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大气宽幅真空等离子清洗设备厂家直销大量现货供应
        诚峰智造等离子厂家大量现货供应各种大气宽幅真空等离子清洗设备,等离子清洗机全系列产品应有具有,20年国内硬件及自主研发的软件技术,清洗效果稳定,大气宽幅真空等离子清洗设备产品可长期运行5年质量稳定。         (1)大气宽幅真空等离子清洗设备价格:全国范围内统一销售。         (2)功能完善,结构丰富。         (3)符合清洁要求。         (4)硬件的精度高。         (5)软件具有全面功能。         (6)处理效果稳定可靠。         (7)等离子清洗设备生产厂家技术专业化程度高。         (8)交货周期短,甚至还有现货。         (9)售后服务良好。         (10)源头制造商生产厂家。         (11)行业人都在用。         (12)较高的品牌知名度。         (13)品牌使用时间较长。         (14)产品非常稳定。         (15)根据用户的实际需求,一对一专人制定整个大气宽幅真空等离子清洗设备清洗方案。         (16)提供样品样机测试。         (17)使用设备费用低。         大气宽幅真空等离子清洗设备特点是:         硬件及软件技术自主研发,清洗效果稳定,20年的生产制造经验,清洗效果稳定,产品长时间运转质量稳定。产品出厂前,100+技术检测与完善的质量检验标准,强大的研发队伍和精密的生产设备,同行均在使用。
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低温等离子设备厂家等离子设备改善表面附着力
        低温等离子设备已广泛应用于各种材料的镀膜前贴合,诚峰智造低温等离子设备厂家研发设计的等离子设备表面处理可有效改善各种材料的表面附着力,提高材料的附着力。         低温等离子设备等离子表面处理PP材料,激活产品表面:各种瓶盖、笔盖、笔杆在丝印/移印前活化,汽车内饰件如门内衬板的PP板与金属板点胶前清洗活化,积木丝印前活化等等,在PP料的家用电器外壳经过移印前活化处理后,表面的粘合效果明显提高。         采用低温等离子设备厂家设备低温处理汽车灯具改善粘接效果,应用于各种橡胶封条、LED贴片、PCB、FPC、手机玻璃盖板材料镀膜前贴片、芯片、半导体、晶片、液晶显示器、锂电池等。         市场上的大多数材料都是采用粘接,以满足各种材料之间防漏,粘接的要求。若能在合适的工艺条件下配合,再加上自身的价格优势,就能获得既便宜又优质的胶结效果。利用低温等离子体法对胶结表面进行预处理,使这一结果成为可能,而常压低温等离子体法表面处理设备使这一过程在连续生产过程中和成本上得到了用户的认可。因为它是在常压下工作,所以它能与已有生产线很好地结合,实现连续生产。正因为有这些特性,诚峰智造低温等离子厂家设备已被广泛应用于制造企业生产。因为改变它的超亲水性清洗活化可以使它的表面洁净。         诚峰智造专业为客户定制各种尺寸,各种性能的等离子设备,提供高质量的等离子表面处理解决方案,多年的生产经验和科研成果,等离子处理表面用于前一步的预处理步骤,例如印刷、粘合、喷涂、油漆或涂层清洗和表面活化,被用来解决许多工业中与粘附和润湿有关的问题。         司开发的等离子表面处理机,改善表面附着力处理效果好,可在线处理,成本低,节能环保,且可监测,已受到国内各大制造企业及配件厂家乃至高校、科研机构的重视和欢迎。如今,随着中国制造业的高度发展,华为、蓝思、闻泰等公司都成为我司的客户,购买等离子处理产品,为企业生产出更多高质量的产品做出了重大贡献,目前我司的客户已达数千家。
