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大气plasma放电电压对等离子体CH4临H2转化反应的影响

  • 分类:公司动态
  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
  • 来源:
  • 发布时间:2021-04-13
  • 访问量:

【概要描述】        随着放电电压的增大甲烷的转化率和C2烃收率呈上升趋势,C2烃选择性先增大后减小,在大气plasma放电电压为16 kV时C2烃选择性大。据文献报道,低温大气plasma等离子体条件下,CH活性物种的发射强度变化直接受工作气压和放电参数的影响。         由CH 活性物种的强弱可探知甲烷在等离子体中裂解的程度,因为同一条谱线的强度和该成分的粒子密度成正比,所以通过谱线的相对强度随各工艺参数的变化可推测该粒子数随相应工艺参数的变化。提高放电电压,大气plasmaCH 活性物种的发射强度随放电电压的增加而增强。         分析其原因是在气体流速不变的条件下,输入电压低时电子受电场加速获得的能量低,同时低能态下总的碰撞橫截面积也较低,CH4与高能电子的碰撞概率小,从而导致生成的活性物种少。随着放电电压的升高,电离率和电子密度增加,同时高能电子与CH4碰撞横截面也随之增大,意味着碰撞概率加大,生成的CH活性物种增多。同时也注意到,在实验过程中,随着电压的增加,反应器壁上的积碳有所增加。

大气plasma放电电压对等离子体CH4临H2转化反应的影响

【概要描述】        随着放电电压的增大甲烷的转化率和C2烃收率呈上升趋势,C2烃选择性先增大后减小,在大气plasma放电电压为16 kV时C2烃选择性大。据文献报道,低温大气plasma等离子体条件下,CH活性物种的发射强度变化直接受工作气压和放电参数的影响。


        由CH 活性物种的强弱可探知甲烷在等离子体中裂解的程度,因为同一条谱线的强度和该成分的粒子密度成正比,所以通过谱线的相对强度随各工艺参数的变化可推测该粒子数随相应工艺参数的变化。提高放电电压,大气plasmaCH 活性物种的发射强度随放电电压的增加而增强。
        分析其原因是在气体流速不变的条件下,输入电压低时电子受电场加速获得的能量低,同时低能态下总的碰撞橫截面积也较低,CH4与高能电子的碰撞概率小,从而导致生成的活性物种少。随着放电电压的升高,电离率和电子密度增加,同时高能电子与CH4碰撞横截面也随之增大,意味着碰撞概率加大,生成的CH活性物种增多。同时也注意到,在实验过程中,随着电压的增加,反应器壁上的积碳有所增加。

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  • 作者:等离子清洗机-CRF plasma等离子设备-等离子表面处理机厂家-诚峰智造
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  • 发布时间:2021-04-13 08:50
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大气plasma放电电压对等离子体CH4临H2转化反应的影响:
        随着放电电压的增大甲烷的转化率和C2烃收率呈上升趋势,C2烃选择性先增大后减小,在大气plasma放电电压为16 kV时C2烃选择性大。据文献报道,低温大气plasma等离子体条件下,CH活性物种的发射强度变化直接受工作气压和放电参数的影响。

诚峰智造大气plasma
        由CH 活性物种的强弱可探知甲烷在等离子体中裂解的程度,因为同一条谱线的强度和该成分的粒子密度成正比,所以通过谱线的相对强度随各工艺参数的变化可推测该粒子数随相应工艺参数的变化。提高放电电压,大气plasmaCH 活性物种的发射强度随放电电压的增加而增强。
        分析其原因是在气体流速不变的条件下,输入电压低时电子受电场加速获得的能量低,同时低能态下总的碰撞橫截面积也较低,CH4与高能电子的碰撞概率小,从而导致生成的活性物种少。随着放电电压的升高,电离率和电子密度增加,同时高能电子与CH4碰撞横截面也随之增大,意味着碰撞概率加大,生成的CH活性物种增多。同时也注意到,在实验过程中,随着电压的增加,反应器壁上的积碳有所增加。

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