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深圳市诚峰智造有限公司

Shenzhen Sing Fung Intelligent  Manufacturing Co., Ltd.


地址:深圳宝安沙井黄埔孖宝工业区.


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等离子产品
  • 4D智能集成等离子处理系统CRF-APO-IP-XXHD

    单个处理系统可携带2-4个各种类型等离子喷枪,全网络匹配、智能集成一体化,具有更节省的空间、更多种类型的应用,具有RS485/RS232、启停I/O控制模式、方便快捷、降低成本,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境。

  • 自动On-Line式AP等离子处理系统CRF-APO-500W-C/W-S

    主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;国防工业的航空航天电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印刷前处理等。

  • 真空式等离子处理系统CRF-VPO-8L-S

    名称(Name)真空式等离子处理系统型号(Model)CRF-VPO-MC-6L控制系统(Control system)PLC+触摸屏电源(Power supply)380V/AC,50/60Hz,12.5kw中频电源功率(MF Power)2000W/40kHz容量(Volume)235L(Option)层数(Electrode of plies)6(Option)有效处理面积(Area)500(L)*500(W)(Option)气体通道(Gas)两路工作气体可选: Ar、N2、CF4、O2超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精确的控制设备运行。可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求。保养维修成本低,便于客户成本控制。高精度,

  • 真空式等离子处理系统CRF-VPO-MC-6L

    名称(Name)真空式等离子处理系统型号(Model)CRF-VPO-MC-6L控制系统(Control system)PLC+触摸屏电源(Power supply)380V/AC,50/60Hz,12.5kw中频电源功率(MF Power)2000W/40kHz容量(Volume)235L(Option)层数(Electrode of plies)6(Option)有效处理面积(Area)500(L)*500(W)(Option)气体通道(Gas)两路工作气体可选: Ar、N2、CF4、O2超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精确的控制设备运行。可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求。保养维修成本低,便于客户成本控制。高精度,

  • 喷射型AP等离子处理系统CRF-APO-DP1010-D

    名称(Name)喷射型AP等离子处理系统型号(Model)CRF-APO-DP1010-D电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)1000W/25KHz处理高度(Processing height)5-15mm处理宽幅(Processing width)1-6mm(Option)内部控制模式(Internal control mode)数字控制外部控制模式(External control mode)RS485/RS232数字通讯口、模拟量控制口工作气体(Gas)Compressed Air (0.4mpa)可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境;具有RS485/232数字通讯口和模拟量控制口,满足客户多元化需求。设备尺寸小巧,方便携

  • 喷射型AP等离子处理系统CRF-APO-RP1020-D

    名称(Name)喷射型AP等离子处理系统型号(Model)CRF-APO-RP1020-D电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)1000W/25KHz处理高度(Processing height)5-15mm处理宽幅(Processing width)20-80mm(Option)内部控制模式(Internal control mode)数字控制外部控制模式(External control mode)RS485/RS232数字通讯口、模拟量控制口工作气体(Gas)Compressed Air (0.4mpa)可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境;具有RS485/232数字通讯口和模拟量控制口,满足客户多元化需求。设备尺寸小巧,方便

  • 磁力悬浮型AP等离子处理系统CRF-APO-MP1030-D

    名称(Name)磁力悬浮型AP等离子处理系统型号(Model)CRF-APO-MP1030-D电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)1000W/25KHz处理高度(Processing height)5-15mm处理宽幅(Processing width)20-80mm(Option)内部控制模式(Internal control mode)数字控制外部控制模式(External control mode)RS485/RS232数字通讯口、模拟量控制口工作气体(Gas)Compressed Air (0.4mpa)可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境;采用磁动力作为动力源,使用寿命长,耗损低。具有RS485/232数字通讯口和模拟量

  • 喷射型AP等离子处理系统CRF-APO-DP1010-A

    名称(Name)喷射型AP等离子处理系统型号(Model)CRF-APO-DP1010-A电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)800W/25KHz处理高度(Processing height)5-15mm处理宽幅(Processing width)1-6mm(Option)内部控制模式(Internal control mode)模拟控制工作气体(Gas)Compressed Air (0.4mpa)可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境;设备尺寸小巧,方便携带和移动,节省客户使用空间;可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本;使用寿命长,保养维修成本低,便于客户成本控制;主要应用