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等离子表面改性设备处理不同材料前预处理提高粘接力
        在不同材料之前进行等离子表面改性设备处理提高粘接力,它的清洗原理是通过对表面的附着或吸附官能团,以适应特定应用的表面特性,对聚合物表面进行清洗活化,提高粘接能力。         充填封装前等离子表面改性设备等离子体活化电路板、环氧树脂、聚四氟乙烯印刷电路板的蚀刻和去污、金触头脱氧、O型圈等离子体清洗、PWIS等清洗。对许多O型圈和密封元件的使用有严格的要求,而且组件没有任何油漆润湿损坏物质(如硅胶)。该方法可用于涂料、涂料工艺及涂料应用,也可用于某些执行重要丝焊任务的印制电路板的生产。         弹力材料含有大量的涂料湿润损伤物质,传统湿法无法去除这些物质。软化剂和脱模剂能从弹性体的主体转移到表面,从而造成质量问题。等离子表面改性设备等离子清洗工艺是用来保证在这些部件中符合标准。         等离子清洗消除了油漆和涂料之间不结合的障碍。可以清除硅酮污染物增加各种塑料的粘结力。改善所有聚合物材料表面的润湿性,等离子体处理印刷粘附处理三维形状的表面活化,对不同材料如金属、陶瓷、玻璃印刷纺织等离子体处理可以改善性能,对很多产业都有好处,包括半导体,医疗,IC集成电路等等。         等离子表面改性设备改善了难于表面的墨水粘着性,例如聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚碳酸酯(PC)和聚酰胺(PA)。         通过加工和在线等离子处理,可以在数秒内将这些表面润湿,使均匀、无溶剂的墨水具有良好的印花附着力。等离子体处理是一种固有的冷加工工艺,对热敏材料同样适用。等离子体处理特别适合于不同材料复杂三维形状的金属、玻璃、陶瓷的表面活化,等离子化处理可达到油墨附着性能好,提高表面粘着性能。         等离子表面改性设备原理:         1、表面通过附着或吸附官能团来进行处理,以适应特定的应用。         2、改进高分子表面微观结构,提高粘附力。         3、等离子体聚合沉积聚合物层,进行表面腐蚀。         4、等离子体激活表面的接枝功能聚合物或端基。         5、准备用于后续加工的表面,如薄膜沉积或分子吸附。         6、改进涂层的表面覆盖与铺展,提高两表面间的粘附性和润湿性。         7、变湿润使表面亲水性。         8、在不影响材料的情况下改变表面特性。
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用大气压等离子体射流清洗手机玻璃面板去除油脂类物质
  近年来手机均以玻璃为面板,为了提高玻璃面板的强度和硬度,通常采用化学钢化。而在化学钢化前需要进行清洗,如果清洗不良,则会影响产品质量。   传统的清洗方法是先用洗涤剂刷洗,再用酸液碱液与有机溶剂超声波清洗。工序复杂,费时费工,且造成污染。而现在有低温等离子体处理工艺。低温等离子体富集的离子、电子、激发态原子、分子及自由基均为活性粒子,易于和材料表面发生反应。因而在表面改性、薄膜沉积、刻蚀加工、器件清洗等领域得到广泛应用。   大气低温等离子体射流是近年来兴起的等离子处理工艺,具有击穿电压较低、离子和亚稳态分子浓度较高、电子温度高、中性分子温度低等优点,产生的等离子体均匀,可控性好,不需要抽真空,能连续进行表面清洗。   在清洗时,等离子体中化学活性成分浓度愈高,清洗效果愈好。等离子射流对玻璃表面的清洗,除了机械作用外,更主要是活性氧的化学作用,等离子中激发态的Ar*,   使氧分子激发为激发态氧原子   Ar*+O2→O+O*+Ar(1)   Ar*+O→O+Ar(2)   高能量电子撞击氧分子使其分解,形成激发态氧原子   e +O2→O+O*+ e(3)   e+O2→O+O+e(4)   沾污的润滑油与硬脂酸主要成分为碳氢化合物,这些碳氢化合物为活性氧所氧化,生成二氧化碳和水   CnHm + pO*→xCO2 + yH2O(5)   从而将油脂从玻璃表面上除去。   