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常压等离子处理器_常压等离子处理器对SiC清理函数参数的影响

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-07-03
  • 访问量:

【概要描述】       提起函数,很多朋友会想到数学函数,那么接下来由小编带大家看看常压等离子发生器是怎么影响SiC,从而生成高斯清理函数参数。       常压等离子发生器抛光是一种非接触式的化学蚀刻精加工方法,具有(效)率高、成本低、精度高等优点,可以作为碳化硅精加工的一种有效手段。碳化硅被认为是较有前途的光学材料之一,但其莫氏硬度高达9.25,对其进行光学精加工很困难。目前,对其进行精加工的典型技术是基于金刚石的切割、机械磨削以及各种机械抛光等。         但这些方法的精加工效率低下,不能避免机械接触精加工固有的缺陷,从而影响了精加工表面的质量。为了满足SiC光学元件日益增长的加工精度的需求,需要一种更高(效)的光学精加工方法。提出了一种常压等离子发生器抛光技术。这是一种非接触式的光学精加工技术,它经过施加在电极之间的射频电源调动反应气体中的活性氟离子和氧原子蚀刻产品工件表面。该法借助常压等离子发生器调动许多高活性反应原子团,经过反应原子团与产品工件表面原子团之间的化学反应来清理材料[。它不需要真空设备,清理效率高,加工成本低,在光学制造领域有很大的应用潜力。         国内外许多研究机构都在致力于将等离子发生器精加工,应用于光学精加工领域。常压等离子发生器精加工的核心原理是借助等离子发生器炬产生等离子发生器蚀刻产品工件,生成高斯清理函数参数。对光学元件进行精加工时,通常要求精加工工具能够获得不同大小的清理函数参数,然后根据产品工件尺寸和面形峰谷值选取不同的清理函数参数,以提高加工精度和效率。由于不同等离子发生器的调动机理不同,所以不同等离子发生器炬中反应气体的放电形态有很大差别。等离子发生器放电过程对清理函数参数的形状及稳定性具有较大影响,并影响加工精度。        常压等离子发生器生产厂家诚峰智造使用的等离子发生器是被电离产生的气体,它包括电子、离子和自由基等物质。等离子发生器与外加磁场相互作用影响,这种作用会影响其內部磁场中的带电离子,提高了等离子发生器的流体特性,进而造成集团效应如流动性、起伏、不稳定和自组织性。每种等离子发生器中的颗粒都具备相对单独运动能量分布,而且每种颗粒所保持的能量并不可以一直维持等值均衡。等离子发生器內部能量由热能、电场能和辐射场构成,它们互相影响、互相转换,使等离子发生器在一个更宽的范畴内,在相互连接多维度参数空间存在。

