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六大类表面处理等离子清洗机的应用去除产品表面残留物

  • 分类:业界动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-04-20
  • 访问量:

【概要描述】        鉴于等离子清洗机在各行各业中的广泛应用,CRF诚峰智造小编总结了6种等离子清洗机应用的解决方案。对表面激活的解决办法,用等离子表面处理机处理后,可提高表面能,亲水性,增加粘结度,粘结强度等。在清洗过程中,等离子表面处理机与不同气体配合使用,其清洗后的残余物的脏污效果也大相径庭。在这些气体中,常用的是惰性气体氩(Ar),真空设备清洗过程中经常与氩气配合使用,可有效去除表面纳米级污染物。         材料表面蚀刻的解决办法,选择性地利用反应气体等离子体对材料表面进行腐蚀,使腐蚀材料上的杂质转化为气体,再通过真空泵排出,处理后材料的微观表面体积增大,并具有良好的亲水性。为了加强蚀刻作用,可通入氧气(O2),可有效去除光刻胶等有机污染物。         纳米涂层解决方案,通过等离子清洗机的处理,等离子引导聚合形成纳米涂层。各种材料均可通过表面涂层获得疏水性(疏水)、亲水性(亲水)、疏脂性(抗脂)、疏油性(抗油)。还有一些氢(H2)可以与其他难以去除的氧化物结合使用,通常会选用氢氮混合气体(95%的氮与5%的氢混合)。         TSP/OLED产品解决方案,在TSP方面:对触摸屏的主要工艺进行清洗,改善OCA/OCR、压层、ACF、AR/AF等工艺上的附着力/涂层力,通过在各种大气压等离子体上使用,可以消除气泡/异物,均匀地放电各种玻璃、薄膜,使表面无损伤。氮气(N2)是应用广泛的气体,其生产成本较低。本发明的气体主要是结合在线等离子清洗机技术对材料进行表面活化改性。也可应用于真空环境。氮气(N2)是一种能提高材料表面浸润性的气体。         真空等离子清洗机设备的解决方案,由于真空等离子体中有很高的能量密度,所有具有稳定熔融相的粉末实际上都能被转变为致密、牢固附着的喷涂涂层,而涂层的质量取决于喷射粉末颗粒撞击工件表面时的瞬间熔化程度。真空等离子喷涂技术为现代涂布机的生产提供了新的途径。         表面清洁的解决方案,采用射频电源,在真空等离子体空腔中产生高能、无序等离子体,通过等离子轰击被清洗的产品表面,使表面的污染物从产品上脱落,从而达到清洗目的。另外,还有一些特殊气体,如四氟化碳(CF4)、六氟化硫(SF6)等,这些气体在等离子清洗机中的使用对有机物质的蚀刻和去除更为重要。

六大类表面处理等离子清洗机的应用去除产品表面残留物

【概要描述】        鉴于等离子清洗机在各行各业中的广泛应用,CRF诚峰智造小编总结了6种等离子清洗机应用的解决方案。对表面激活的解决办法,用等离子表面处理机处理后,可提高表面能,亲水性,增加粘结度,粘结强度等。在清洗过程中,等离子表面处理机与不同气体配合使用,其清洗后的残余物的脏污效果也大相径庭。在这些气体中,常用的是惰性气体氩(Ar),真空设备清洗过程中经常与氩气配合使用,可有效去除表面纳米级污染物。