润滑油和硬脂酸是手机玻璃表面板常见的沾污物质,污染后玻璃表面对水的接触角增加,影响到离子交换。传统的清洗方法工艺复杂且有污染。   大气等离子体发生器,结构简单,不需要抽真空,室温下即可进行清洗,所产生的激发态的氧原子比一般氧原子更具有活性,可将污染的润滑油和硬脂酸中的碳氢化合物进行氧化,生成二氧化碳和水。   等离子体射流同时还具有机械冲击力,起到了刷洗作用,使玻璃表面污染物迅速脱离玻璃表面,达到高效清洗的目的。  
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氧等离子体表面处理对ito薄膜的影响改善ito薄膜电学性能
  铟锡氧化物(ITO)作为一种重要的透明半导体材料,不仅具有稳定的化学性质,而且具有优良的透光性和导电能力,因此在光电子工业中得到了非常广泛的应用。ITO的导带主要由In和Sn的5s轨道组成,而价带则是氧的2p轨道占主导地位,氧空位及Sn取代掺杂原子构成施主能级并影响导带中的载流子浓度,ITO由于沉积过程中在薄膜中产生氧空位和Sn掺杂取代而形成高度简并的n型半导体,其费米能级Er位于导带底Ec之上,从而具有很高的载流子浓度和较低的电阻率。   另外, ITO的光学带隙较宽,因此它对可见光和近红外光都具有很高的透过率。由于ITO薄膜具有上述独特性质,所以它被广泛应用于光伏电池、电致发光、液晶显示、传感器和激光器等光电器件中。众所周知,ITO属于非化学计量学,化合物,沉积条件、后处理工艺和清洗方法等因素都将明显影响其表面性能,特别是其表面的表面形态和化学组分,从而影响ITO薄膜与有机层之间的界面特性,并进而影响器件的光电性能。   因此商用ITO导电玻璃用于制作器件之前,通常需要采用适当的方法对ITO薄膜表面进行处理,通过改进其表面电学性能和表面形态来提高器件的性能。迄今为止,用于ITO表面改性的方法可以分为干法处理和湿法处理两种类型。其中,氧等离子体表面处理干法处理通常采用各种电离气体等离子体对ITO表面进行清洗,来去除其表面污染、改善其表面形态;而湿法处理则通过不同的有机溶剂在ITO表面键合新的基团,以达到对其表面进行改性的目的。   采用氧等离子体处理对ITO阳极进行表面改性,处理前后ITO薄膜化学组分、晶体结构、透光性能和方块电阻的变化可以看出,未处理的ITO表面含有碳元素相关的残余污染物,而经过等离子体处理后,其肩峰强度得到了明显减小,这说明氧等离子体表面处理有效去除ITO表面上的有机污染物。等离子体处理在降低了ITO表面的碳浓度的同时,提高了ITO表面的氧浓度,而改善了ITO表面的化学组分,这对于提高ITO的功函数、改善器件性能是非常重要的。另外, 采用四探针方法测试处理前后ITO样品的方块电阻,发现等离子体处理能够降低ITO电极的方块电阻,有利于器件性能的改善。   综上所述,在几乎不改变ITO薄膜晶体结构和光学透过率的条件下,氧等离子体表面处理不仅降低了ITO的方块电阻,而且改善了ITO表面的化学组分、提高了ITO的功函数,从而优化了ITO阳极的物理性能。等离子体表面改性有利于提高有机太阳能电池的能量转换效率、改善器件的光伏性能,对于提高有机光伏电池的短路电流、填充因子和能量转换效率都具有重要的作用。
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国产等离子体刻蚀机厂家:定向自组装材料等离子体刻蚀
