深圳市诚峰智造有限公司,欢迎您!

电话:13632675935/0755-3367 3020

img
搜索
确认
取消
新闻中心

新闻中心

专业致力于提供电子行业的制造设备及工艺流程解决方案的plasma等离子体高新技术企业
新闻中心

讲述等离子原理及在电子行业中的应用情况

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-06-12
  • 访问量:

【概要描述】       在半导体器件的生产过程中,晶片芯片表面会有各种颗粒、金属离子、有(机)物和残留粒。为了保证集成电路的集成度和器件性能,有必要在不损害芯片和其他材料的表面和电性能的情况下,清洁和去除芯片表面上的这些杂质。否则会对芯片性能造成严重的影响和缺陷,大大降(低)产品的合格率,制约器件的进一步发展。目前,电子元器件生产中几乎每个工序都有一个清洗步骤,目的是去除芯片表面的污垢和杂质。清洗方法大致可分为湿法清洗和干法清洗,干法清洗中等离子清洗具有明(显)的优势,已在半导体器件和光电元件封装领域得到推广和应用。等离子体是由正离子、负离子、自由电子等带电粒子和激发态分子、自由基等中性粒子组成的部分电离气体。因为它的正负电荷总是相等的,所以叫等离子体。这是物质存在的另一种基本形式(第四种状态)。等离子体清洗设备是通过化学或物理作用对工件(生产过程中的电子元器件及半成品、零件、基板、印刷电路板)表面进行处理,从而在分子水平(一般厚度为3nm致30nm)去除污渍和污迹。提高表面活性的过程称为等离子清洗。        其机理主要依靠等离子体中活性粒子的“活(化)”来达到去除物体表面污渍的目的,通常包括以下过程:无机气体被激发成等离子体状态,气相物质被吸附在固体表面,被吸附的基团与固体表面分子反应生成产物分子,产物分子被解析形成气相,反应残留物从表面分离。等离子清洗机的特点是可以处理一些基底类型,金属、半导体、氧化物、有(机)物、大部分高分子材料也可以处理好,只需要很低的气体流速,就可以清洗整体、局部、复杂的结构。等离子清洗过程中,不使用化学溶剂,所以基本没有污染物,有利于环保。此外,生产成本低,清洗均匀性、重复性和可控性好,易于实现批量生产。        等离子,即物质的第四态,是由部分电子被剥夺后的原子以及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气状物质。这种电离气体是由原子,分子,原子团,离子,电子组成。其作用在物体表面可以实现物体的洁净清洗、物体表面活(化)、蚀刻、精整以及等离子表面涂覆。根据等离子体中存在微粒的不同,其具体可以实现对物体处理的原理也各不相同,加之输入气体以及控制功率的不同,都实现了对物体处理的多样化。因低温等离了体对物体表面处理的强度小于高温等离子体,能够实现对处理物体表面的保护作用,应用中我们使用的多为低温等离子体。并且各种粒子在对物体处理过程中所表现出来的作用也各不相同的。

讲述等离子原理及在电子行业中的应用情况

【概要描述】       在半导体器件的生产过程中,晶片芯片表面会有各种颗粒、金属离子、有(机)物和残留粒。为了保证集成电路的集成度和器件性能,有必要在不损害芯片和其他材料的表面和电性能的情况下,清洁和去除芯片表面上的这些杂质。否则会对芯片性能造成严重的影响和缺陷,大大降(低)产品的合格率,制约器件的进一步发展。目前,电子元器件生产中几乎每个工序都有一个清洗步骤,目的是去除芯片表面的污垢和杂质。清洗方法大致可分为湿法清洗和干法清洗,干法清洗中等离子清洗具有明(显)的优势,已在半导体器件和光电元件封装领域得到推广和应用。等离子体是由正离子、负离子、自由电子等带电粒子和激发态分子、自由基等中性粒子组成的部分电离气体。因为它的正负电荷总是相等的,所以叫等离子体。这是物质存在的另一种基本形式(第四种状态)。等离子体清洗设备是通过化学或物理作用对工件(生产过程中的电子元器件及半成品、零件、基板、印刷电路板)表面进行处理,从而在分子水平(一般厚度为3nm致30nm)去除污渍和污迹。提高表面活性的过程称为等离子清洗。



