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 真空等离子体处理设备_清理样品表面,达到清洁、改性和光刻胶灰化效用

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-07-09
  • 访问量:

【概要描述】      真空等离子体处理设备产生的等离子体和固体、液体或气体一样,也是1种物态。对气体给予一定的势能使之离化便变为等离子体。等离子体的"活性"组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。真空等离子体清洗设备是运用以上活性成分的性能对试品表层进行清洗,从而达到清洁、改性、光刻等目的。下面小编来介绍一下CRF真空等离子体清洗设备清洗原理。        真空等离子体处理设备中的等离子体通常产物以(Solid,liquid,gaseous)3种物态出现,但在一些特殊的情况下有第4种体出现,如地球大气中电离层中的产物。等离子体体中出现下列产物:处于高速运动状态的电子;处于(激)活状态的中性原子、分子、自由基;离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但产物在总体上仍保持电中性体。       在真空腔中,通过射频电源适配器在一定压力下发光,产生高能无序的等离子体,通过等离子体轰击清洁产品表层,达到清洁的目的。真空等离子处理设备的结构主要分为控制单元、真空腔和真空泵三大部分。对下列三个部分进行说明: 一、控制单元       国内外研发的真空等离子体清洗设备,控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。 而控制单元又分为2个部分: 1)电源适配器部分:主要电源适配器频率有三种,分别是40KHz、13.56兆赫兹、2.45GHz,其中13.56兆赫兹是须要电源适配器的; 2)系统控制单元:分三种,按钮控制(半自动、全自动)、电脑控制、PLC控制(液晶触摸屏控制)。 二、真空等离子体处理设备中的真空腔体: 1)不锈钢真空腔体; 2)石英腔体。 三、真空泵: 1)干泵; 2)油泵。        以上就是小编CRF真空等离子体处理设备,通过清理样品物体表面,从而达到清洁、改性和光刻胶灰化效用。

 真空等离子体处理设备_清理样品表面,达到清洁、改性和光刻胶灰化效用

【概要描述】      真空等离子体处理设备产生的等离子体和固体、液体或气体一样,也是1种物态。对气体给予一定的势能使之离化便变为等离子体。等离子体的"活性"组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。真空等离子体清洗设备是运用以上活性成分的性能对试品表层进行清洗,从而达到清洁、改性、光刻等目的。下面小编来介绍一下CRF真空等离子体清洗设备清洗原理。
       真空等离子体处理设备中的等离子体通常产物以(Solid,liquid,gaseous)3种物态出现,但在一些特殊的情况下有第4种体出现,如地球大气中电离层中的产物。等离子体体中出现下列产物:处于高速运动状态的电子;处于(激)活状态的中性原子、分子、自由基;离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但产物在总体上仍保持电中性体。
      在真空腔中,通过射频电源适配器在一定压力下发光,产生高能无序的等离子体,通过等离子体轰击清洁产品表层,达到清洁的目的。真空等离子处理设备的结构主要分为控制单元、真空腔和真空泵三大部分。对下列三个部分进行说明:
一、控制单元
      国内外研发的真空等离子体清洗设备,控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。
而控制单元又分为2个部分:
1)电源适配器部分:主要电源适配器频率有三种,分别是40KHz、13.56兆赫兹、2.45GHz,其中13.56兆赫兹是须要电源适配器的;
2)系统控制单元:分三种,按钮控制(半自动、全自动)、电脑控制、PLC控制(液晶触摸屏控制)。
二、真空等离子体处理设备中的真空腔体:
1)不锈钢真空腔体;
2)石英腔体。
三、真空泵:
1)干泵;
2)油泵。
       以上就是小编CRF真空等离子体处理设备,通过清理样品物体表面,从而达到清洁、改性和光刻胶灰化效用。

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  • 发布时间:2021-07-09 09:37
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      真空等离子体处理设备产生的等离子体和固体、液体或气体一样,也是1种物态。对气体给予一定的势能使之离化便变为等离子体。等离子体的"活性"组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。真空等离子体清洗设备是运用以上活性成分的性能对试品表层进行清洗,从而达到清洁、改性、光刻等目的。下面小编来介绍一下CRF真空等离子体清洗设备清洗原理。
 真空等离子体处理设备       真空等离子体处理设备中的等离子体通常产物以(Solid,liquid,gaseous)3种物态出现,但在一些特殊的情况下有第4种体出现,如地球大气中电离层中的产物。等离子体体中出现下列产物:处于高速运动状态的电子;处于(激)活状态的中性原子、分子、自由基;离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但产物在总体上仍保持电中性体。
      在真空腔中,通过射频电源适配器在一定压力下发光,产生高能无序的等离子体,通过等离子体轰击清洁产品表层,达到清洁的目的。真空等离子处理设备的结构主要分为控制单元、真空腔和真空泵三大部分。对下列三个部分进行说明:
一、控制单元
      国内外研发的真空等离子体清洗设备,控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。
而控制单元又分为2个部分:
1)电源适配器部分:主要电源适配器频率有三种,分别是40KHz、13.56兆赫兹、2.45GHz,其中13.56兆赫兹是须要电源适配器的;
2)系统控制单元:分三种,按钮控制(半自动、全自动)、电脑控制、PLC控制(液晶触摸屏控制)。

 真空等离子体处理设备二、真空等离子体处理设备中的真空腔体:
1)不锈钢真空腔体;
2)石英腔体。
三、真空泵:
1)干泵;
2)油泵。
       以上就是小编CRF真空等离子体处理设备,通过清理样品物体表面,从而达到清洁、改性和光刻胶灰化效用。

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