深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

这五种等离子清洗方式你了解吗?

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-06-16
  • 访问量:

【概要描述】        等离子清洗分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。针对不同的清洗对象可选择O2、H2和Ar等艺气体进行短时间的表面处理。         1.化学反应为主的清洗         利用等离子体里的高活性自由基与材料表面的有(机)物等做化学反应,又称PE。采用氧气进行清洗,使非挥发性的有(机)物变成易挥发的形态,产生二氧化碳、一氧化碳和水。化学清洗的优点是清洁速度高、选择性好和对清洗有(机)污染物比较有效, 主要缺点是生成的氧化物可能在材料表面再次形成。在引线键合工艺中,氧化物是不希望有的, 这些缺点可以通过适当选择工艺参数进行避免。         2.物理反应为主的清洗         利用等离子体里的离子做纯物理的撞击,把材料表面附着的原子打掉,也称为溅射腐蚀(SPE)。 采用氩气进行清洗,氩离子以足够的能量轰击器 件表面,撞击力足以去除任(何)污垢。聚合物中的 大分子化学键分离成小分子而汽化,通过真空泵排 出。同时经过氩等离子清洗后,能够改变材料表面 的微观形态,使材料在分子级范围内变得更加“粗 糙”, 可大幅改善表面活性,提高表面的粘结性 能。氩等离子的优点是清理材料表面不会留下任(何) 氧化物。缺点是可能发生过量腐蚀或污染物颗粒重 新积聚在其他不希望的区域,但是这些缺点可通过 细调工艺参数得到控制。         3.物理化学反应同时存在的清洗         反应中物理反应与化学反应均起重要作用的清洗。 如采用Ar和O2的混合气体进行在线式等离子清 洗过程时,反应速率比单独使用Ar或O2都要快。氩离子被加速后,产生的动能又能提高氧离子的反应能力,因此用物理化学方法可清(除)污染较为严重的材料表面。         目前已经广泛应用的清洗方法主要有湿法清洗和干法清洗。湿法清洗的局限性很大,从对环境的影响、原材料的消耗及未来的发展考虑,干法清洗要明(显)优于湿法清洗。其中发展较快和优势明(显)的是等离子体清洗。等离子体是指电离气体,是电子、离子、原子、分子或自由基等粒子组成的集合体 。清洗时高能电子碰撞反应气体分子,使之离解或电离,利用产生的多种粒子轰击被清洗表面或与被清洗表面发生化学反应,从而有效地清(除)各种污染物;还可以改善材料本身的表面性能,如提高表面的润湿性能和改善膜的粘着力等,这在许多应用中都是很重要的。经等离子清洗后器件表面是干燥的,不需要再处理,可以提高整个工艺流水线的处理效率;可以使操作者远离有害溶剂的伤害;等离子可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗,因此不需要过多考虑被清洗物件的形状;还可以处理各种材质,尤其适合不耐热以及不耐溶剂的材质。这些优点,都使等离子体清洗得到广泛关注。

这五种等离子清洗方式你了解吗?

【概要描述】        等离子清洗分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。针对不同的清洗对象可选择O2、H2和Ar等艺气体进行短时间的表面处理。
        1.化学反应为主的清洗
        利用等离子体里的高活性自由基与材料表面的有(机)物等做化学反应,又称PE。采用氧气进行清洗,使非挥发性的有(机)物变成易挥发的形态,产生二氧化碳、一氧化碳和水。化学清洗的优点是清洁速度高、选择性好和对清洗有(机)污染物比较有效, 主要缺点是生成的氧化物可能在材料表面再次形成。在引线键合工艺中,氧化物是不希望有的, 这些缺点可以通过适当选择工艺参数进行避免。
        2.物理反应为主的清洗
        利用等离子体里的离子做纯物理的撞击,把材料表面附着的原子打掉,也称为溅射腐蚀(SPE)。 采用氩气进行清洗,氩离子以足够的能量轰击器 件表面,撞击力足以去除任(何)污垢。聚合物中的 大分子化学键分离成小分子而汽化,通过真空泵排 出。同时经过氩等离子清洗后,能够改变材料表面 的微观形态,使材料在分子级范围内变得更加“粗 糙”, 可大幅改善表面活性,提高表面的粘结性 能。氩等离子的优点是清理材料表面不会留下任(何) 氧化物。缺点是可能发生过量腐蚀或污染物颗粒重 新积聚在其他不希望的区域,但是这些缺点可通过 细调工艺参数得到控制。
        3.物理化学反应同时存在的清洗
        反应中物理反应与化学反应均起重要作用的清洗。 如采用Ar和O2的混合气体进行在线式等离子清 洗过程时,反应速率比单独使用Ar或O2都要快。氩离子被加速后,产生的动能又能提高氧离子的反应能力,因此用物理化学方法可清(除)污染较为严重的材料表面。