       其机理主要依靠等离子体中活性粒子的“活(化)”来达到去除物体表面污渍的目的,通常包括以下过程:无机气体被激发成等离子体状态,气相物质被吸附在固体表面,被吸附的基团与固体表面分子反应生成产物分子,产物分子被解析形成气相,反应残留物从表面分离。等离子清洗机的特点是可以处理一些基底类型,金属、半导体、氧化物、有(机)物、大部分高分子材料也可以处理好,只需要很低的气体流速,就可以清洗整体、局部、复杂的结构。等离子清洗过程中,不使用化学溶剂,所以基本没有污染物,有利于环保。此外,生产成本低,清洗均匀性、重复性和可控性好,易于实现批量生产。

       等离子,即物质的第四态,是由部分电子被剥夺后的原子以及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气状物质。这种电离气体是由原子,分子,原子团,离子,电子组成。其作用在物体表面可以实现物体的洁净清洗、物体表面活(化)、蚀刻、精整以及等离子表面涂覆。根据等离子体中存在微粒的不同,其具体可以实现对物体处理的原理也各不相同,加之输入气体以及控制功率的不同,都实现了对物体处理的多样化。因低温等离了体对物体表面处理的强度小于高温等离子体,能够实现对处理物体表面的保护作用,应用中我们使用的多为低温等离子体。并且各种粒子在对物体处理过程中所表现出来的作用也各不相同的。

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-06-12 13:58
  • 访问量:
详情

       在半导体器件的生产过程中,晶片芯片表面会有各种颗粒、金属离子、有(机)物和残留粒。为了保证集成电路的集成度和器件性能,有必要在不损害芯片和其他材料的表面和电性能的情况下,清洁和去除芯片表面上的这些杂质。否则会对芯片性能造成严重的影响和缺陷,大大降(低)产品的合格率,制约器件的进一步发展。目前,电子元器件生产中几乎每个工序都有一个清洗步骤,目的是去除芯片表面的污垢和杂质。清洗方法大致可分为湿法清洗和干法清洗,干法清洗中等离子清洗具有明(显)的优势,已在半导体器件和光电元件封装领域得到推广和应用。等离子体是由正离子、负离子、自由电子等带电粒子和激发态分子、自由基等中性粒子组成的部分电离气体。因为它的正负电荷总是相等的,所以叫等离子体。这是物质存在的另一种基本形式(第四种状态)。等离子体清洗设备是通过化学或物理作用对工件(生产过程中的电子元器件及半成品、零件、基板、印刷电路板)表面进行处理,从而在分子水平(一般厚度为3nm致30nm)去除污渍和污迹。提高表面活性的过程称为等离子清洗。

等离子

       其机理主要依靠等离子体中活性粒子的“活(化)”来达到去除物体表面污渍的目的,通常包括以下过程:无机气体被激发成等离子体状态,气相物质被吸附在固体表面,被吸附的基团与固体表面分子反应生成产物分子,产物分子被解析形成气相,反应残留物从表面分离。等离子清洗机的特点是可以处理一些基底类型,金属、半导体、氧化物、有(机)物、大部分高分子材料也可以处理好,只需要很低的气体流速,就可以清洗整体、局部、复杂的结构。等离子清洗过程中,不使用化学溶剂,所以基本没有污染物,有利于环保。此外,生产成本低,清洗均匀性、重复性和可控性好,易于实现批量生产。

       等离子,即物质的第四态,是由部分电子被剥夺后的原子以及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气状物质。这种电离气体是由原子,分子,原子团,离子,电子组成。其作用在物体表面可以实现物体的洁净清洗、物体表面活(化)、蚀刻、精整以及等离子表面涂覆。根据等离子体中存在微粒的不同,其具体可以实现对物体处理的原理也各不相同,加之输入气体以及控制功率的不同,都实现了对物体处理的多样化。因低温等离了体对物体表面处理的强度小于高温等离子体,能够实现对处理物体表面的保护作用,应用中我们使用的多为低温等离子体。并且各种粒子在对物体处理过程中所表现出来的作用也各不相同的。

关键词:

扫二维码用手机看

相关资讯

深圳市诚峰智造有限公司

坚持以品质为立足之本,诚信为经营之道,以创新为发展之源,以服务为价值之巅

©深圳市诚峰智造有限公司版权所有 粤ICP备19006998号
dh

电话:0755-3367 3020 /0755-3367 3019

dh

邮箱:sales-sfi@sfi-crf.com

dh

地址:深圳市宝安区黄埔孖宝工业区