深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

真空等离子清洗设备中各大微粒对物质表层的作用

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-07-07
  • 访问量:

【概要描述】       今天笔者给大家介绍一款真空等离子清洗设备包括化学反应室、电源和真空泵组。将样品放入化学反应室,真空泵开始吸入一定的真空度,电源启动时产生等离子,气体进入化学反应室,使室内等离子变成 化学反应等离子,这些等离子与样品表层发生化学反应,生产制造挥发性副产品,用真空泵吸出。 一、真空等离子清洗设备       真空等离子清洗设备技术应用通过等离子在低温模式下产生不平衡电子、化学反应离子体和自由基的特性。等离子中的高能活性基体轰击表层,引起溅射、热蒸发、光分解。等离子特有的清洗环节主要是等离子溅射和腐蚀引起的物理和化学变化。 二、等离子与物质表层之间的用处。        除气体分子、离子和电子外,在真空等离子清洗设备产生的等离子中还存在受势能激励的电中性原子或自由基,以及等离子发出的光。这些波长短,势能使紫外光在等离子和物质表层的相互作用中发挥着重要用处。以下分别介绍其用处。 三、自由基与物质表层的化学反应        这些自由基是电中性的,使用时限长,真空等离子清洗设备产生等离子中的数量比离子多,所以自由基在等离子中起着重要的用处。自由基的用处主要是反映在化学反应环节中势能传输的(活)化用处,激发模式的自由基势能高,易于与物质表层分子结合产生新的自由基,新产生的自由基也处于不稳定的高能模式,很可能发生分解反应,在变成 小分子的同時转化成新的自由基。这种化学反应环节可能会继续进行,分解成H2O、CO2等简单分子。另外一些模式中,自由基和物质表层分子结合,释放出大量的结合势能,成为引发新表面反应的驱动力,从而引起物质表层物质的化学反应和去除。 四、电子和物质表层的用处。        一方面,对物质表层的冲击可以促进吸附在物质表层的气体分子的分解或吸附,另一方面,大量的电子冲击有利于引起化学反应。因为电子质量很小,比离子的转移速率快得多。在等离子体处理过程中,电子比离子体更早到达物质表面,使表面充满电荷,有利于进一步的化学反应。 第五,离子和物质表层的用处       通常指带正电荷的阳离子的用途,阳离子具有加速冲向带负电表面的趋势,这一过程中物质表层能获得相当大的动能,足以冲击掉附着在表层的颗粒,我们称之为溅射现象。而且离子的冲击能极大地促进物质表层化学反应的发生。 五、紫外线对物质表层的化学反应        UV具有很强的光能,(h)可以使附着在物质表层的物质的分子键断裂并分解,UV具有很强的穿透能力,可以通过物质表层并深入数微米。        综上所述,真空等离子清洗设备通过等离子内各种高能物质的(活)化用处,剥离吸附在物质表层的污垢。CRF是国内较早从事真空与大气低温等离子体技术应用、射频及微波真空等离子清洗设备技术研究开发、生产制造、销售的厂家,目前已在包装、塑料制品、汽车、家电、光电、纺织、半导体、精密制造业等行业得到广泛应用。

