、小型等离子处理器調整合适的真空值
       适当的真空值可以增加电子设备运动的平均自由程,从电场获得的能量大,有利于电离。其他当O2流量必须是守时的时候,真空值越高,氧气的相对份额就越大,活性颗粒的浓度就越大。真空值过大,则活性粒子浓度反而(降)低。
等离子除胶机,就选CRF,自主研发生产,拥有自己的专利证书
四、小型等离子处理器O2流量的調整
       O2流量大,活性粒子密度大,除胶速率加速;但流量太大,则离子的复合概率增大,电子器件运动的平均自由程缩短,电离强度反而(降)低。如果反应室的压力保持不变,流量增加,抽出的空气量也会增加,不参与反应的活性颗粒的抽出量也会增加,因此流量增加对除胶速率的影响不是很显著。
       以上便是诚峰智造小型等离子处理器厂家为大伙整理分享,是不是对等离子除胶机的使用有了更深入的了解,如果您还有什么疑问,欢迎您咨询。

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