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电解等离子体设备在抛光液处理中的实验及数据分析研究

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-07-21
  • 访问量:

【概要描述】       电解等离子体设备抛光处理技术是一种特殊的加工方式,它是一种“绿色”、高(效)率的金属物品抛光处理的特殊方式,它根据物品与抛光液之间形成的气层进行放电处理。它的抛光液是低浓度的盐溶液,并能根据补充抛光处理盐而循环使用,解决了机械抛光难加工形状复杂物品的难题,解决了化学、电解抛光等难以避免的污染问题,具有广阔的应用前景。        探讨了这种抛光处理方式能达到微观整平的原因,揭示了电解液等离子体设备抛光处理的基本原理。根据相关理论,研究了抛光液成分对磨光功效的影响,发现电解液等离子体设备研磨抛光是一种动态环节,它的放电去除率高,对反应产生速度快是抛光抛光的前提。通过结果和剖析,确定了在抛光液中以差异方式潜入物品时的伏安特性曲线,以及电流、电压随時间的改变曲线,确定出合理的物品下潜方式。采用相关仪器,对不锈钢试件的表层状态、粗糙度、耐蚀性、微观形貌、表层化学成分、微观形貌、表层化学成分及显微便度进行了研究。通过分析等离子体设备抛光材料的导热和获得物体表面势能的方法,发现物体表面热流密度是影响物体表面势能的重要因素,其主要来源是电子冲击。试验表明,在稳定的研磨状态下,材料的去除速度与电流密度成正比关系。        根据等离子体设备对物品抛光处理电压、浓度、温度、物品潜入深度、物品祛除速度等因素的剖析,对试验结果进行了研究。建立了表面粗糙度随抛光时间变化的数学分析模型,确定在一定条件下,经不同抛光处理时间后,试件表面真实粗糙度的实际值,利用这些数据与数学分析模型进行非线性拟合,通过对数学分析模型的拟合修正,得到的数学分析模型与试验数据吻合较好。并对抛光液温度的差异条件下,分别进行了两组试验,查验修正后的数学分析模型与实际抛光处理基本一致。

电解等离子体设备在抛光液处理中的实验及数据分析研究

【概要描述】       电解等离子体设备抛光处理技术是一种特殊的加工方式,它是一种“绿色”、高(效)率的金属物品抛光处理的特殊方式,它根据物品与抛光液之间形成的气层进行放电处理。它的抛光液是低浓度的盐溶液,并能根据补充抛光处理盐而循环使用,解决了机械抛光难加工形状复杂物品的难题,解决了化学、电解抛光等难以避免的污染问题,具有广阔的应用前景。
       探讨了这种抛光处理方式能达到微观整平的原因,揭示了电解液等离子体设备抛光处理的基本原理。根据相关理论,研究了抛光液成分对磨光功效的影响,发现电解液等离子体设备研磨抛光是一种动态环节,它的放电去除率高,对反应产生速度快是抛光抛光的前提。通过结果和剖析,确定了在抛光液中以差异方式潜入物品时的伏安特性曲线,以及电流、电压随時间的改变曲线,确定出合理的物品下潜方式。采用相关仪器,对不锈钢试件的表层状态、粗糙度、耐蚀性、微观形貌、表层化学成分、微观形貌、表层化学成分及显微便度进行了研究。通过分析等离子体设备抛光材料的导热和获得物体表面势能的方法,发现物体表面热流密度是影响物体表面势能的重要因素,其主要来源是电子冲击。试验表明,在稳定的研磨状态下,材料的去除速度与电流密度成正比关系。
       根据等离子体设备对物品抛光处理电压、浓度、温度、物品潜入深度、物品祛除速度等因素的剖析,对试验结果进行了研究。建立了表面粗糙度随抛光时间变化的数学分析模型,确定在一定条件下,经不同抛光处理时间后,试件表面真实粗糙度的实际值,利用这些数据与数学分析模型进行非线性拟合,通过对数学分析模型的拟合修正,得到的数学分析模型与试验数据吻合较好。并对抛光液温度的差异条件下,分别进行了两组试验,查验修正后的数学分析模型与实际抛光处理基本一致。

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  • 发布时间:2021-07-21 11:33
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       电解等离子体设备抛光处理技术是一种特殊的加工方式,它是一种“绿色”、高(效)率的金属物品抛光处理的特殊方式,它根据物品与抛光液之间形成的气层进行放电处理。它的抛光液是低浓度的盐溶液,并能根据补充抛光处理盐而循环使用,解决了机械抛光难加工形状复杂物品的难题,解决了化学、电解抛光等难以避免的污染问题,具有广阔的应用前景。
等离子体设备       探讨了这种抛光处理方式能达到微观整平的原因,揭示了电解液等离子体设备抛光处理的基本原理。根据相关理论,研究了抛光液成分对磨光功效的影响,发现电解液等离子体设备研磨抛光是一种动态环节,它的放电去除率高,对反应产生速度快是抛光抛光的前提。通过结果和剖析,确定了在抛光液中以差异方式潜入物品时的伏安特性曲线,以及电流、电压随時间的改变曲线,确定出合理的物品下潜方式。采用相关仪器,对不锈钢试件的表层状态、粗糙度、耐蚀性、微观形貌、表层化学成分、微观形貌、表层化学成分及显微便度进行了研究。通过分析等离子体设备抛光材料的导热和获得物体表面势能的方法,发现物体表面热流密度是影响物体表面势能的重要因素,其主要来源是电子冲击。试验表明,在稳定的研磨状态下,材料的去除速度与电流密度成正比关系。
       根据等离子体设备对物品抛光处理电压、浓度、温度、物品潜入深度、物品祛除速度等因素的剖析,对试验结果进行了研究。建立了表面粗糙度随抛光时间变化的数学分析模型,确定在一定条件下,经不同抛光处理时间后,试件表面真实粗糙度的实际值,利用这些数据与数学分析模型进行非线性拟合,通过对数学分析模型的拟合修正,得到的数学分析模型与试验数据吻合较好。并对抛光液温度的差异条件下,分别进行了两组试验,查验修正后的数学分析模型与实际抛光处理基本一致。

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