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真空式等离子处理系统33

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何经理
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  • 产品说明

名称(Name)

真空式等离子处理系统

型号(Model)

CRF-VPO-8L

控制系统(Control system)

PLC+触摸屏

电源(Power supply)

380V/AC,50/60Hz,3kw

射频电源功率(RF Power)

500W/13.56MHz

容量(Volume)

80L(Option)

层数(Electrode of plies)

8(Option)

有效处理面积(Area)

400(L)*300(W)(Option)

气体通道(Gas)

两路工作气体可选: Ar、N2、H2、CF4、O2



超大处理空间,提升处理产能,采用PLC+触摸屏控制系统,精确的控制设备运行。


可按照客户要求定制设备腔体容量和层数,满足客户的需求。


保养维修成本低,便于客户成本控制。


高精度,快响应,良好的操控性和兼容性,完善的功能和专业的技术支持。


用 途:适用于印制线路板行业,半导体IC领域,硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业,航空工业等。印制线路板行业:高频板表面活化,多层板表面清洁、去钻污,软板、软硬结合板表面清洁、去钻污,软板补强前活化。半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗;硅胶、塑胶、聚合体领域:硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化。


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