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等离子体生产制造水平与传统生产制造水平较之有哪几个优势

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:低温等离子设备生产厂家
  • 发布时间:2021-07-20
  • 访问量:

【概要描述】       等离子体生产制造水平与传统生产制造水平较之有哪几个优势,等离子体的功效环节是气固相干化学反应,不消耗水和化学药剂,绿色环保。气体干燥生产全过程不需要降解剂和水,基本不会产生环境问题,节约能源,节约成本,节约能源。联机等离子体清洗机采用自动清洗方式,适用于大型生产线,节省人力,减少劳动成本,大大提高清洗效率,其优势尤其显著。        伴随着工业和消费电子市场的发展,电子设备越来越轻、体积越来越小,这种市场需求在推动着微电子封装小型化的同时,也对封装的可靠性提出了更高的要求,高质量的封装水平能延长其使用时长。在封装过程中,晶片的粘接间隙、低粘接强度、焊球分层或脱落成为制约封装可靠性的重要因素,必须有效去除各种污垢,而不损害其表面特性和电气性能。目前广泛采用的等离子体清洗方法主要有湿法和干法。考虑到环境因素、原材料消耗及未来发展趋势,湿法清洗有较大的局限性,干法清洗明(显)优于湿法清洗。在这些方面,等离子体清洗发展迅速,优势显著。        等离子体是一种电离气体,如电子、离子、原子、分子或自由基的集合。高能电子在清洗过程中,会使气体分子发生高能电子碰撞,使其离解或电离,利用产生的多种微粒轰击被清洁表层或与被清洁表层发生化学反应,有效地去除各种污染物;同时还能加快材料本身的表层性能,如加快表层的润湿性、加快其粘附性等,在许多应用中都有重要意义。机器设备的表层经等离子清洗后,无需在进行干燥生产,因此可以加快整体工艺生产流水线的生产效率;可使设备员不用受到有害溶剂的伤害;等离子体深入到物体内部的微孔和凹陷处清洗,因而不会过分考虑被清洗物体的形状;也能生产各种材料,特别适合不耐高温、不耐溶剂的材料。上述优势,使等离子体清洗水平倍受关注。

等离子体生产制造水平与传统生产制造水平较之有哪几个优势

【概要描述】       等离子体生产制造水平与传统生产制造水平较之有哪几个优势,等离子体的功效环节是气固相干化学反应,不消耗水和化学药剂,绿色环保。气体干燥生产全过程不需要降解剂和水,基本不会产生环境问题,节约能源,节约成本,节约能源。联机等离子体清洗机采用自动清洗方式,适用于大型生产线,节省人力,减少劳动成本,大大提高清洗效率,其优势尤其显著。
       伴随着工业和消费电子市场的发展,电子设备越来越轻、体积越来越小,这种市场需求在推动着微电子封装小型化的同时,也对封装的可靠性提出了更高的要求,高质量的封装水平能延长其使用时长。在封装过程中,晶片的粘接间隙、低粘接强度、焊球分层或脱落成为制约封装可靠性的重要因素,必须有效去除各种污垢,而不损害其表面特性和电气性能。目前广泛采用的等离子体清洗方法主要有湿法和干法。考虑到环境因素、原材料消耗及未来发展趋势,湿法清洗有较大的局限性,干法清洗明(显)优于湿法清洗。在这些方面,等离子体清洗发展迅速,优势显著。
       等离子体是一种电离气体,如电子、离子、原子、分子或自由基的集合。高能电子在清洗过程中,会使气体分子发生高能电子碰撞,使其离解或电离,利用产生的多种微粒轰击被清洁表层或与被清洁表层发生化学反应,有效地去除各种污染物;同时还能加快材料本身的表层性能,如加快表层的润湿性、加快其粘附性等,在许多应用中都有重要意义。机器设备的表层经等离子清洗后,无需在进行干燥生产,因此可以加快整体工艺生产流水线的生产效率;可使设备员不用受到有害溶剂的伤害;等离子体深入到物体内部的微孔和凹陷处清洗,因而不会过分考虑被清洗物体的形状;也能生产各种材料,特别适合不耐高温、不耐溶剂的材料。上述优势,使等离子体清洗水平倍受关注。

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-07-20 15:48
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       等离子体生产制造水平与传统生产制造水平较之有哪几个优势,等离子体的功效环节是气固相干化学反应,不消耗水和化学药剂,绿色环保。气体干燥生产全过程不需要降解剂和水,基本不会产生环境问题,节约能源,节约成本,节约能源。联机等离子体清洗机采用自动清洗方式,适用于大型生产线,节省人力,减少劳动成本,大大提高清洗效率,其优势尤其显著。
等离子体       伴随着工业和消费电子市场的发展,电子设备越来越轻、体积越来越小,这种市场需求在推动着微电子封装小型化的同时,也对封装的可靠性提出了更高的要求,高质量的封装水平能延长其使用时长。在封装过程中,晶片的粘接间隙、低粘接强度、焊球分层或脱落成为制约封装可靠性的重要因素,必须有效去除各种污垢,而不损害其表面特性和电气性能。目前广泛采用的等离子体清洗方法主要有湿法和干法。考虑到环境因素、原材料消耗及未来发展趋势,湿法清洗有较大的局限性,干法清洗明(显)优于湿法清洗。在这些方面,等离子体清洗发展迅速,优势显著。
       等离子体是一种电离气体,如电子、离子、原子、分子或自由基的集合。高能电子在清洗过程中,会使气体分子发生高能电子碰撞,使其离解或电离,利用产生的多种微粒轰击被清洁表层或与被清洁表层发生化学反应,有效地去除各种污染物;同时还能加快材料本身的表层性能,如加快表层的润湿性、加快其粘附性等,在许多应用中都有重要意义。机器设备的表层经等离子清洗后,无需在进行干燥生产,因此可以加快整体工艺生产流水线的生产效率;可使设备员不用受到有害溶剂的伤害;等离子体深入到物体内部的微孔和凹陷处清洗,因而不会过分考虑被清洗物体的形状;也能生产各种材料,特别适合不耐高温、不耐溶剂的材料。上述优势,使等离子体清洗水平倍受关注。

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