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玻璃经低温等离子体处理后基片表面清洁活(化)表面能提高

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-06-06
  • 访问量:

【概要描述】       玻璃经过低温等离子体表面处理后, 基片表面清洁活(化), 表面能提高,不仅有效地去除掉吸附在玻璃基片上的环境气体分子、水汽和污物, 在基片表面形成清洁活(化)的微观粗糙面, 而且还避免了二次污染。玻璃作为一种建筑材料已有几个世纪的历史。玻璃具有化学惰性,在环境影响下性质稳定,用常规清洗烘干处理玻璃基片, 很难彻底清(除)吸附在表面的异物。又由于在运输、搬运过程中其表面仍暴露在大气中, 难免会吸附上环境气体、水汽和微尘, 如果不加处理, 会造成膜层与基片结合力不强、产生针孔和颗粒。利用低温等离子体处理完后玻璃材料能够立即进入下一步的加工过程。因而,玻璃等离子表面处理是一种稳定而又高(效)的工艺过程。          低温等离子体中粒子的能量一般约为几个致几十电子伏特,大于聚合物材料的结合键能(几个致十几电子伏特),完(全)可以破裂有(机)大分子的化学键而形成新键;但远低于高能放射性射线,只涉及材料表面,不影响基体的性能。处于非热力学平衡状态下的低温等离子体中,电子具有较高的能量,可以断裂材料表面分子的化学键,提高粒子的化学反应活性(大于热等离子体),而中性粒子的温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。          玻璃的表面状态对玻璃性能有很大的影响,利用等离子表面处理技术进行改性,设备简单,原材料消耗少,成本低廉,产品的附加值高优化玻璃镀膜,粘合及去膜工艺,低温等离子体表面改性材料目前已广泛应用于电容、电阻式手机触摸屏等一些需要精加工的玻璃。经过等离子处理后的玻璃可以达到点72达因,水滴角可以降到10度以内。解决了玻璃难粘接、印刷、电镀难的问题。        当玻璃基片处在等离子体中时, 由于表面受到低温等离子体中的荷能粒 (电) 子的 轰击, 首先基片表面吸附的环境气体、水汽、污物等被轰掉, 使表面清洁活(化), 表面能提高, 当沉积时薄膜原子或分子更好地浸润基片, 增大范德华力。其次玻璃基片表面经过荷能粒 (电) 子的撞击, 从微观上看, 基片表面会形成许多凹坑、孔隙, 在沉积过程中薄膜原子或分子进入这些凹坑、孔隙, 便产生了机械锁合力。此外基片表面的粗化, 使实际的表面积增大, 这对增大范德华力、扩散附着力和静电力都是有利的, 因此增大了总的附着力。  

玻璃经低温等离子体处理后基片表面清洁活(化)表面能提高

【概要描述】       玻璃经过低温等离子体表面处理后, 基片表面清洁活(化), 表面能提高,不仅有效地去除掉吸附在玻璃基片上的环境气体分子、水汽和污物, 在基片表面形成清洁活(化)的微观粗糙面, 而且还避免了二次污染。玻璃作为一种建筑材料已有几个世纪的历史。玻璃具有化学惰性,在环境影响下性质稳定,用常规清洗烘干处理玻璃基片, 很难彻底清(除)吸附在表面的异物。又由于在运输、搬运过程中其表面仍暴露在大气中, 难免会吸附上环境气体、水汽和微尘, 如果不加处理, 会造成膜层与基片结合力不强、产生针孔和颗粒。利用低温等离子体处理完后玻璃材料能够立即进入下一步的加工过程。因而,玻璃等离子表面处理是一种稳定而又高(效)的工艺过程。
 
       低温等离子体中粒子的能量一般约为几个致几十电子伏特,大于聚合物材料的结合键能(几个致十几电子伏特),完(全)可以破裂有(机)大分子的化学键而形成新键;但远低于高能放射性射线,只涉及材料表面,不影响基体的性能。处于非热力学平衡状态下的低温等离子体中,电子具有较高的能量,可以断裂材料表面分子的化学键,提高粒子的化学反应活性(大于热等离子体),而中性粒子的温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。


