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健康、环保、效益、安全、革新的等离子清洗技术

最近客户提到的等离子体清洗造成材料表面的溅射损伤问题。实际上,只要能量控制合适,轻度的表面损伤反而可以极大地增强附着力,在某些情况下成为不可或缺的工艺,如:用 Ar 等离子体去除一些材料表面氧化物。当然,一些工艺试验表明 , 采用分步工艺法进行清洗 , 可以把这种损伤减小到最低程度。


另外 , 国内外早已经展开了对等离子体清洗残余物毒性的深入研究。等离子清洗设备和工艺以其在健康、环保、效益、安全等诸多方面的优势逐步取代湿法清洗工艺,特别是在精密件清洗和新半导体材料研究和集成电路器件制造业中,等离子清洗应用前景广阔。

Plasma等离子清洗与湿法清洗的主要区别
等离子清洗湿法化学清洗
工艺过程容易控制时间和化学溶剂对工艺灵敏
一次洗净,基本没有残留物可能需要进一步去除及处理或需要多道清洗
反应副产物为气体,在通过真空系统及中和器后可直接排放到大气中大量的废物需进一步处理
反应所需气体大多为无毒大多数溶剂和酸有相当毒性


我们针对等离子清洗的工艺也已经进行了一定研究,持续改善是诚峰智造企业文化的精髓,我们和国内外同行就Plasma干法清洗工艺一直进行探讨和交流,通力合作朝着Plasma尖端技术前进。


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