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等离子清洗机,清洗可分为两个过程

        等离子清洗机一般是利用激光、微波、电晕放电、热电离、弧光放电等多种方式将气体激发成等离子状态。
  在等离子清洗应用中,主要是利用低压气体辉光等离子体。一些非聚合性无机气体(Ar2、N2、H2、O2等)在高频低压下被激发,产生含有离子、激发态分子,自由基等多种活性粒子。一般在等离子清洗中,可把活化气体分为两类,一类为惰性气体的等离子体(如Ar2、N2等);另一类为反应性气体的等离子体(如O2、H2等)。
  等离子产生的原理如下:给一组电极施以射频电压(频率约为几十兆赫兹),电极之间形成高频交变电场,区域内气体在交变电场的激荡下,产生等离子体。活性等离子对被清洗物进行表面物理轰击与化学反应双重作用,使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质,经过抽真空排出,而达到清洗目的。
  等离子清洗机清洗过程可分为哪两个过程:
  1、有机物的去除
  首先是利用等离子的原理将气体分子激活,然后利用O,O3与有机物进行反应,达到将有机物排除的目的。
  2、等离子表面活化
  首先是利用等离子的原理将气体分子激活,然后利用O,O3含氧官能团的表面活化作用,来改善材料的粘着性和湿润性能。

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