  • 喷射型AP等离子处理系统CRF-APO-DP1020-A

    名称(Name)喷射型AP等离子处理系统型号(Model)CRF-APO-DP1020-A电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)800W/25KHz处理高度(Processing height)5-15mm处理宽幅(Processing width)20-80mm(Option)内部控制模式(Internal control mode)模拟控制工作气体(Gas)Compressed Air (0.4mpa)可选配多种类型喷嘴,使用于不同场合,满足各种不同产品和处理环境;设备尺寸小巧,方便携带和移动,节省客户使用空间;可In-Line式安装于客户设备产线中,减少客户投入成本;使用寿命长,保养维修成本低,便于客户成本控制;主要应

  • 自动X/Y轴式AP等离子处理系统CRF-APO-200P

    型号(Model)CRF-APO-200P电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)1000W /25KHz有效处理高度(Processing height)5-15mm处理速度(Processing speed)0-300mm / sY轴数量(Number)1set-4 set/Y(Option)工作气体(Gas)Compressed Air (0.4Mpa)配置专业移动平台,一键式控制启动,操作简单;可配置特制平台,满足客户多元化需求;可选配增加低温处理系统,处理温度可达45℃以下主要应用于电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理,手机屏幕的表面处理;国防工业的航空航天电连接器表面清洗;通用行业的丝网印刷、转移印

  • 全自动On-Line式AP等离子处理系统CRF-APS-500W

    型号(Model) CRF-APS-500W电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)1000W(Max)/13.56MHz有效处理宽幅(Processing width)120mm-2000mm(Option)有效处理高度(Processing height)1mm-3mm(Max)处理速度(Processing speed)0-5m/min工作气体(Gas)AR+O2u 应用于FPCPCB表面处理,复合型材料,玻璃,ITO等行业领域的表面处理;u 首创超低温处理过程,处理温度可 35℃以下;u 专利设计的内置式冷却系统,提高和保证设备的使用寿命和性能;u 灵活On-Line安装方式,电子和离子的能量可达10eV以上,材料批处理的效率可高于低气压辉

  • 全自动On-Line式AP等离子处理系统CRF-APO-500W-XN

    名称(Name)全自动On-Line式AP等离子处理系统型号(Model)CRF-APO-500W-XN电源(Power supply)380/AC,50/60Hz等离子功率(Plasma power)10KW(Max)/40KHz(Option)有效处理宽幅(Processing width)120mm-1200mm(Option)有效处理高度(Processing height)3mm~8mm(Max)处理速度(Processing speed)0-8m/min工作气体(Gas)N2/N2+CDA产品特点: 专利设计的内置式冷却系统,提高和保证设备的使用寿命和性能;灵活On-Line安装方式,电子和离子的能量可达10eV以上,材料批处理的效率可高于低气压辉光放电装置效率10倍以上。应用范

  • 自动On-Line(轴轮式)式AP等离子处理系统CRF-APO-500W

    型号(Model)CRF-APO-500W电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)2set*1000W/25KHz(Option)处理宽幅(Processing width)50mm-500mm(Option)有效处理高度(Processing height)5-15mm处理速度(Processing speed)0-5m/min传动方式(Drive mode)防静电绝缘滚轮喷头数量(Number)2(Option)工作气体(Gas)Compressed Air(0.4mpa)配置专业运动控制平台,PLC+触摸屏控制方式,采用精准运动模组,操作简便;可选配喷头数量,满足客户多元化需求; 配置专业集尘系统,保证产品品质和设备的整洁、干净;主要应用于电子行业的

  • 自动On-Line式(履带式)AP等离子处理系统CRF-APO-500W

    型号(Model)CRF-APO-500W电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)2set*1000W/25KHz(Option)处理宽幅(Processing width)50mm-500mm(Option)有效处理高度(Processing height)5-15mm处理速度(Processing speed)0-5m/min传动方式(Drive mode)防静电绝缘传送带喷头数量(Number)2(Option)工作气体(Gas)Compressed Air(0.4mpa)配置专业运动控制平台,PLC+触摸屏控制方式,采用精准运动模组,操作简便;配置专业集尘系统,保证产品品质和设备的整洁、干净;可选配喷头数量,满足客户多元化需求;主要应用于电子行业

  • 喷射型AP等离子处理系统CRF-APO-R&D-XXXD

    名称(Name)喷射型AP等离子处理系统(Jet type plasma processing system)等离子电源型号(Plasma power model)CRF-APO-R&D-XXXD电源(Power supply)220V/AC,50/60Hz功率(Power)600W/25KHz(Option)功率因素(Power factor)0.8处理高度(Processing height)5-15mm处理宽幅(Processing width)直喷式(Direct jet type):1-6mm(Option)旋喷式(Potary jet type):20mm~80mm内部控制模式(Internal control mode)数字控制(Digital control)外部控制模式(External conteol mode)启停I/O(ON/OFF I/O)工作气体(Gas)C

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