        目前已经广泛应用的清洗方法主要有湿法清洗和干法清洗。湿法清洗的局限性很大,从对环境的影响、原材料的消耗及未来的发展考虑,干法清洗要明(显)优于湿法清洗。其中发展较快和优势明(显)的是等离子体清洗。等离子体是指电离气体,是电子、离子、原子、分子或自由基等粒子组成的集合体 。清洗时高能电子碰撞反应气体分子,使之离解或电离,利用产生的多种粒子轰击被清洗表面或与被清洗表面发生化学反应,从而有效地清(除)各种污染物;还可以改善材料本身的表面性能,如提高表面的润湿性能和改善膜的粘着力等,这在许多应用中都是很重要的。经等离子清洗后器件表面是干燥的,不需要再处理,可以提高整个工艺流水线的处理效率;可以使操作者远离有害溶剂的伤害;等离子可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗,因此不需要过多考虑被清洗物件的形状;还可以处理各种材质,尤其适合不耐热以及不耐溶剂的材质。这些优点,都使等离子体清洗得到广泛关注。

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-06-16 19:54
  • 访问量:
详情

        等离子清洗分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。针对不同的清洗对象可选择O2、H2和Ar等艺气体进行短时间的表面处理。
        1.化学反应为主的清洗
        利用等离子体里的高活性自由基与材料表面的有(机)物等做化学反应,又称PE。采用氧气进行清洗,使非挥发性的有(机)物变成易挥发的形态,产生二氧化碳、一氧化碳和水。化学清洗的优点是清洁速度高、选择性好和对清洗有(机)污染物比较有效, 主要缺点是生成的氧化物可能在材料表面再次形成。在引线键合工艺中,氧化物是不希望有的, 这些缺点可以通过适当选择工艺参数进行避免。
        2.物理反应为主的清洗
        利用等离子体里的离子做纯物理的撞击,把材料表面附着的原子打掉,也称为溅射腐蚀(SPE)。 采用氩气进行清洗,氩离子以足够的能量轰击器 件表面,撞击力足以去除任(何)污垢。聚合物中的 大分子化学键分离成小分子而汽化,通过真空泵排 出。同时经过氩等离子清洗后,能够改变材料表面 的微观形态,使材料在分子级范围内变得更加“粗 糙”, 可大幅改善表面活性,提高表面的粘结性 能。氩等离子的优点是清理材料表面不会留下任(何) 氧化物。缺点是可能发生过量腐蚀或污染物颗粒重 新积聚在其他不希望的区域,但是这些缺点可通过 细调工艺参数得到控制。
        3.物理化学反应同时存在的清洗
        反应中物理反应与化学反应均起重要作用的清洗。 如采用Ar和O2的混合气体进行在线式等离子清 洗过程时,反应速率比单独使用Ar或O2都要快。氩离子被加速后,产生的动能又能提高氧离子的反应能力,因此用物理化学方法可清(除)污染较为严重的材料表面。

等离子清洗
        目前已经广泛应用的清洗方法主要有湿法清洗和干法清洗。湿法清洗的局限性很大,从对环境的影响、原材料的消耗及未来的发展考虑,干法清洗要明(显)优于湿法清洗。其中发展较快和优势明(显)的是等离子体清洗。等离子体是指电离气体,是电子、离子、原子、分子或自由基等粒子组成的集合体 。清洗时高能电子碰撞反应气体分子,使之离解或电离,利用产生的多种粒子轰击被清洗表面或与被清洗表面发生化学反应,从而有效地清(除)各种污染物;还可以改善材料本身的表面性能,如提高表面的润湿性能和改善膜的粘着力等,这在许多应用中都是很重要的。经等离子清洗后器件表面是干燥的,不需要再处理,可以提高整个工艺流水线的处理效率;可以使操作者远离有害溶剂的伤害;等离子可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗,因此不需要过多考虑被清洗物件的形状;还可以处理各种材质,尤其适合不耐热以及不耐溶剂的材质。这些优点,都使等离子体清洗得到广泛关注。

关键词:

扫二维码用手机看

相关资讯

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区