        材料表面蚀刻的解决办法,选择性地利用反应气体等离子体对材料表面进行腐蚀,使腐蚀材料上的杂质转化为气体,再通过真空泵排出,处理后材料的微观表面体积增大,并具有良好的亲水性。为了加强蚀刻作用,可通入氧气(O2),可有效去除光刻胶等有机污染物。
        纳米涂层解决方案,通过等离子清洗机的处理,等离子引导聚合形成纳米涂层。各种材料均可通过表面涂层获得疏水性(疏水)、亲水性(亲水)、疏脂性(抗脂)、疏油性(抗油)。还有一些氢(H2)可以与其他难以去除的氧化物结合使用,通常会选用氢氮混合气体(95%的氮与5%的氢混合)。
        TSP/OLED产品解决方案,在TSP方面:对触摸屏的主要工艺进行清洗,改善OCA/OCR、压层、ACF、AR/AF等工艺上的附着力/涂层力,通过在各种大气压等离子体上使用,可以消除气泡/异物,均匀地放电各种玻璃、薄膜,使表面无损伤。氮气(N2)是应用广泛的气体,其生产成本较低。本发明的气体主要是结合在线等离子清洗机技术对材料进行表面活化改性。也可应用于真空环境。氮气(N2)是一种能提高材料表面浸润性的气体。
        真空等离子清洗机设备的解决方案,由于真空等离子体中有很高的能量密度,所有具有稳定熔融相的粉末实际上都能被转变为致密、牢固附着的喷涂涂层,而涂层的质量取决于喷射粉末颗粒撞击工件表面时的瞬间熔化程度。真空等离子喷涂技术为现代涂布机的生产提供了新的途径。
        表面清洁的解决方案,采用射频电源,在真空等离子体空腔中产生高能、无序等离子体,通过等离子轰击被清洗的产品表面,使表面的污染物从产品上脱落,从而达到清洗目的。另外,还有一些特殊气体,如四氟化碳(CF4)、六氟化硫(SF6)等,这些气体在等离子清洗机中的使用对有机物质的蚀刻和去除更为重要。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-04-20 09:10
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六大类表面处理等离子清洗机的应用去除产品表面残留物:
        鉴于等离子清洗机在各行各业中的广泛应用,CRF诚峰智造小编总结了6种等离子清洗机应用的解决方案。对表面激活的解决办法,用等离子表面处理机处理后,可提高表面能,亲水性,增加粘结度,粘结强度等。在清洗过程中,等离子表面处理机与不同气体配合使用,其清洗后的残余物的脏污效果也大相径庭。在这些气体中,常用的是惰性气体氩(Ar),真空设备清洗过程中经常与氩气配合使用,可有效去除表面纳米级污染物。

诚峰智造表面处理等离子清洗机
        材料表面蚀刻的解决办法,选择性地利用反应气体等离子体对材料表面进行腐蚀,使腐蚀材料上的杂质转化为气体,再通过真空泵排出,处理后材料的微观表面体积增大,并具有良好的亲水性。为了加强蚀刻作用,可通入氧气(O2),可有效去除光刻胶等有机污染物。
        纳米涂层解决方案,通过等离子清洗机的处理,等离子引导聚合形成纳米涂层。各种材料均可通过表面涂层获得疏水性(疏水)、亲水性(亲水)、疏脂性(抗脂)、疏油性(抗油)。还有一些氢(H2)可以与其他难以去除的氧化物结合使用,通常会选用氢氮混合气体(95%的氮与5%的氢混合)。
        TSP/OLED产品解决方案,在TSP方面:对触摸屏的主要工艺进行清洗,改善OCA/OCR、压层、ACF、AR/AF等工艺上的附着力/涂层力,通过在各种大气压等离子体上使用,可以消除气泡/异物,均匀地放电各种玻璃、薄膜,使表面无损伤。氮气(N2)是应用广泛的气体,其生产成本较低。本发明的气体主要是结合在线等离子清洗机技术对材料进行表面活化改性。也可应用于真空环境。氮气(N2)是一种能提高材料表面浸润性的气体。
        真空等离子清洗机设备的解决方案,由于真空等离子体中有很高的能量密度,所有具有稳定熔融相的粉末实际上都能被转变为致密、牢固附着的喷涂涂层,而涂层的质量取决于喷射粉末颗粒撞击工件表面时的瞬间熔化程度。真空等离子喷涂技术为现代涂布机的生产提供了新的途径。
        表面清洁的解决方案,采用射频电源,在真空等离子体空腔中产生高能、无序等离子体,通过等离子轰击被清洗的产品表面,使表面的污染物从产品上脱落,从而达到清洗目的。另外,还有一些特殊气体,如四氟化碳(CF4)、六氟化硫(SF6)等,这些气体在等离子清洗机中的使用对有机物质的蚀刻和去除更为重要。

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