 
       玻璃的表面状态对玻璃性能有很大的影响,利用等离子表面处理技术进行改性,设备简单,原材料消耗少,成本低廉,产品的附加值高优化玻璃镀膜,粘合及去膜工艺,低温等离子体表面改性材料目前已广泛应用于电容、电阻式手机触摸屏等一些需要精加工的玻璃。经过等离子处理后的玻璃可以达到点72达因,水滴角可以降到10度以内。解决了玻璃难粘接、印刷、电镀难的问题。

       当玻璃基片处在等离子体中时, 由于表面受到低温等离子体中的荷能粒 (电) 子的 轰击, 首先基片表面吸附的环境气体、水汽、污物等被轰掉, 使表面清洁活(化), 表面能提高, 当沉积时薄膜原子或分子更好地浸润基片, 增大范德华力。其次玻璃基片表面经过荷能粒 (电) 子的撞击, 从微观上看, 基片表面会形成许多凹坑、孔隙, 在沉积过程中薄膜原子或分子进入这些凹坑、孔隙, 便产生了机械锁合力。此外基片表面的粗化, 使实际的表面积增大, 这对增大范德华力、扩散附着力和静电力都是有利的, 因此增大了总的附着力。


 

  • 分类:技术支持
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-06-06 11:32
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       玻璃经过低温等离子体表面处理后, 基片表面清洁活(化), 表面能提高,不仅有效地去除掉吸附在玻璃基片上的环境气体分子、水汽和污物, 在基片表面形成清洁活(化)的微观粗糙面, 而且还避免了二次污染。玻璃作为一种建筑材料已有几个世纪的历史。玻璃具有化学惰性,在环境影响下性质稳定,用常规清洗烘干处理玻璃基片, 很难彻底清(除)吸附在表面的异物。又由于在运输、搬运过程中其表面仍暴露在大气中, 难免会吸附上环境气体、水汽和微尘, 如果不加处理, 会造成膜层与基片结合力不强、产生针孔和颗粒。利用低温等离子体处理完后玻璃材料能够立即进入下一步的加工过程。因而,玻璃等离子表面处理是一种稳定而又高(效)的工艺过程。
 
       低温等离子体中粒子的能量一般约为几个致几十电子伏特,大于聚合物材料的结合键能(几个致十几电子伏特),完(全)可以破裂有(机)大分子的化学键而形成新键;但远低于高能放射性射线,只涉及材料表面,不影响基体的性能。处于非热力学平衡状态下的低温等离子体中,电子具有较高的能量,可以断裂材料表面分子的化学键,提高粒子的化学反应活性(大于热等离子体),而中性粒子的温度接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供了适宜的条件。

低温等离子体
 
       玻璃的表面状态对玻璃性能有很大的影响,利用等离子表面处理技术进行改性,设备简单,原材料消耗少,成本低廉,产品的附加值高优化玻璃镀膜,粘合及去膜工艺,低温等离子体表面改性材料目前已广泛应用于电容、电阻式手机触摸屏等一些需要精加工的玻璃。经过等离子处理后的玻璃可以达到点72达因,水滴角可以降到10度以内。解决了玻璃难粘接、印刷、电镀难的问题。

       当玻璃基片处在等离子体中时, 由于表面受到低温等离子体中的荷能粒 (电) 子的 轰击, 首先基片表面吸附的环境气体、水汽、污物等被轰掉, 使表面清洁活(化), 表面能提高, 当沉积时薄膜原子或分子更好地浸润基片, 增大范德华力。其次玻璃基片表面经过荷能粒 (电) 子的撞击, 从微观上看, 基片表面会形成许多凹坑、孔隙, 在沉积过程中薄膜原子或分子进入这些凹坑、孔隙, 便产生了机械锁合力。此外基片表面的粗化, 使实际的表面积增大, 这对增大范德华力、扩散附着力和静电力都是有利的, 因此增大了总的附着力。


 

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