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plasma除胶原理

plasma等离子清洗机基本原理与运用:

1)去除胶反映原理:

氧是干法plasma等离子技术去胶中的关键腐蚀气体。在真空泵等离子选用高频率和微波能量弱电解质,造成氧离子、游离氧分子O、氧原子和电子混合物,在高频率工作电压下与光刻技术膜反应:O2→O*+ O*, CxHy + O*→CO2↑+ H2O↑,反映后,CO2和H2O被除去。

2)plasma等离子技术去胶方法:

将该去胶片插进石英舟平行面气流方位,插进真空系统中间的两个电极中间,真空泵至1.3pa,通进适度的氧气中,在1.3-13pa的声室工作压力,添加高频率输出功率,在电极中间的紫辉光充放电,经调整输出功率、总流量等性能参数,能够得到不一样的去胶速度,当胶膜被清理时,辉光消失。

影响去胶的要素:

频率挑选:频率越高,氧就越非常容易离子化产生等离子,电子的震幅比均值范畴小,电子与气体分子结构撞击机率减少,弱电解质速度减少。频率设定一般是13.56MHz和2.45GHZ。

输出功率效:针对一定量的气体,输出功率大,活性颗粒物密度大,去胶速度更快,但当输出功率提升到一定值时,耗能的活性离子到达饱满,输出功率再大,去胶速率不明显。因为大功率和高温度,应依据技术标准调整输出功率。

真空值的挑选:真空值的适度提升,能够使电子运动的平均自由程越大,从静电场得到的动能越大,有益于弱电解质。当氧气流动性必守,真空值越高,氧的相对份额越大,特异性颗粒浓度值越大。但假如真空值过高,活性颗粒的浓度值便会降低。

氧流量对plasma设备去胶影响:氧流量大,活性颗粒密度大,去胶速度加速,但速度过大,正离子复合几率扩大,电子运动平均自由程减少,弱电解质抗压强度减少。假如反映室工作压力稳定,总流量提升,则抽出的气体量也会提升,未参加反应的活性颗粒量抽出也会提升,因而流量对去胶的影响不明显。

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