常压等离子处理器_常压等离子处理器对SiC清理函数参数的影响

【概要描述】       提起函数,很多朋友会想到数学函数,那么接下来由小编带大家看看常压等离子发生器是怎么影响SiC,从而生成高斯清理函数参数。
      常压等离子发生器抛光是一种非接触式的化学蚀刻精加工方法,具有(效)率高、成本低、精度高等优点,可以作为碳化硅精加工的一种有效手段。碳化硅被认为是较有前途的光学材料之一,但其莫氏硬度高达9.25,对其进行光学精加工很困难。目前,对其进行精加工的典型技术是基于金刚石的切割、机械磨削以及各种机械抛光等。
        但这些方法的精加工效率低下,不能避免机械接触精加工固有的缺陷,从而影响了精加工表面的质量。为了满足SiC光学元件日益增长的加工精度的需求,需要一种更高(效)的光学精加工方法。提出了一种常压等离子发生器抛光技术。这是一种非接触式的光学精加工技术,它经过施加在电极之间的射频电源调动反应气体中的活性氟离子和氧原子蚀刻产品工件表面。该法借助常压等离子发生器调动许多高活性反应原子团,经过反应原子团与产品工件表面原子团之间的化学反应来清理材料[。它不需要真空设备,清理效率高,加工成本低,在光学制造领域有很大的应用潜力。
        国内外许多研究机构都在致力于将等离子发生器精加工,应用于光学精加工领域。常压等离子发生器精加工的核心原理是借助等离子发生器炬产生等离子发生器蚀刻产品工件,生成高斯清理函数参数。对光学元件进行精加工时,通常要求精加工工具能够获得不同大小的清理函数参数,然后根据产品工件尺寸和面形峰谷值选取不同的清理函数参数,以提高加工精度和效率。由于不同等离子发生器的调动机理不同,所以不同等离子发生器炬中反应气体的放电形态有很大差别。等离子发生器放电过程对清理函数参数的形状及稳定性具有较大影响,并影响加工精度。
       常压等离子发生器生产厂家诚峰智造使用的等离子发生器是被电离产生的气体,它包括电子、离子和自由基等物质。等离子发生器与外加磁场相互作用影响,这种作用会影响其內部磁场中的带电离子,提高了等离子发生器的流体特性,进而造成集团效应如流动性、起伏、不稳定和自组织性。每种等离子发生器中的颗粒都具备相对单独运动能量分布,而且每种颗粒所保持的能量并不可以一直维持等值均衡。等离子发生器內部能量由热能、电场能和辐射场构成,它们互相影响、互相转换,使等离子发生器在一个更宽的范畴内,在相互连接多维度参数空间存在。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-07-03 20:43
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      提起函数,很多朋友会想到数学函数,那么接下来由小编带大家看看常压等离子发生器是怎么影响SiC,从而生成高斯清理函数参数。
      常压等离子发生器抛光是一种非接触式的化学蚀刻精加工方法,具有(效)率高、成本低、精度高等优点,可以作为碳化硅精加工的一种有效手段。碳化硅被认为是较有前途的光学材料之一,但其莫氏硬度高达9.25,对其进行光学精加工很困难。目前,对其进行精加工的典型技术是基于金刚石的切割、机械磨削以及各种机械抛光等。

常压等离子处理器       但这些方法的精加工效率低下,不能避免机械接触精加工固有的缺陷,从而影响了精加工表面的质量。为了满足SiC光学元件日益增长的加工精度的需求,需要一种更高(效)的光学精加工方法。提出了一种常压等离子发生器抛光技术。这是一种非接触式的光学精加工技术,它经过施加在电极之间的射频电源调动反应气体中的活性氟离子和氧原子蚀刻产品工件表面。该法借助常压等离子发生器调动许多高活性反应原子团,经过反应原子团与产品工件表面原子团之间的化学反应来清理材料[。它不需要真空设备,清理效率高,加工成本低,在光学制造领域有很大的应用潜力。
        国内外许多研究机构都在致力于将等离子发生器精加工,应用于光学精加工领域。常压等离子发生器精加工的核心原理是借助等离子发生器炬产生等离子发生器蚀刻产品工件,生成高斯清理函数参数。对光学元件进行精加工时,通常要求精加工工具能够获得不同大小的清理函数参数,然后根据产品工件尺寸和面形峰谷值选取不同的清理函数参数,以提高加工精度和效率。由于不同等离子发生器的调动机理不同,所以不同等离子发生器炬中反应气体的放电形态有很大差别。等离子发生器放电过程对清理函数参数的形状及稳定性具有较大影响,并影响加工精度。
       
常压等离子处理器

       常压等离子发生器生产厂家诚峰智造使用的等离子发生器是被电离产生的气体,它包括电子、离子和自由基等物质。等离子发生器与外加磁场相互作用影响,这种作用会影响其內部磁场中的带电离子,提高了等离子发生器的流体特性,进而造成集团效应如流动性、起伏、不稳定和自组织性。每种等离子发生器中的颗粒都具备相对单独运动能量分布,而且每种颗粒所保持的能量并不可以一直维持等值均衡。等离子发生器內部能量由热能、电场能和辐射场构成,它们互相影响、互相转换,使等离子发生器在一个更宽的范畴内,在相互连接多维度参数空间存在。

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