       在22nm以下的工艺中,缩小周期性间距成为一种必须手段,一般的做法是通过二次曝光的方式,就是反复光刻蚀刻来实现小尺寸、小直径的图案定义,这种方式已在鳍式场效应晶体管中成功量产,但无疑其成本会成指数形式增加。许多微图形定义方面的专家在很早就在探寻其他的微小尺寸的图形定义方法,实现超出当前光刻机物理的图形定义。其中利用聚苯乙烯(PS),聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)及其嵌段共聚物进行定向自组装是一种讨论较多的方式。国产等离子体刻蚀机厂家介绍方法是利用嵌段共聚物中不同组分之间的相转变条件不同去除部分组分实现图案定义。较为成功的案例是利用聚苯乙烯及聚甲基丙烯酸甲酯的嵌段共聚物来缩小周期性间距以及通过先图形定义来实现极小直径的接触孔。其中极小接触孔的定义是通过先进行图形定义,而后填充嵌段共聚物,这样嵌段共聚物就会填满之前定义的图形,而相转变先发生在图形边界而后逐步向体内蔓延,这一特点正好为我们所用。如果前面先定义成接触孔直径为68nm,那么通过这种方式二次定义后的接触孔可以缩小到20nm。同时利用前一步图案的不同形貌和调控嵌段共聚物的形态可以实现不同形状、大小,甚至不同密集度的接触孔。        如果这种定向自组装的图形定义方式得以用于量产,对于如何清除这些不需要的嵌段共聚物就成为必须深入研究的问题。现在的一般方法是通过湿法蚀刻去除或干法等离子体蚀刻去除两种。一般来讲湿法去除的选择比极高,但是对图形的定义不够好,会带来较差的线宽粗糙度并可能使密集而狭窄的线塌缩,这是因为溶液具有浸润效应。而国产等离子体刻蚀机厂家干法等离子体蚀刻去除一般选择比会低一些但不会有这些问题。表8.3中列出了常见的干法蚀刻方法和实际性能。从中我们可以看到,Ar和氧气的混合蚀刻效果好,尽管对嵌段共聚物的选择比不是高,但是对下层材料的选择比、线宽粗糙度和关键尺寸定义都是很好的。 表8.3不同气体配比的嵌段共聚物蚀刻结果:   Ar O2 Ar/O2 CF4 O2/CHF3 PMMA/PS etch selectivity 3.63 1.50 2.04 1.85 1.82 Etch sel. To underlying material(Si or SiOx) Good Good Better Poor Poor Edge roughness Poor Poor Good Good Good CD(original CD:~25nm) Deformed 21.58nm 24.24nm 26.50nm 25.92nm        Xe和H2对PMMA和PS都有较高的蚀刻速率,生长在控片上的较厚PMMA/PS膜都会较快地被等离子体蚀刻完成,而用CO来蚀刻这两类材料都会发生蚀刻终止现象,气体饱和现象发生在蚀刻一开始阶段。相比较H2对PS的蚀刻速率会更快,选择比会降低。而CO会沉积在PS表面可以用来调节蚀刻的选择比。利用这3种气体的混合我们可以 看到选择比都在5以上,可以应用于工业生产。但是Xe-CO的混合气体会引人更多的碳化物沉积在PMMA表面,破坏本来的图案。相比之下,CO-H2的组合对图案化的影响很小,利于实际控制。在10nm工艺中已经利用CO-H2成功地形成了光刻等离子体蚀刻关键尺寸差异小于1nm,直径15nm 的接触孔。        越来越接近硅半导体的瓶颈,新材料不断地涌现,且实现的器件也越来越多,并更接近量产。这些即将出现在半导体集成电路里面的新材料,对于蚀刻很有挑战。这类材料一般都具有更好的导电性和化学活性,偏向于化学蚀刻更多一点。总的要求是要图形定义精准,对关键层和接触层的损伤小,在此基础上,再追求对掩膜层和下层材料的高选择比。当然对于越来越精细的器件加工,对特殊图形的定义的情况也越来越多,对于这两类情况,新的等离子体蚀刻机台和新的蚀刻方式是式是有效的途径。        以上就是诚峰智造国产等离子体刻蚀机厂家对定向自组装材料等离子体刻蚀介绍,希望对你有帮助
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