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等离子去胶机_等离子去胶机结合O2去胶成效如何?

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-07-05
  • 访问量:

【概要描述】       小编发现市面上比较普及的等离子设备是应用物理反应对材料表面进行清洗,其实小编还发现有一款叫等离子去胶机,想必都好奇它是如何进行电离去胶的,其基本原理是将硅块放到真空系统反应,通入少量O2,加入1500V电压,由高频率信号发生器产生高频率数字信号,使石英加热管内产生强磁场,使O2电离,产生氧离子、活化氧原子、氧分子和电子等混合物的电浆辉光柱。活化原子态氧能迅速将聚酰亚胺膜氧化成挥发性气体,由机械泵抽走,从而去除硅块上的聚酰亚胺膜。电浆去胶的优点是去胶操作简单,去胶效率高,表层清洁,无划痕,成本低,环保。       等离子去胶机通常选用电容耦合等离子体平行面板反应釜。在平行面电极反应釜中,反应离子腐蚀腔选用阴极面积小、阳极面积大的不对称设计,腐蚀性物质被放置在面积小的电极上。在射频电源产生的热运动作用下,带负电的自由电子因其质量小、运动速度快而迅速到达阴极;而共价键因其质量大、速度慢而无法在同一时间内到达阴极,从而在阴极附近产生带负电的鞘。共价键在鞘的加快下垂直面轰击硅块表层,加快表层的化学反应和反应生成物的脱离,导致高腐蚀速度。等离子去胶机产生的离子轰击使各向异性腐蚀实现等离子体去胶原理和等离子体腐蚀原理一致。不同的是反应气体的类型和等离子体的刺激方式。        小编带大家又认识了一款产品,其实等离子去胶机结合O2在真空状态下,进行氧化反应,从而快速去除胶体。

等离子去胶机_等离子去胶机结合O2去胶成效如何?

【概要描述】       小编发现市面上比较普及的等离子设备是应用物理反应对材料表面进行清洗,其实小编还发现有一款叫等离子去胶机,想必都好奇它是如何进行电离去胶的,其基本原理是将硅块放到真空系统反应,通入少量O2,加入1500V电压,由高频率信号发生器产生高频率数字信号,使石英加热管内产生强磁场,使O2电离,产生氧离子、活化氧原子、氧分子和电子等混合物的电浆辉光柱。活化原子态氧能迅速将聚酰亚胺膜氧化成挥发性气体,由机械泵抽走,从而去除硅块上的聚酰亚胺膜。电浆去胶的优点是去胶操作简单,去胶效率高,表层清洁,无划痕,成本低,环保。
      等离子去胶机通常选用电容耦合等离子体平行面板反应釜。在平行面电极反应釜中,反应离子腐蚀腔选用阴极面积小、阳极面积大的不对称设计,腐蚀性物质被放置在面积小的电极上。在射频电源产生的热运动作用下,带负电的自由电子因其质量小、运动速度快而迅速到达阴极;而共价键因其质量大、速度慢而无法在同一时间内到达阴极,从而在阴极附近产生带负电的鞘。共价键在鞘的加快下垂直面轰击硅块表层,加快表层的化学反应和反应生成物的脱离,导致高腐蚀速度。等离子去胶机产生的离子轰击使各向异性腐蚀实现等离子体去胶原理和等离子体腐蚀原理一致。不同的是反应气体的类型和等离子体的刺激方式。
       小编带大家又认识了一款产品,其实等离子去胶机结合O2在真空状态下,进行氧化反应,从而快速去除胶体。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-07-05 18:03
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       小编发现市面上比较普及的等离子设备是应用物理反应对材料表面进行清洗,其实小编还发现有一款叫等离子去胶机,想必都好奇它是如何进行电离去胶的,其基本原理是将硅块放到真空系统反应,通入少量O2,加入1500V电压,由高频率信号发生器产生高频率数字信号,使石英加热管内产生强磁场,使O2电离,产生氧离子、(活)化氧原子、氧分子和电子等混合物的电浆辉光柱。(活)化原子态氧能迅速将聚酰亚胺膜氧化成挥发性气体,由机械泵抽走,从而去除硅块上的聚酰亚胺膜。电浆去胶的优点是去胶操作简单,去胶效率高,表层清洁,无划痕,成本低,环保。
等离子去胶机      等离子去胶机通常选用电容耦合等离子体平行面板反应釜。在平行面电极反应釜中,反应离子腐蚀腔选用阴极面积小、阳极面积大的不对称设计,腐蚀性物质被放置在面积小的电极上。在射频电源产生的热运动作用下,带负电的自由电子因其质量小、运动速度快而迅速到达阴极;而共价键因其质量大、速度慢而无法在同一时间内到达阴极,从而在阴极附近产生带负电的鞘。共价键在鞘的加快下垂直面轰击硅块表层,加快表层的化学反应和反应生成物的脱离,导致高腐蚀速度。等离子去胶机产生的离子轰击使各向异性腐蚀实现等离子体去胶原理和等离子体腐蚀原理一致。不同的是反应气体的类型和等离子体的刺激方式。
       小编带大家又认识了一款产品,其实等离子去胶机结合O2在真空状态下,进行氧化反应,从而快速去除胶体。

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