深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

一文让你搞懂真空等离子清洗设备 

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-06-25
  • 访问量:

【概要描述】       根据使用,可以选择多种结构的等离子清洗设备,通过选择不相同种类的气体、调整装置的特征参数等方法最佳化工艺流程,但等离子清洗装置的基本结构大致相同,一般装置由真空室、真空泵、高频电源、电极、气体输入系统、工件输送系统和控制系统等部分构成真空泵一般采用旋转油泵,高频电源一般采用13.56M赫兹无线电波,设备运行过程如下: (1)将清洗过的真空室固定在一起,启动运转装置,开始排气,使真空室的真空度达到10帕标准真空。通常的排气时间需要2分钟左右。 (2)将用于清洗的气体引入真空室,并将压力保持在100Pa。 根据清洗材料的不同,可以选择氧气、氢气、氩气或氮气。 (3)在真空室内的电极和接地装置之间施加高频电压,破坏气体,通过光辉放电产生离子化和等离子化。使真空室产生的等离子体完全喷射到物体表面,开始清洗作业。通常清洁处理持续几十秒到几分钟。 (4)清洗后切断高频电压,排出气体和蒸发污垢,同时将空气鼓入真空室,使气压上升到大气压。 与湿式清洗相比,等离子清洗的优势如下: (1)清洗完毕后,被清洗物已干透,无需再经过干燥处理即可送至下道工序。 (2)不使用三氯乙烯ODS有害溶剂,清洗后不产生有害污染物,是一种环保的绿色清洗方法。 (3)无线电波范围内的高频等离子体与激光等直射光不同,其方向性不强,因此能够深入物体的细孔和凹陷内部完成清洗任务,因此不必过度考虑被清洗物体形状的影响,这些难以清洗的部分的清洗效果与氟利昂清洗的效果相似 (4)整个清洗工艺流程在几分钟即可完成,因此具有效率高的特点。 (5)等离子清洗所需真空度约为100Pa,在工厂实际生产中易于实现。设备成本较低,清洗过程无需使用昂贵的有机溶剂,运行费用较传统清洗工艺低。 (6)由于无需运输、储存、排放清洗液等处理措施,生产现场易于保持清洁卫生。 (7)等离子清洗的最大技术特点是无论对象如何,都可以处理不同的基材,无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料(聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高分子材料)此外,材料的整体、局部或复杂结构也可以有选择地。 (8)在明确去污效果的同时,还可以改变材料本身的表面性质,例如提高表面的润湿性、提高膜的附着力等,这在很多应用中都很重要。

一文让你搞懂真空等离子清洗设备 

【概要描述】
      根据使用,可以选择多种结构的等离子清洗设备,通过选择不相同种类的气体、调整装置的特征参数等方法最佳化工艺流程,但等离子清洗装置的基本结构大致相同,一般装置由真空室、真空泵、高频电源、电极、气体输入系统、工件输送系统和控制系统等部分构成真空泵一般采用旋转油泵,高频电源一般采用13.56M赫兹无线电波,设备运行过程如下:
(1)将清洗过的真空室固定在一起,启动运转装置,开始排气,使真空室的真空度达到10帕标准真空。通常的排气时间需要2分钟左右。
(2)将用于清洗的气体引入真空室,并将压力保持在100Pa。
根据清洗材料的不同,可以选择氧气、氢气、氩气或氮气。
(3)在真空室内的电极和接地装置之间施加高频电压,破坏气体,通过光辉放电产生离子化和等离子化。使真空室产生的等离子体完全喷射到物体表面,开始清洗作业。通常清洁处理持续几十秒到几分钟。
(4)清洗后切断高频电压,排出气体和蒸发污垢,同时将空气鼓入真空室,使气压上升到大气压。

与湿式清洗相比,等离子清洗的优势如下:
(1)清洗完毕后,被清洗物已干透,无需再经过干燥处理即可送至下道工序。
(2)不使用三氯乙烯ODS有害溶剂,清洗后不产生有害污染物,是一种环保的绿色清洗方法。
(3)无线电波范围内的高频等离子体与激光等直射光不同,其方向性不强,因此能够深入物体的细孔和凹陷内部完成清洗任务,因此不必过度考虑被清洗物体形状的影响,这些难以清洗的部分的清洗效果与氟利昂清洗的效果相似
(4)整个清洗工艺流程在几分钟即可完成,因此具有效率高的特点。
(5)等离子清洗所需真空度约为100Pa,在工厂实际生产中易于实现。设备成本较低,清洗过程无需使用昂贵的有机溶剂,运行费用较传统清洗工艺低。
(6)由于无需运输、储存、排放清洗液等处理措施,生产现场易于保持清洁卫生。
(7)等离子清洗的最大技术特点是无论对象如何,都可以处理不同的基材,无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料(聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高分子材料)此外,材料的整体、局部或复杂结构也可以有选择地。
(8)在明确去污效果的同时,还可以改变材料本身的表面性质,例如提高表面的润湿性、提高膜的附着力等,这在很多应用中都很重要。

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-06-25 18:22
  • 访问量:
详情


       根据使用,可以选择多种结构的等离子清洗设备,通过选择不相同种类的气体、调整装置的特征参数等方法最佳化工艺流程,但等离子清洗装置的基本结构大致相同,一般装置由真空室、真空泵、高频电源、电极、气体输入系统、工件输送系统和控制系统等部分构成真空泵一般采用旋转油泵,

高频电源一般采用13.56M赫兹无线电波,设备运行过程如下:
     (1)将清洗过的真空室固定在一起,启动运转装置,开始排气,使真空室的真空度达到10帕标准真空。通常的排气时间需要2分钟左右。
     (2)将用于清洗的气体引入真空室,并将压力保持在100Pa。
根据清洗材料的不同,可以选择氧气、氢气、氩气或氮气。
     (3)在真空室内的电极和接地装置之间施加高频电压,破坏气体,通过光辉放电产生离子化和等离子化。使真空室产生的等离子体完全喷射到物体表面,开始清洗作业。通常清洁处理持续几十秒到几分钟。
    (4)清洗后切断高频电压,排出气体和蒸发污垢,同时将空气鼓入真空室,使气压上升到大气压。

等离子清洗设备 

与湿式清洗相比,等离子清洗的优势如下:
     (1)清洗完毕后,被清洗物已干透,无需再经过干燥处理即可送至下道工序。
     (2)不使用三氯乙烯ODS有害溶剂,清洗后不产生有害污染物,是一种环保的绿色清洗方法。
     (3)无线电波范围内的高频等离子体与激光等直射光不同,其方向性不强,因此能够深入物体的细孔和凹陷内部完成清洗任务,因此不必过度考虑被清洗物体形状的影响,这些难以清洗的部分的清洗效果与氟利昂清洗的效果相似
     (4)整个清洗工艺流程在几分钟即可完成,因此具有效率高的特点。
     (5)等离子清洗所需真空度约为100Pa,在工厂实际生产中易于实现。设备成本较低,清洗过程无需使用昂贵的有机溶剂,运行费用较传统清洗工艺低。
     (6)由于无需运输、储存、排放清洗液等处理措施,生产现场易于保持清洁卫生。
     (7)等离子清洗的最大技术特点是无论对象如何,都可以处理不同的基材,无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料(聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高分子材料)此外,材料的整体、局部或复杂结构也可以有选择地。
     (8)在明确去污效果的同时,还可以改变材料本身的表面性质,例如提高表面的润湿性、提高膜的附着力等,这在很多应用中都很重要。

关键词:

扫二维码用手机看

相关资讯

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区