真空等离子清洗设备中各大微粒对物质表层的作用

【概要描述】       今天笔者给大家介绍一款真空等离子清洗设备包括化学反应室、电源和真空泵组。将样品放入化学反应室,真空泵开始吸入一定的真空度,电源启动时产生等离子,气体进入化学反应室,使室内等离子变成 化学反应等离子,这些等离子与样品表层发生化学反应,生产制造挥发性副产品,用真空泵吸出。
一、真空等离子清洗设备
      真空等离子清洗设备技术应用通过等离子在低温模式下产生不平衡电子、化学反应离子体和自由基的特性。等离子中的高能活性基体轰击表层,引起溅射、热蒸发、光分解。等离子特有的清洗环节主要是等离子溅射和腐蚀引起的物理和化学变化。
二、等离子与物质表层之间的用处。
       除气体分子、离子和电子外,在真空等离子清洗设备产生的等离子中还存在受势能激励的电中性原子或自由基,以及等离子发出的光。这些波长短,势能使紫外光在等离子和物质表层的相互作用中发挥着重要用处。以下分别介绍其用处。
三、自由基与物质表层的化学反应
       这些自由基是电中性的,使用时限长,真空等离子清洗设备产生等离子中的数量比离子多,所以自由基在等离子中起着重要的用处。自由基的用处主要是反映在化学反应环节中势能传输的(活)化用处,激发模式的自由基势能高,易于与物质表层分子结合产生新的自由基,新产生的自由基也处于不稳定的高能模式,很可能发生分解反应,在变成 小分子的同時转化成新的自由基。这种化学反应环节可能会继续进行,分解成H2O、CO2等简单分子。另外一些模式中,自由基和物质表层分子结合,释放出大量的结合势能,成为引发新表面反应的驱动力,从而引起物质表层物质的化学反应和去除。
四、电子和物质表层的用处。
       一方面,对物质表层的冲击可以促进吸附在物质表层的气体分子的分解或吸附,另一方面,大量的电子冲击有利于引起化学反应。因为电子质量很小,比离子的转移速率快得多。在等离子体处理过程中,电子比离子体更早到达物质表面,使表面充满电荷,有利于进一步的化学反应。
第五,离子和物质表层的用处
      通常指带正电荷的阳离子的用途,阳离子具有加速冲向带负电表面的趋势,这一过程中物质表层能获得相当大的动能,足以冲击掉附着在表层的颗粒,我们称之为溅射现象。而且离子的冲击能极大地促进物质表层化学反应的发生。
五、紫外线对物质表层的化学反应
       UV具有很强的光能,(h)可以使附着在物质表层的物质的分子键断裂并分解,UV具有很强的穿透能力,可以通过物质表层并深入数微米。
       综上所述,真空等离子清洗设备通过等离子内各种高能物质的(活)化用处,剥离吸附在物质表层的污垢。CRF是国内较早从事真空与大气低温等离子体技术应用、射频及微波真空等离子清洗设备技术研究开发、生产制造、销售的厂家,目前已在包装、塑料制品、汽车、家电、光电、纺织、半导体、精密制造业等行业得到广泛应用。

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-07-07 08:23
  • 访问量:
详情

       今天笔者给大家介绍一款真空等离子清洗设备包括化学反应室、电源和真空泵组。将样品放入化学反应室,真空泵开始吸入一定的真空度,电源启动时产生等离子,气体进入化学反应室,使室内等离子变成 化学反应等离子,这些等离子与样品表层发生化学反应,生产制造挥发性副产品,用真空泵吸出。
一、真空等离子清洗设备
      真空等离子清洗设备技术应用通过等离子在低温模式下产生不平衡电子、化学反应离子体和自由基的特性。等离子中的高能活性基体轰击表层,引起溅射、热蒸发、光分解。等离子特有的清洗环节主要是等离子溅射和腐蚀引起的物理和化学变化。

真空等离子清洗设备二、等离子与物质表层之间的用处。
       除气体分子、离子和电子外,在真空等离子清洗设备产生的等离子中还存在受势能激励的电中性原子或自由基,以及等离子发出的光。这些波长短,势能使紫外光在等离子和物质表层的相互作用中发挥着重要用处。以下分别介绍其用处。
三、自由基与物质表层的化学反应
       这些自由基是电中性的,使用时限长,真空等离子清洗设备产生等离子中的数量比离子多,所以自由基在等离子中起着重要的用处。自由基的用处主要是反映在化学反应环节中势能传输的(活)化用处,激发模式的自由基势能高,易于与物质表层分子结合产生新的自由基,新产生的自由基也处于不稳定的高能模式,很可能发生分解反应,在变成 小分子的同時转化成新的自由基。这种化学反应环节可能会继续进行,分解成H2O、CO2等简单分子。另外一些模式中,自由基和物质表层分子结合,释放出大量的结合势能,成为引发新表面反应的驱动力,从而引起物质表层物质的化学反应和去除。
真空等离子清洗设备四、电子和物质表层的用处。
       一方面,对物质表层的冲击可以促进吸附在物质表层的气体分子的分解或吸附,另一方面,大量的电子冲击有利于引起化学反应。因为电子质量很小,比离子的转移速率快得多。在等离子体处理过程中,电子比离子体更早到达物质表面,使表面充满电荷,有利于进一步的化学反应。
第五,离子和物质表层的用处
      通常指带正电荷的阳离子的用途,阳离子具有加速冲向带负电表面的趋势,这一过程中物质表层能获得相当大的动能,足以冲击掉附着在表层的颗粒,我们称之为溅射现象。而且离子的冲击能极大地促进物质表层化学反应的发生。
五、紫外线对物质表层的化学反应
       UV具有很强的光能,(h)可以使附着在物质表层的物质的分子键断裂并分解,UV具有很强的穿透能力,可以通过物质表层并深入数微米。
       综上所述,真空等离子清洗设备通过等离子内各种高能物质的(活)化用处,剥离吸附在物质表层的污垢。CRF是国内较早从事真空与大气低温等离子体技术应用、射频及微波真空等离子清洗设备技术研究开发、生产制造、销售的厂家,目前已在包装、塑料制品、汽车、家电、光电、纺织、半导体、精密制造业等行业得到广泛应用。

关键词:

扫二维码用手机看

相关资讯

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区