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真空等离子清洗机相较于大气等离子清洗机有什么特点

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-07-12
  • 访问量:

【概要描述】       真空等离子清洗机是一种释放等离子体来去除表面污垢的清洗设备。真空等离子清洗机属于电子工业干洗,是在真空泵生产过程中产生符合清洗要求的真空状态,等离子清洗可通过既定的气体分子进行真空、电离等特殊场合,如低压气体亮等。简而言之,等离子体清洗要求在真空中进行(通常约100pa),所以要求真空泵。        真空等离子清洗机的通常工艺是:首先,将工件固定在真空室内,经由真空泵等设备启动真空电离到十pa左右;然后将等离子清洗体:O2、H2、Ar、N2的不同气体和清洗材料根据工艺要求导入真空室,并保持压力约为100pa;在真空室内的电极和接地装置之间加入高频电压,使气体渗进去,等离子体被辉光放电离化;当等离子体可以覆盖在真空室内后开始清洗工作,清洗过程将持续数十秒到数分钟。全过程依靠等离子体在电磁场中的运动,轰击处理物体表面,多数需要高能量、低电压进行物理清洗。在轰击表面之前,原子和离子的速度达到了。由于等离子体加速,所以要求很高的能量,所以等离子体中的原子和离子可以加速。在原子碰撞之前,要增加平均距离,即路径越长,离子轰击洁净产品表面的几率就越大,就要求低电压。这样就达到了表面处理、清洗、刻蚀的效果(清洗过程在一定程度上是一个轻微的刻蚀过程);清洗之后,污垢和气体排放,空气回归正常大气压。         真空等离子清洗机清洁过程中,真空泵控制真空腔时,气体的流速决定了真空泵的发光颜色:如果颜色重,真空度低,气体流量大;若超长真空而气体流量太小,真空泵的真空度就是根据规定要求的处理效果来确定。        真空等离子清洗机适用于混合集成电路、单片集成电路套管、陶瓷衬底的清洗,可用于半导体、厚膜电路、封装前元件、硅蚀刻、真空电子、连接器、继电器等的清洗。也可用于塑料、橡胶、金属和陶瓷的表面(活)化以及科学试验。

真空等离子清洗机相较于大气等离子清洗机有什么特点

【概要描述】       真空等离子清洗机是一种释放等离子体来去除表面污垢的清洗设备。真空等离子清洗机属于电子工业干洗,是在真空泵生产过程中产生符合清洗要求的真空状态,等离子清洗可通过既定的气体分子进行真空、电离等特殊场合,如低压气体亮等。简而言之,等离子体清洗要求在真空中进行(通常约100pa),所以要求真空泵。
       真空等离子清洗机的通常工艺是:首先,将工件固定在真空室内,经由真空泵等设备启动真空电离到十pa左右;然后将等离子清洗体:O2、H2、Ar、N2的不同气体和清洗材料根据工艺要求导入真空室,并保持压力约为100pa;在真空室内的电极和接地装置之间加入高频电压,使气体渗进去,等离子体被辉光放电离化;当等离子体可以覆盖在真空室内后开始清洗工作,清洗过程将持续数十秒到数分钟。全过程依靠等离子体在电磁场中的运动,轰击处理物体表面,多数需要高能量、低电压进行物理清洗。在轰击表面之前,原子和离子的速度达到了。由于等离子体加速,所以要求很高的能量,所以等离子体中的原子和离子可以加速。在原子碰撞之前,要增加平均距离,即路径越长,离子轰击洁净产品表面的几率就越大,就要求低电压。这样就达到了表面处理、清洗、刻蚀的效果(清洗过程在一定程度上是一个轻微的刻蚀过程);清洗之后,污垢和气体排放,空气回归正常大气压。
        真空等离子清洗机清洁过程中,真空泵控制真空腔时,气体的流速决定了真空泵的发光颜色:如果颜色重,真空度低,气体流量大;若超长真空而气体流量太小,真空泵的真空度就是根据规定要求的处理效果来确定。
       真空等离子清洗机适用于混合集成电路、单片集成电路套管、陶瓷衬底的清洗,可用于半导体、厚膜电路、封装前元件、硅蚀刻、真空电子、连接器、继电器等的清洗。也可用于塑料、橡胶、金属和陶瓷的表面(活)化以及科学试验。

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       真空等离子清洗机是一种释放等离子体来去除表面污垢的清洗设备。真空等离子清洗机属于电子工业干洗,是在真空泵生产过程中产生符合清洗要求的真空状态,等离子清洗可通过既定的气体分子进行真空、电离等特殊场合,如低压气体亮等。简而言之,等离子体清洗要求在真空中进行(通常约100pa),所以要求真空泵。
真空等离子清洗机       真空等离子清洗机的通常工艺是:首先,将工件固定在真空室内,经由真空泵等设备启动真空电离到十pa左右;然后将等离子清洗体:O2、H2、Ar、N2的不同气体和清洗材料根据工艺要求导入真空室,并保持压力约为100pa;在真空室内的电极和接地装置之间加入高频电压,使气体渗进去,等离子体被辉光放电离化;当等离子体可以覆盖在真空室内后开始清洗工作,清洗过程将持续数十秒到数分钟。全过程依靠等离子体在电磁场中的运动,轰击处理物体表面,多数需要高能量、低电压进行物理清洗。在轰击表面之前,原子和离子的速度达到了。由于等离子体加速,所以要求很高的能量,所以等离子体中的原子和离子可以加速。在原子碰撞之前,要增加平均距离,即路径越长,离子轰击洁净产品表面的几率就越大,就要求低电压。这样就达到了表面处理、清洗、刻蚀的效果(清洗过程在一定程度上是一个轻微的刻蚀过程);清洗之后,污垢和气体排放,空气回归正常大气压。
        真空等离子清洗机清洁过程中,真空泵控制真空腔时,气体的流速决定了真空泵的发光颜色:如果颜色重,真空度低,气体流量大;若超长真空而气体流量太小,真空泵的真空度就是根据规定要求的处理效果来确定。
       真空等离子清洗机适用于混合集成电路、单片集成电路套管、陶瓷衬底的清洗,可用于半导体、厚膜电路、封装前元件、硅蚀刻、真空电子、连接器、继电器等的清洗。也可用于塑料、橡胶、金属和陶瓷的表面(活)化以及科学试验。

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